专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种金属镍辅助件表面快速镍的方法-CN201710393546.1在审
  • 袁伟;潘保有;罗健;邱志强;黄诗敏;闫志国;谭振豪;汤勇 - 华南理工大学
  • 2017-05-27 - 2017-10-13 - C23C18/36
  • 本发明公开了一种金属镍辅助件表面快速镍的方法。该方法将预清洗后的金属镍置于液中,调整液的温度和PH值,待金属镍表面产生气泡时,将件紧密贴合于金属镍的表面2‑10min后,取出金属镍,件在液中继续进行快速镍。本发明方法中驱动镍反应进行的电动势为金属镍和件之间的电势差,不需额外消耗大量的电能,件不需经过粗化、敏化和活化等化学处理,十分便捷、经济,镍效率高;所得件表面镍颗粒间孔隙小,镍层均匀、完整、光洁,与件结合牢固,对非颗粒状的金属和非金属材料均可完成镍,有利于工业化生产。
  • 一种金属辅助表面快速方法
  • [发明专利]一种退除金属镉层的退液及其退方法-CN202111515019.6在审
  • 周晓荣;白建军 - 四川兴荣科科技有限公司
  • 2021-12-13 - 2022-07-19 - C23F1/44
  • 本发明涉及化学退技术领域,IPC分类号为C23G,具体涉及一种退除金属镉层的退液及其退方法。所述一种退除金属镉层的退液,其制备原料,按重量百分比计,包括:硅氧烷类化合物2%‑4%、胺类化合物3%‑5%、盐类化合物7%‑10%、水补足余量至100%。本发明通过将硅氧烷类化合物、胺类化合物、盐类化合物加入水中搅拌,混合后制备得到一种退除金属镉层的退液,将具有镉层的金属件浸入退液中,翻动件,使工件没入退液中,至镀层退尽,用水清洗具有镉层的金属件,本发明提供的一种退除金属镉层的退液可很好的去除铝、铁、铜基材的金属镉层,适用于多种基材,退镉效果好,且金属基材表面没有被腐蚀,不伤金属基材。
  • 一种金属镀镉层退镀液及其方法
  • [发明专利]金属件及其制备方法-CN201510472394.5在审
  • 杨光明 - 广东欧珀移动通信有限公司
  • 2015-08-04 - 2015-11-18 - C23C28/02
  • 本发明公开一种金属件包括金属基材以及依次设置在所述金属基材上的化学镍层、半光镍层和酸铜层。本发明的金属件的层间电位差较高,耐腐蚀性能好,且具有超高的金属质感。本发明还公开一种金属件的制备方法,包括如下步骤:提供或制备金属基材;在所述金属基材上制化学镍层;在所述化学镍层上制半光镍层;在所述半光镍层上制酸铜层,得到结构为金属基材/化学镍层/半光镍层/酸铜层的金属件本发明的金属件的制备方法制作的金属件的金属质感好,耐腐蚀性能高。
  • 金属及其制备方法
  • [发明专利]一种蒸设备及蒸方法-CN201611131587.5有效
  • 李晓虎;王路 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2016-12-09 - 2018-12-21 - C23C14/04
  • 本发明提供一种蒸设备及蒸方法,利用支撑台依次水平承载金属掩膜板和待蒸基板,通过在金属掩膜板的下方与金属掩膜板的非蒸区相对应的位置设置吸附装置,以吸附金属掩膜板的下表面,吸附装置可以向金属掩膜板施加竖直向下的作用力,增大金属掩膜板与支撑台之间的摩擦力。通过在待蒸基板上压覆盖板,借助盖板的重力对待蒸基板施加压力,增大待蒸基板与金属掩膜板之间的摩擦力。在蒸过程中,当支撑台转动时,可以避免金属掩膜板与支撑台间的相对运动,同时,也可以避免待蒸基板与金属掩膜板间的相对运动,提高金属掩膜板与待蒸基板的对位精度,使点源蒸材料能够准确蒸到待蒸基板上,
  • 一种设备方法
  • [发明专利]一种塑胶制品表面局部方法-CN201910852667.7有效
  • 刘志锋;费栋良 - 东莞市极瑞电子科技有限公司
  • 2019-09-10 - 2022-04-05 - C25D5/02
  • 本发明公开了一种塑胶制品表面局部方法,包括如下步骤:S1、塑胶表面金属化:将经过预处理的塑胶制品表面金属化,使整个表面镀上第一金属导电层;S2、激光雕刻分区:利用激光在塑胶制品表面雕刻出待区的轮廓,并在轮廓处露出塑胶制品的底材,使待区与非区分区并电性隔离;S3、待导电层并溶解非区导电层:将塑胶制品表面的待区接上电极并通电,在待区镀上第二金属导电层,非区的第一金属导电层溶于液中。本发明通过激光雕刻将已表面金属化的塑胶制品分区并电性隔离,在待区镀上金属层的同时溶解非区的金属层,实现塑胶制品表面局部,不仅满足精密、复杂电路的要求,还能提高局部质量和效率,降低局部镀成本。
  • 一种塑胶制品表面局部方法
  • [发明专利]多层金属层蒸装置及蒸方法-CN202310431952.8在审
  • 周华;李晋湘;张汀;王莉菲;贺中鹤;陈俊宇 - 上海积塔半导体有限公司
  • 2023-04-20 - 2023-07-18 - C23C14/20
