专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]格栅天花的安装结构-CN201320705077.X有效
  • 杜庆广 - 上海西蒙幕墙吊顶板有限公司
  • 2013-11-08 - 2014-06-11 - E04B9/34
  • 本实用新型公开了一种格栅天花的安装结构,包括条和连接件组成,条由横向条和纵向条组成,横向条和纵向条的端部均设有卡扣,横向条和纵向条通过卡扣安装在连接件上,本实用的有益效果是:连接件通过螺栓与吊件固定,相邻的连接件之间可以安装横向条和纵向条,横向条和纵向条的间距可以根据需要调整,条与连接件之间可以自由组装和拆卸,便于维修更换,同时便于施工,适合大范围推广
  • 格栅天花安装结构
  • [发明专利]一种CMP协同计算模型的仿真及优化方法-CN201210581845.5有效
  • 徐勤志;陈岚;方晶晶 - 中国科学院微电子研究所
  • 2012-12-27 - 2013-04-03 - G06F17/50
  • 本发明提供了一种CMP协同计算模型的仿真及优化方法,其仿真步骤包括:获取初始高度;依据所述初始高度,采用CMP压力分布精确计算模型获取研磨垫和表面间的压力分布;向CMP协同计算模型中输入至少包括获得所述研磨垫和表面间的压力分布的模型参数,其中,所述CMP协同计算模型由所述CMP压力分布精确计算模型和CMP化学反应动力学模型确定;采用所述CMP协同计算模型并依据所述模型参数进行预定时间段的仿真,得到所述研磨后的高度。该仿真方法从本质上揭示出CMP的工作原理,得到的仿真结果更接近实际,更加准确。此外,该优化方法可辅助工艺快速优化工艺参数。
  • 一种cmp协同计算模型仿真优化方法
  • [实用新型]一种全覆盖背发射结的N型晶硅太阳电池-CN201320371656.5有效
  • 田莉 - 湖南工程学院
  • 2013-06-26 - 2013-11-27 - H01L31/0224
  • 本实用新型公开了一种全覆盖背发射结的N型晶硅太阳电池。本实用新型包括单晶或者多晶硅片,以及其上印刷的银正电极,在硅片背面印刷有背主线,在背主线上印刷有银背主线或银背主线,银背主线或银背主线印刷在背主线内;在背主线以外的硅片背面上印刷有背电极,背电极边缘与背主线边缘重叠,使烧结后的硅片背面上全部覆盖有背发射结。本实用新型解决了由于银背主线或银背主线直接印刷在硅片上烧结后造成的发射结漏电通道问题,也解决了一次性全覆盖印刷背发射结时,其上印刷银背主线或银背主线导致的银背主线或银背主线与背电极接触牢固度不达标的问题
  • 一种覆盖发射型晶硅太阳电池
  • [发明专利]CMP化学反应动力学仿真及版图设计优化方法-CN201210581850.6有效
  • 徐勤志;陈岚 - 中国科学院微电子研究所
  • 2012-12-27 - 2013-04-03 - G06F17/50
  • 本发明提供了一种CMP化学反应动力学仿真方法及版图设计优化方法。所述CMP化学反应动力学仿真方法,包括:基于CMP化学反应动力学模型,优化铝CMP的研磨液中各组分浓度;基于所述CMP化学反应动力学模型和优化后的所述CMP的研磨液中各组分浓度,对进行预定时间段的仿真,预测表面高度的变化量;基于预测得到的所述表面高度的变化量,获取表面的仿真金属碟形值和仿真介质侵蚀值。该仿真方法的基础模型从化学反应机理上对HKMG工艺中的CMP进行了合理解释和表面高度实时仿真,从本质上揭示出了CMP的工作原理。
  • 铝栅cmp化学反应动力学仿真版图设计优化方法
  • [实用新型]一种全覆盖背电场的P型晶硅太阳电池-CN201320371982.6有效
  • 田莉 - 湖南工程学院
  • 2013-06-26 - 2013-11-27 - H01L31/0224
  • 本实用新型涉及一种全覆盖背电场的P型晶硅太阳电池。本实用新型包括单晶或者多晶硅片,以及其上印刷的银正电极,其特点是:在硅片背面印刷有背主线,在背主线上印刷有银背主线或者银背主线,银背主线或者银背主线印刷在背主线内;在背主线以外的硅片背面上印刷有背电极,背电极边缘与背主线边缘重叠,使烧结后的硅片背面上全部覆盖有背电场。本实用新型解决了背电场漏电通道和背主线位置存在背电场缺失的问题,减少了背表面载流子复合,提高了太阳能电池的光电转换效率。
  • 一种覆盖电场型晶硅太阳电池
  • [发明专利]一种双面太阳能电池背的分步印刷方法-CN201911257364.7在审
  • 石强;林纲正;陈刚 - 浙江爱旭太阳能科技有限公司
  • 2019-12-10 - 2020-05-08 - H01L31/0224
  • 本发明公开一种双面太阳能电池背的分步印刷方法,其特征在于:包括印刷步骤、印刷步骤、正反面银浆料印刷步骤、烧结步骤,印刷步骤为丝网印刷,在双面太阳能电池背面区域印刷厚度低的主浆并进行烘干,印刷步骤为丝网印刷,在双面太阳能电池背面区域印刷硅接触性能和高宽比好的副浆并进行烘干。本发明通过背的二次印刷方法,解决了传统双面太阳能电池硅接触差、低高宽比、、导电性差、虚焊等问题,从而提高双面太阳能电池的正面和背面的转换效率和组件的可靠度。
  • 一种双面太阳能电池分步印刷方法

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