专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种溅方法及溅设备-CN200810097817.X无效
  • 范继良;杨明生;谢金桥;刘涛;王勇 - 东莞宏威数码机械有限公司
  • 2008-05-15 - 2008-09-10 - C23C14/34
  • 本发明提出一种溅方法及溅设备。包括:取来待溅的盘片并将其抽真空至预真空后,将所述盘片旋转传输到第一溅腔。通过第一溅腔在磁场的作用下进行溅,在达到预定设置的膜A时停止溅,并将已溅的盘片旋转传输到第二溅腔,在所述第一溅腔和第二溅腔内盘片被抽真空至高真空。由所述第二溅腔在磁场的作用下将所述已溅的膜继续溅到膜B,所述膜B为预定设置的要溅的总膜,膜B≥膜A,且均为常数。本发明可以使溅后的光盘膜层厚度均匀,同时可以在较低功率、较短时间下溅薄膜,避免了盘片升温而变形,也降低了光盘生产周期。
  • 一种方法设备
  • [发明专利]一种膜制备方法和具有膜的基板-CN202111545334.3在审
  • 胡天佐;宫向宇;王哲;吕亮;单明星 - 长春博信光电子有限公司
  • 2021-12-16 - 2022-03-15 - C03C17/36
  • 本申请公开了一种膜制备方法和具有膜的基板,包括:当离子源的能量满足预设稳定条件时,在离子源产生的离子束流作用下,在基板的表面蒸第一过渡层;当加热至蒸发点,在离子束流的作用下在第一过渡层的表面蒸第一薄膜;关闭离子源,并在第一薄膜的表面蒸第二薄膜,得到膜。基板表面的第一过渡层在离子源产生的离子束流的作用下蒸形成,第一过渡层表面的第一薄膜在离子源产生的离子束流的作用下蒸形成,增强第一过渡层与基板之间、第一薄膜与第一过渡层之间的结合力,由于材料相同,第二薄膜与第一薄膜之间结合牢固,提升膜与基板结合牢固性,且蒸第二薄膜时关闭离子源,可以防止热辐射过大对膜造成影响。
  • 一种制备方法具有
  • [发明专利]密集孔局部铜工艺-CN201110355703.2有效
  • 辜义成;曾志军;曾红 - 东莞生益电子有限公司
  • 2011-11-10 - 2012-04-25 - H05K3/22
  • 本发明提供一种密集孔局部铜工艺,包括如下步骤:步骤1、提供基板,对基板进行开料、内层图形制作、棕化、层压处理及X-RAY打孔;步骤2、在基板上钻铜区域孔;步骤3、铜,其中铜区域孔的孔壁铜至75μm及以上;步骤4、贴干膜盖住铜区域孔,对基板的面铜进行减铜处理;步骤5、在基板上钻非铜区域孔;步骤6、对非铜区域孔及铜区域孔进行镀铜。本发明采用二次钻孔+二次沉铜工艺,改变传统PCB制作中的一次钻孔+沉铜工艺,通过在PCB位置设计局部铜,将元器件工作时产生的高热量,利用铜良好的导热系数,将热量有效传导散发出去,满足未来高端电子产品对局部区域要求散热性能较高的需求
  • 密集局部镀厚铜工艺
  • [发明专利]一种退液可再生循环的件退方法-CN202011026270.1在审
  • 张少强 - 张少强
  • 2020-09-25 - 2021-01-01 - C23F1/30
  • 本发明公开了一种退液可再生循环的件退方法,包括如下步骤:A、退件的清洗前处理;B、退件的退处理:将前处理过后的退件,放入退池中;所述退池中盛装有退液,其包括去离子水、硝酸、氢氟酸、硫酸;C、退液的再生:将退液沉处理后通过萃取剂萃取处理,然后电解回收完成退液的再生。该方法通过退件的预清洗,避免了有机物对退液循环过程的干扰;利用盐酸代替氯化钠沉,多余氯离子采用溶剂萃取方法进行脱除,提高了回收率,并且提高了退液的酸度;利用电解方法回收铜,因而不会带入新的污染,还实现了退液的循环使用,没有难以处理的硝酸根等污染物的外排。
  • 一种退镀液可再生循环银镀件退镀方法
  • [发明专利]一种PCB板局部铜及其制备方法-CN202111070448.7在审
  • 谢祯飏 - 万安裕维电子有限公司
  • 2021-09-13 - 2021-12-10 - H05K3/02
  • 本发明提供了一种PCB板局部铜及其制备方法,制备方法包括如下步骤:将钻孔处理的PCB基板进行化学沉铜,得到孔内沉积铜的PCB基板;将孔内沉积铜的PCB基板进行掩体后顺次进行薄铜、铜,得到PCB板局部铜。本发明的局部铜颗粒细小,排列紧密,无漏现象;板面铜均匀,无边缘效应,提高了铜层的光亮度和附着力,镀铜均匀性达到99%以上;本发明的局部铜方法极大的减少了铜的消耗,提高了PCB板的散热性能,降低了材料成本;可以根据实际需要在PCB板的任意部位进行局部铜,提高了PCB板局部铜的成功率和效率。
  • 一种pcb局部镀厚铜及其制备方法
  • [发明专利]一种铝合金导体表面层的刷方法-CN200810232681.9有效
  • 马利民 - 中国西电电气股份有限公司
  • 2008-12-09 - 2009-06-10 - C25D5/04
  • 本发明涉及高压电力设备制造领域,公开了一种铝合金导体表面层的刷方法。它包括以下步骤:(1)铝合金导体表面擦拭、冲洗;(2)在环境温度15~28℃下,一次刷锌、退锌再二次刷锌;(3)在环境温度25~38℃下,用刷铜笔蘸取镀铜液进行刷铜,其中刷铜笔和铝合金导体的接触面电流密度为3~6A;(4)在环境温度15~38℃下,用刷笔蘸取预镀银液进行预刷,冲洗后,再用刷笔蘸取镀银液进行刷,其中刷笔和铝合金导体的接触面电流密度为2~6A,最后冲洗即可。
  • 一种铝合金导体表面方法
  • [发明专利]一种解决合金键合丝易氧化问题的方法-CN201710224636.8在审
  • 张俊彦;张兴凯;周妍;王富国 - 中国科学院兰州化学物理研究所
  • 2017-04-07 - 2017-08-18 - H01L21/48
  • 本发明公开了一种解决合金键合丝易氧化问题的方法,具体步骤为对键合丝或合金键合丝表面进行除油和清洗;将清洗后的键合丝或合金键合丝浸入化学浸液中进行施;施完成后,对键合丝或合金键合丝表面进行冲洗和吹干;化学浸液包括如下重量份数的组分金属盐0.5‑10份,络合剂10‑60份,pH调节剂0.1‑10份,光亮剂0‑0.2份,水100份;金属盐选自氯化金、四氯金酸、金氰化钾、氯铂酸钾、二氨二亚硝酸铂、氯化钯该方法工艺简单,所用化学浸液不含传统还原剂,液稳定,成本低,制备的防护性镀层具有出色的抗氧化性能,可显著延长基键合丝的储存寿命,改善其键合性能,解决其易氧化问题。
  • 一种解决合金键合丝易氧化问题方法

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