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[发明专利]在抛光相邻导电层的堆栈期间的轮廓控制-CN202180015802.8在审
发明人：许昆;H·Q·李;B·切里安;D·M·盖奇 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-06-07 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：在基板上抛光相邻导电层的堆栈期间，一种原位涡流监测系统测量特征值序列。重复地从特征值序列重复地计算抛光速率，对于初始时段，使用第一控制算法基于当前抛光速率重复地计算对一或多个抛光参数的一或多次调整，检测抛光速率的变化，此变化满足指示底层导电层的暴露的至少一个第一预定标准，并且对于检测到此抛光速率的变化之后的后续时段，使用不同的第二控制算法基于此抛光速率计算对一或多个抛光参数的一或多次调整。
抛光相邻导电堆栈期间轮廓控制

[实用新型]碳化硅抛光液重复回收系统-CN202320458534.3有效
发明人：林义复;林育仪;张炜国 -专利权人：通威微电子有限公司
申请日： 2023-03-10 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： B24B57/00 文献下载
摘要：本实用新型的实施例提供了一种碳化硅抛光液重复回收系统，涉及碳化硅抛光技术领域，该碳化硅抛光液重复回收系统，包括一次抛光液桶、多个二次抛光液桶和多个抛光机，在实际抛光时，首先向一次抛光液桶中注入适用于抛光的一次抛光液，通过第一输送管向头部的抛光机提供一次抛光液，该抛光机利用一次抛光液完成抛光作业，所产生的二次抛光液通过回收管进入二次抛光液桶，再通过第二输送管流向下一个抛光机，该抛光机利用二次抛光液完成抛光作业，以此类推相较于现有技术，本实用新型提供的碳化硅抛光液重复回收系统，能够实现对抛光液的回收利用，降低制造成本和废液排放。
碳化硅抛光重复回收系统

[实用新型]一种可以重复使用的化学机械抛光研磨垫组件-CN202121872962.8有效
发明人：李玉杰 -专利权人：昂士特科技（深圳）有限公司
申请日： 2021-08-11 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种可以重复使用的化学机械抛光研磨垫组件，通过在抛光盘的外周套设可拆卸的固定圈，并在固定圈上设置承载平板，将抛光垫粘合在承载平板相对抛光板朝向的一面，由此需要更换或卸下抛光盘上的抛光垫时，可将抛光垫随固定圈和承载平板一起从抛光盘上直接拆卸下来进行维护。由此以解决抛光垫更换后不能重复使用的问题，提升抛光垫的使用效率。
一种可以重复使用化学机械抛光研磨组件

[发明专利]一种可重复利用的铝型材抛光液及其制备方法-CN202110498450.8有效
发明人：肖月珍;山本矢志 -专利权人：柏安美创新科技（广州）有限公司
申请日： 2021-05-08 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C23F3/03 文献下载
摘要：本发明涉及一种可重复利用的铝型材抛光液及一种利用可重复利用的铝型材抛光液的铝合金工件的抛光方法。该抛光液由如下质量百分比的原料组成：浓硫酸30‑45%，浓磷酸35‑45%，缓蚀剂0.5‑1.5%，酒石酸1‑3%，余量为水。缓蚀剂由羧甲基纤维素和磺基水杨酸组成。采用的抛光方法为将铝合金工件进行除油，工件水洗后再置于抛光液中抛光处理，经水洗，再经无水乙醇清洗后吹干，得到抛光后的铝合金工件；其中，抛光处理的温度为70‑85℃，抛光时间为120‑160s。采用本申请的抛光液对铝合金工件进行抛光，铝合金工件表面粗糙度和光泽度均较好。铝合金工件的失重率低，几乎不影响铝合金工件的尺寸。使用过的抛光液经化学沉淀除铝离子，去除铝离子的抛光液可再次重复利用。
一种重复利用铝型材抛光及其制备方法

