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[发明专利]一种透明基线路板的制备工艺优化方法及系统-CN202211648551.X在审
发明人：黎杰;李在平;马明海;李晓科 -专利权人：深圳市威能照明有限公司
申请日： 2022-12-21 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本发明涉及数据处理技术领域，提供了一种透明基线路板的制备工艺优化方法及系统，所述方法包括：获取缓冲层镀膜通道和蚀刻层镀膜通道；输入缓冲层镀膜通道进行镀膜，生成第二状态透明玻璃基板，蚀刻镀膜生成第三状态透明玻璃基板；粘合生成第四状态透明玻璃基板，生产预测成品概率；优化获取曝光工艺控制参数优化结果和蚀刻工艺控制参数优化结果，初始化曝光加工通道，加工获取透明基线路板，解决透明基线路板的制备工艺优化的操作难度大，加工成品的品质不稳定，无法有效保证成品的合格率技术问题，实现提升制备工艺优化的可操作性，降低透明基线路板的制备工艺优化的操作难度，提高加工成品的品质的稳定性，有效保证成品的合格率技术效果。
一种透明基线制备工艺优化方法系统

[发明专利]一种用于真空镀膜的智能控制方法及系统-CN202310092218.3有效
发明人：沈中良 -专利权人：鸿密智能科技（浙江）有限公司
申请日： 2023-02-10 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于真空镀膜的智能控制方法及系统，涉及智能控制技术领域，方法包括：提取历史镀膜记录所包括的具备时序特征的多次镀膜信息组中的目标镀膜信息组，并分析组建目标控制参数集，依次提取目标控制参数集中的第一、第二、第三参数，在通过智能控制模型中温度优化单元、真空度优化单元、气体流量优化单元，分别获得镀膜温度的目标最优温度、目标最优真空度、目标最优气体流量，并对三者进行仿真验证，并确定目标最优控制方案，根据目标最优控制方案进行真空镀膜的智能控制，本发明解决了现有技术中对真空镀膜过程的控制不佳，使得最终真空镀膜效果差的技术问题，实现了对真空镀膜过程的合理化精准控制，进而提高真空镀膜效果。
一种用于真空镀膜智能控制方法系统

[实用新型]一种用于真空磁控溅射镀膜的样片腔装置及镀膜参数优化系统-CN201920639426.X有效
发明人：杨馥羽;李中泉;张沛 -专利权人：中国科学院高能物理研究所
申请日： 2019-05-07 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于真空磁控溅射镀膜的样片腔装置及镀膜参数优化系统。本实用新型首先将样片腔装置放置于真空腔室内，采用磁控溅射镀膜方法在样片腔装置上镀铌；然后根据固定在所述样片腔装置内的铜样片镀膜确定目标铜腔内表面各位置处对应的镀膜信息，再结合所述镀膜信息优化镀膜参数。本实用新型通过该样片腔装置进行镀膜实验并对样片进行表征分析，能够优化各个位置处的镀膜参数，为后续整个目标铜腔基底的镀膜提供经验指导。
一种用于真空磁控溅射镀膜样片装置参数优化系统

[发明专利]一种光学薄膜生产工艺优化方法、设备及存储介质-CN202310094416.3在审
发明人：原清海;孙顺文;彭源 -专利权人：上海米蜂激光科技有限公司
申请日： 2023-02-03 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： G06F30/27 文献下载
摘要：本申请提供一种光学薄膜生产工艺优化方法、设备及存储介质，涉及大数据分析及工艺优化技术领域。所述光学薄膜生产工艺优化方法，包括：获取影响镀膜质量的工艺数据，所述工艺数据至少包括镀膜过程参数、工艺参数和膜系质量参数；对所述工艺数据进行数据分析，确定影响镀膜质量的关键工艺数据；利用所述关键工艺数据进行模型训练，获得工艺优化的计算模型，本申请提供的光学薄膜生产工艺优化方案，提高了镀膜工艺效率，节约了工艺成本，提升了光学薄膜生产工艺精度。
一种光学薄膜生产工艺优化方法设备存储介质

