专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种晶体管器件及其制造方法-CN200910089793.8无效
  • 赵柏儒;付跃举;袁洁;许波;朱北沂;李俊杰;金爱子;曹立新;邱祥冈 - 中国科学院物理研究所
  • 2009-07-24 - 2011-02-02 - H01L29/868
  • 本发明提供一种叠层结构氧化物p-i-n结和一种叠层结构氧化物双极晶体管及其制造方法,该晶体管包括:氧化物单晶衬底;在衬底上形成的第一导电类型的结构氧化物层;在第一导电类型的结构氧化物层的至少一部分上形成的两个分隔开的结构氧化物铁电体势垒层;在该两个结构氧化物铁电体势垒层上分别形成的第二导电类型的结构氧化物层;在该两个分隔开的第二导电类型氧化物层上分别形成的第一和第二金属电极;在未被结构氧化物铁电体势垒层和第二导电类型的结构氧化物层占据的第一导电类型的结构氧化物层上形成的第三金属电极
  • 一种晶体管器件及其制造方法
  • [发明专利]氧化物稀磁半导体/铁电体异质结构及其制备方法-CN200810031141.4无效
  • 王金斌;何春;钟向丽;周益春;郑学军 - 湘潭大学
  • 2008-04-24 - 2008-09-10 - H01L43/00
  • 本发明公开了一种氧化物稀磁半导体/铁电体异质结构,由如下三层结构组成:底层为衬底,中层为氧化物稀磁半导体薄膜,上层为铁电体薄膜。所述的衬底为Si、蓝宝石、SrRuO3或其它氧化物衬底;所述的氧化物稀磁半导体薄膜为宽禁带氧化物ZnO、TiO2或SnO2薄膜,掺杂有过渡金属元素Mn、Fe、Co、Ni或Cr;所述的铁电体薄膜为锆酸铅、酸钕铋或酸锶钡薄膜。本发明还公开了2种所述氧化物稀磁半导体/铁电体异质结构的制备方法:脉冲激光沉积法和溶胶凝胶法。所述的氧化物稀磁半导体/铁电体异质结构在外加电场的作用下可对其铁磁性进行非挥发性调制,能广泛应用于电子计算机领域、自旋电子学领域及非挥发性存储器领域。
  • 氧化物半导体铁电体结构及其制备方法

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