[发明专利]氢氧化钠溶液作为还原剂在晶片抛光过程中的应用及晶片的抛光方法-CN202210794271.3在审
发明人：刘晓亮;古新远;周涛;焦恩见;任殿胜;赵波;高伟 -专利权人：保定通美晶体制造有限责任公司
申请日： 2022-07-07 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明属于晶片加工技术领域，提供了氢氧化钠溶液作为还原剂在晶片抛光过程中的应用及晶片的抛光方法。本发明将吸附垫中心位置施加氢氧化钠溶液后再放入晶片进行抛光。本发明提供的抛光方法能够提高抛光合格率，降低重复返修所产生的成本，降低晶片报废风险，释放因重复返工占用的产能。
氢氧化钠溶液作为还原剂晶片抛光过程中的应用方法

[发明专利]一种小尺寸木质异形件的批量抛光方法-CN201811461972.5有效
发明人：苏子林;赵万胜 -专利权人：鲁东大学
申请日： 2018-12-03 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： B24B31/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种小尺寸木质异形件的批量抛光方法，属于机械加工技术领域。本发明利用柔性包裹刷包裹被抛光件，在抛光机中进行批量抛光，使得被抛光件不直接互相接触，能够避免因剧烈冲击、碰撞和摩擦，出现裂纹和局部碎裂。所述柔性包裹刷包含结构相同的条刷（1）和条刷（2），可柔性弯曲，包裹、保护并均匀抛光小尺寸木质异形件，包裹和拆包操作容易，清理方便，结构简单，制造成本低，可以重复利用。本发明的抛光方法，针对带有很多沟坎和凹陷的异形件，表面抛光效果好，均匀。本发明的抛光方法可批量抛光不同的被抛光件，抛光效率高。本发明的抛光方法利用粉状抛光磨料，不会引起变形、皱缩、裂纹和碎裂；所述粉状抛光磨料可重复利用。
一种尺寸木质异形批量抛光方法

[发明专利]化学机械抛光方法及其设备-CN97113484.7无效
发明人：金荣寿 -专利权人： LG半导体株式会社
申请日： 1997-05-27 - 公布日： 2001-09-19 - 主分类号： B24B39/00 文献下载
摘要：化学机械抛光方法及所用设备，能用有不同特性的多种抛光器进行选择或连续的抛光各种待抛光物，并提高抛光特性，按抛光器的表面状态，即按较粗糙表面到较光滑表面，并按抛光器材料较硬至较弱的顺序，连续或重复设置抛光器以提高抛光速率和抛光均匀性
化学机械抛光方法及其设备

[发明专利]抛光垫、该抛光垫的制造方法及使用该抛光垫的抛光方法-CN201910931497.1有效
发明人：徐章源;安宰仁;尹晟勋;许惠暎;尹钟旭;文寿泳 -专利权人： SKC索密思株式会社
申请日： 2019-09-29 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： B24D11/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种减少抛光基板的缺陷数量的抛光垫、该抛光垫的制造方法及利用该抛光垫的抛光方法，该抛光垫含有在其主链上包含硅烷类重复单元的聚氨酯，通过抛光垫和气相二氧化硅浆抛光的基板具有缺陷为在40个以下的低缺陷特性
抛光制造方法使用

[发明专利]低表面能的化学机械抛光垫-CN200580008352.0有效
发明人：阿巴尼什沃·普拉萨德 -专利权人：卡伯特微电子公司
申请日： 2005-03-14 - 公布日： 2007-03-21 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种包含共聚物的抛光垫基材，其中该共聚物具有至少一种亲水性重复单元及至少一种疏水性重复单元。本发明还提供一种包含聚合物的抛光垫基材，其中该聚合物为具有附在聚合物链上的至少一种亲水性单元及至少一种疏水性单元的改性聚合物。本发明进一步提供一种抛光工件的方法，其包括(i)提供待抛光的工件，(ii)将该工件接触包含本发明抛光垫基材的化学机械抛光系统，及(iii)用抛光系统研磨至少一部分该工件的表面以抛光该工件。
表面化学机械抛光