[发明专利]反射式磁控溅射镀膜厚度监测装置、镀膜机及方法-CN202111059182.6在审
发明人：李青;李赫然;罗靖;任书明;王升;刘春元;向鸿;吕先跃 -专利权人：四川旭虹光电科技有限公司;东旭光电科技股份有限公司
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种反射式磁控溅射镀膜厚度监测装置、镀膜机、监测方法及镀膜方法，包括监测片，以及安装在镀膜机门板上的反射率测量机构，所述镀膜机门板上设置有供所述反射率测量机构测量所述监测片的反射率的测量孔。通过设计监测片，在单层镀膜完成后对该监测片进行反射率光谱测量，得到该层镀膜实际厚度，从而可以及时地在单层镀膜完成后进行补镀或后续镀层优化，从而实现镀膜过程中的膜层优化和改善，有效提高镀膜的稳定性，降低废品率，提高镀膜质量。
反射磁控溅射镀膜厚度监测装置方法

[发明专利]一种采用磁控溅射技术处理聚酯材料汽车内饰阻燃的工艺方法-CN202010930438.5在审
发明人：程贤生 -专利权人：苏州贤辉新纺织科技有限公司
申请日： 2020-09-07 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本申请公开了一种采用磁控溅射技术处理聚酯材料汽车内饰阻燃的工艺方法，所述磁控溅射技术处理聚酯材料汽车内饰阻燃的工艺方法包括如下步骤：靶材挑选，将欲沉积的混合阻燃材料制成板材靶，距靶定距离；基片清洁，使基片镀膜面清洁无脏污备用；镀膜室预处理，先向真空腔内充气一段时间，然后升钟罩，装好基片，清理镀膜室；气体制备，充入工艺气体；镀膜、优化，在阴极和阳极间施加电压，两极间即产生辉光放电进行镀膜，对镀膜进行优化，包裹在移动的工件表面，提高沉积率；结束、打包，关闭直流或射频电源，关闭氩气阀门，将镀膜完成的工件打包封存，本申请提供了一种具有优化功能将阻燃材料在聚酯材料汽车内饰镀膜的工艺方法。
一种采用磁控溅射技术处理聚酯材料汽车阻燃工艺方法

[发明专利]冲压模具类钻碳镀膜优化参数的方法及应用其的冲压模具-CN201510624903.1有效
发明人：简明德;林栢村 -专利权人：高雄第一科技大学
申请日： 2015-09-28 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种冲压模具类钻碳镀膜优化参数的方法及应用其的冲压模具，镀膜优化参数的方法包含：进行田口参数选择，定义数个功能性质需求、选择适当的镀膜参数作为因子，选取多个水平；以田口实验法获得各个因子在不同水平下的功能量化数据；利用田口实验法计算各组参数的信噪比，并由信噪比推论出其最佳组合，再进行其参数优化确认实验，以得到优化镀膜参数，并进行各性质的变异数分析算出各因子的贡献度，由各贡献度决定因子间影响程度；进行参数优化实验并由参数优化实验进行多次的反复实验本发明能够降低成形加工过程中在工具表面所承受的剪切应力，并同时镀膜具有较佳的附着性及机械性、耐腐蚀性。
冲压模具参数优化镀膜优化镀膜参数田口实验贡献度类钻碳信噪比成形加工过程参数选择工具表面功能性质剪切应力量化数据耐腐蚀性最佳组合变异数附着性机械性镀膜应用检测重复优化分析

[发明专利]一种衍射光学器件表面增透膜的镀膜方法-CN202110687482.2有效
发明人：柳存定;黎明;杨伟 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2021-06-21 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： G02B1/115 文献下载
摘要：本发明公开了一种衍射光学器件表面增透膜的镀膜方法，通过优化原子层沉积镀膜参数，获得衍射光学器件微结构表面共形生长的膜层镀膜工艺；以优化的镀膜参数，在光学抛光的测试基板上分别镀制高折射率膜层和低折射率膜层，利用椭圆偏振光谱方法确定膜层的光学常数和厚度，确定膜层厚度和原子层沉积镀膜周期的关系；根据膜层的光学常数设计增透膜，计算增透膜中每个膜层的原子层沉积镀膜周期数；根据增透膜的结构优化设计衍射光学器件微结构本发明提出的镀膜方法，可以有效提高衍射光学器件的光学透过率。
一种衍射光学器件表面增透膜镀膜方法