  • 本发明提供一种多层金属层蒸装置及蒸方法。多层金属层蒸装置包括:传输腔,传输腔内设置的机械臂包括:晶圆托盘、退火组件及静电吸盘,退火组件用于执行退火,静电吸盘用于将晶圆吸附固定于晶圆托盘表面;蒸腔,位于传输腔的一侧,用于对晶圆进行前段蒸以在晶圆的表面蒸形成第一金属层;退火组件用于对前段蒸后的晶圆进行退火以在第一金属层与晶圆之间形成金属硅化物层;蒸腔还用于对退火后的晶圆进行后段蒸以在第一金属层的表面蒸形成第二金属层。通过对装置的改进,在不增加工艺成本的前提下改善了蒸工艺的质量,增加了金属层与晶圆的粘附性,减少了多层金属层之间的空隙,降低了金属层剥落的风险。
  • 多层金属层蒸镀装置方法
  • [发明专利]多层金属层蒸装置及其蒸方法-CN202310431954.7在审
  • 周华;李晋湘;张汀;曹语盟;石培俊 - 上海积塔半导体有限公司
  • 2023-04-20 - 2023-07-04 - C23C14/24
  • 本发明提供一种多层金属层蒸装置及蒸方法。多层金属层蒸装置包括:传输腔,传输腔内设置的机械臂包括:晶圆托盘、退火组件及固定组件,退火组件用于执行退火,固定组件用于将晶圆夹持固定于晶圆托盘表面;蒸腔,位于传输腔的一侧,用于对晶圆进行前段蒸以在晶圆的表面蒸形成第一金属层;退火组件用于对前段蒸后的晶圆进行退火以在第一金属层与晶圆之间形成金属硅化物层;蒸腔还用于对退火后的晶圆进行后段蒸以在第一金属层的表面蒸形成第二金属层。通过对装置的改进,在不增加工艺成本的前提下改善了蒸工艺的质量,增加了金属层与晶圆的粘附性,减少了多层金属层之间的空隙,降低了金属层剥落的风险。
  • 多层金属层蒸镀装置及其方法
  • [发明专利]通过无电镀形成金属薄膜的敷物及其制造方法-CN200880001381.8有效
  • 矢部淳司;伊藤顺一;日角义幸;关口淳之辅;伊森彻 - 日矿金属株式会社
  • 2008-07-18 - 2009-11-11 - C23C18/18
  • 本发明涉及一种敷物以及该敷物的制造方法。所述敷物是能够通过无电镀而形成超微细配线的、具有以薄且均匀的膜厚形成的籽晶层的敷物,而且,在形成籽晶层前能够消除形成阻挡层和催化剂金属层这二层的烦杂。本发明的敷物,是在基材上形成具有无电镀的催化活性的金属(A)与能够与无电镀液中含有的金属离子置换敷的金属(B)的合金薄膜,并在该合金薄膜上通过无电解置换和还原而形成了金属薄膜的敷物,该具有催化活性的金属(A)与该能够置换敷的金属(B)的合金薄膜,是使该金属(A)为5原子%~40原子%的组成,该通过无电解置换和还原而形成的金属薄膜是厚度为10nm以下、电阻率为10μΩ·cm以下的金属薄膜。优选所述金属(B)对金属薄膜的金属具有阻挡功能。
  • 通过电镀形成金属薄膜镀敷物及其制造方法
  • [发明专利]通过无电镀形成金属薄膜的敷物及其制造方法-CN200880001378.6有效
  • 矢部淳司;伊藤顺一;日角义幸;关口淳之辅;伊森彻 - 日矿金属株式会社
  • 2008-07-18 - 2009-11-11 - C23C18/18
  • 本发明涉及一种敷物以及该敷物的制造方法。所述敷物是能够通过无电镀而形成超微细配线的、具有以薄且均匀的膜厚形成的籽晶层的敷物,而且,在形成籽晶层前能够消除形成阻挡层和催化剂金属层这二层的烦杂。本发明的敷物,是在基材上形成具有无电镀的催化活性的金属(A)与能够与无电镀液中含有的金属离子置换敷的金属(B)的合金薄膜,并在该合金薄膜上通过无电解置换和还原而形成了金属薄膜的敷物,该具有催化活性的金属(A)与该能够置换敷的金属(B)的合金薄膜,是使该金属(A)为5原子%~40原子%的组成,该通过无电解置换和还原而形成的金属薄膜是厚度为10nm以下、电阻率为10μΩ·cm以下的金属薄膜。优选所述金属(B)对金属薄膜的金属具有阻挡功能。
  • 通过电镀形成金属薄膜镀敷物及其制造方法
  • [发明专利]掩膜、蒸装置、蒸方法及有机EL显示装置的制造方法-CN201680083276.8有效
  • 西田光志;岸本克彥 - 鸿海精密工业股份有限公司
  • 2016-07-22 - 2021-05-11 - C23C14/04
  • 提供一种在蒸材料蒸后,可以统一且以确实短的时间执行蒸掩膜的分离的蒸方法、蒸掩膜及蒸装置。包括:形成蒸掩膜(1)的步骤(S1),所述蒸掩膜(1)具有至少一部分由强磁性体构成的金属层(金属支承层);磁化金属层的步骤(S2),通过对蒸掩膜(1)的金属层施加电磁场来磁化金属层;吸附步骤(S3),被蒸基板(2)与蒸掩膜(1)的位置对准后,使电磁石(3)中间夹住被蒸基板(2)吸附蒸掩膜(1);堆积步骤(S4),在蒸掩膜(1)的对置侧配置蒸源(5),从蒸源(5)蒸发蒸材料,在被蒸基板(2)上堆积蒸材料;以及分离步骤(S5),通过使电磁石(3)产生排斥蒸掩膜(1)的磁场,从蒸掩膜(1)分离电磁石(3)及被蒸基板(2)。
  • 蒸镀掩膜装置方法有机el显示装置制造

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