[发明专利]一种用于真空磁控溅射镀膜的样片腔装置及其加工方法-CN201910374092.2在审
发明人：杨馥羽;李中泉;张沛 -专利权人：中国科学院高能物理研究所
申请日： 2019-05-07 - 公布日： 2019-08-02 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于真空磁控溅射镀膜的样片腔装置及其加工方法。本发明首先将样片腔装置放置于真空腔室内，采用磁控溅射镀膜方法在样片腔装置上镀铌；然后根据固定在所述样片腔装置内的铜样片镀膜确定目标铜腔内表面各位置处对应的镀膜信息，再结合所述镀膜信息优化镀膜参数。本发明通过该样片腔装置进行镀膜实验并对样片进行表征分析，能够优化各个位置处的镀膜参数，为后续整个目标铜腔基底的镀膜提供经验指导。
镀膜铜腔真空磁控溅射镀膜镀膜参数位置处磁控溅射镀膜表征分析信息优化内表面真空腔基底腔内加工室内优化

[发明专利]一种分光自聚焦透镜镀膜方法及Glens透镜-CN201910183753.3在审
发明人：张红菊;刘政 -专利权人：飞秒光电科技（西安）有限公司
申请日： 2019-03-12 - 公布日： 2019-06-07 - 主分类号： G02B6/32 文献下载
摘要：本发明涉及分光自聚焦透镜镀膜方法及Glens透镜，包括以下方法：1)确定膜系结构：根据Glens透镜的折射率分布及技术需求，确定高折射率材料H和低折射率材料L，进而确定初步膜系结构；2)优化膜系结构：根据技术需求和初步膜系结构，利用TFC软件，计算初步膜系结构的等效折射率，对初步膜系结构进行优化，得到优化膜系结构；3)根据优化的膜系结构采用IAD离子束辅助沉积法在Glens透镜的出光面上镀膜。本发明解决了现有的分光膜镀膜方式所存在的问题，本发明为Glens透镜提供了一种镀膜方法，工艺简单，稳定性高。
膜系结构透镜镀膜自聚焦透镜技术需求优化分光离子束辅助沉积法低折射率材料高折射率材料等效折射率折射率分布镀膜方式分光膜

[发明专利]一种光学薄膜沉积扫描控制方法及系统-CN201610272054.2有效
发明人：王震;张清华;吴倩;罗晋;卫耀伟;潘峰;唐明;刘志超;郑轶;李树刚;张哲;欧阳升;汤鹏 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2016-04-28 - 公布日： 2018-09-28 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：所述方法包括：光电探测器将采集到的预设扫描区域内镀膜材料在电子束光斑扫描下熔化或升华时发出的光信号转化为电信号发送到数据处理装置；数据处理装置根据接收到的电信号优化电子束镀膜设备的电子枪发出的电子束光斑在坩埚内的扫描轨迹；电子束镀膜设备控制电子束光斑在坩埚内以优化后的扫描轨迹扫描镀膜材料，以使镀膜材料蒸发或升华并沉积在待镀元件表面。本发明实施例有效地提高了镀膜材料蒸发速度的稳定性以及扫描完成后镀膜材料的表面平整度，相对于现有的经验式优化调整方法，可控性更好、效率更高。
镀膜材料沉积电子束光斑光学薄膜扫描控制数据处理装置电子束镀膜扫描扫描轨迹坩埚蒸发熔化表面平整度光电探测器光信号转化升华待镀元件扫描区域设备控制优化调整电子枪可控性有效地预设优化采集

[发明专利]基于图像处理的线路板等离子纳米镀膜质量检测方法-CN202310752342.8有效
发明人：董海青;申鹏 -专利权人：深圳市创智捷科技有限公司
申请日： 2023-06-26 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明涉及图像处理领域，具体涉及基于图像处理的线路板等离子纳米镀膜质量检测方法，显微镜相机采集线路板图像，对线路板优化图像聚类得到多个聚类子块，获取各边缘像素点突变方向并提取左、右邻域像素点集合；计算各边缘像素点左、右邻域像素点集合的结构相似度指数；根据各边缘像素点灰度共生矩阵特征参数得到各边缘像素点的局部显著度；根据各边缘像素点的局部显著度以及结构相似度指数得到各边缘像素点的边缘真实度；计算线路板镀膜均匀性因子，并根据线路板优化图像各镀膜异常子块得到线路板镀膜异常显著因子；根据线路板优化图像特征因子得到线路板镀膜异常检测值，完成线路板镀膜质量的检测。从而实现线路板镀膜质量的精确检测。
基于图像处理线路板等离子纳米镀膜质量检测方法

[发明专利]一种磁控镀膜仪工艺参数的优化方法-CN201910466571.7有效
发明人：杨平;花迎顺 -专利权人：江苏大学
申请日： 2019-05-31 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G05B13/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于遗传算法和BP神经网络的磁控镀膜仪工艺参数的优化方法，包括：步骤一：选取磁控镀膜仪的工艺参数进行试验，得到薄膜的电阻率、透光度以及薄膜厚度；步骤二：以磁控镀膜仪的工艺参数作为输入，以薄膜的电阻率、透光度以及厚度作为输出，构建一个含有多个隐含层的BP神经网络模型；步骤三：利用遗传算法优化BP神经网络初始的权值和阈值，得到最优的个体的权值和阈值；步骤四：将步骤三中得到的最优个体的权值和阈值赋值给BP神经网络模型，用步骤一的样本训练BP神经网络；步骤五：再次使用遗传算法优化磁控溅射镀膜仪的工艺参数，其中，使用步骤四训练得到的神经网络的预测输出构建适应度函数；本发明能够快速精确地对磁控溅射法镀膜工艺参数优化
一种镀膜工艺参数优化方法

[发明专利]一种配备有开孔挡板的真空镀膜机系统-CN201510564712.0在审
发明人：郭春;李斌成;孔明东 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2015-09-08 - 公布日： 2015-12-02 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开一种配备有开孔挡板的真空镀膜机系统，真空镀膜过程中，为优化薄膜分布，光学元件在镀膜机内做旋转运动，使得光学元件上任意位置处膜料沉积角均具有较宽的分布范围，而且不同位置上膜料沉积角分布范围存在明显差异本发明在蒸发或溅射源与光学元件间放置开孔挡板，真空镀膜过程中，膜料穿过开孔挡板沉积到光学元件上。通过优化挡板的开孔形状，实现对光学元件上膜料沉积角分布控制，降低膜料沉积角及其分布范围，并且校正光学元件上薄膜厚度非均匀性，提高薄膜性能。与传统的真空镀膜相比，本发明采用开孔挡板设计能同时优化光学元件上薄膜膜料沉积角和厚度均匀性。
一种配备有开孔挡板真空镀膜系统

[发明专利]一种基于LSTM和NSGA-Ⅱ对PECVD镀膜工艺的多参数优化方法-CN202210142193.9在审
发明人：杜广煜;陈志立;梁帅;刘宇泰;司文;李全伟 -专利权人：东北大学
申请日： 2022-02-16 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：本发明公开一种基于LSTM和NSGA‑Ⅱ对PECVD镀膜工艺的多参数优化方法，方法首先选择PECVD镀膜工艺中的参数进行镀膜实验并对结果进行表征，收集数据构成数据集；然后对数据集进行预处理，并采用预处理后的数据LSTM神经网络进行训练及测试；接着基于训练好的LSTM神经网络，利用NSGA‑Ⅱ算法对工艺参数进行多目标优化；最后根据优化后的结果，按照生产需求选择合适的工艺参数作为最终优化结果。
一种基于 lstm nsga pecvd 镀膜工艺参数优化方法

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