[发明专利]抛光垫、该抛光垫的制造方法及使用该抛光垫的抛光方法-CN201910931840.2在审
发明人：徐章源;安宰仁;尹晟勋;许惠暎;尹钟旭;文寿泳 -专利权人： SKC株式会社
申请日： 2019-09-29 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： B24B37/22 文献下载
摘要：本发明涉及一种减少抛光基板的缺陷数量的抛光垫、该抛光垫的制造方法及利用该抛光垫的抛光方法，该抛光垫含有在其主链上包含氟化重复单元的聚氨酯，通过所述抛光垫和气相二氧化硅浆抛光的基板具有缺陷为在40个以下的低缺陷特性
抛光制造方法使用

[发明专利]含钨基材的抛光方法-CN200580019842.0有效
发明人：罗伯特·瓦卡西;丹希·卡恩纳;亚历山大·辛普森 -专利权人：卡伯特微电子公司
申请日： 2005-06-10 - 公布日： 2007-05-23 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供一种通过使用包含钨蚀刻剂、钨蚀刻抑制剂及水的组合物来化学－机械抛光含钨基材的方法，其中该钨抛光抑制剂为包含至少一个重复基团的聚合物、共聚物或聚合物共混物，该重复基团包含至少一个含氮杂环、或者叔或季氮原子本发明进一步提供在含钨基材的抛光中尤其有用的化学－机械抛光组合物。
基材抛光方法

[发明专利]抛光液及其制备方法-CN201810917092.8有效
发明人：蒋安国;邓江;钟钦;杨建坤 -专利权人：湖南庄耀光电科技有限公司
申请日： 2018-08-13 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本申请涉及一种抛光液的制备方法，包括以下步骤：将4.5～5重量份的锌盐加入100重量份的水中，于131℃～141℃加热溶解，得到含锌溶液；将含锌溶液静置4小时以上，加热至25℃～30℃，重复过滤，得到滤液；将滤液加入20～35重量份的氧化铈中，间歇搅拌多次，得到抛光液。上述抛光液的制备方法，可制得pH值为5.5～6的抛光液，再通过静置后重复热过滤及多次间歇搅拌等制备过程，使得抛光液中的氧化铈均匀分布，制备出的抛光液对石英玻璃的化学腐蚀作用和机械作用达到一种对等状态，即化学抛光和机械抛光作用相平衡，抛光效果最佳，适用于超精密抛光的石英玻璃的加工要求。
抛光液制备重量份含锌溶液间歇搅拌石英玻璃氧化铈机械抛光作用超精密抛光化学腐蚀化学抛光机械作用加热溶解抛光效果制备过程热过滤重复水中锌盐加热过滤平衡申请加工

[发明专利]晶圆处理方法和装置-CN201811610286.X在审
发明人：崔世勋;具成旻;李昀泽;白宗权 -专利权人：西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请日： 2018-12-27 - 公布日： 2019-04-12 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本发明提供一种晶圆处理方法和装置，晶圆处理方法包括以下步骤：抛光晶圆的切口；抛光晶圆的边缘，重复交替执行抛光晶圆的切口和抛光晶圆的边缘，并以抛光晶圆的边缘结束。根据本发明的晶圆处理方法，通过抛光晶圆的切口和抛光晶圆的边缘重复交替进行，并以抛光晶圆的边缘结束，改善切口角附近的突起去除率，提高切口研磨品质，降低边缘区域降落的颗粒对后续工序的影响，通过上述方法处理晶圆不会降低产能
抛光晶圆晶圆研磨方法和装置晶圆处理装置边缘区域后续工序交替执行晶圆边缘整体研磨作业率突起重复产能去除种晶降落保证

[发明专利]一种石英石抛光镀膜生产线-CN201410614413.9有效
发明人：陈爽;黄硕泉 -专利权人：佛山市思特四通化工有限公司
申请日： 2014-11-03 - 公布日： 2016-11-16 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：石英石抛光镀膜生产线的操作方法，石英石板材为小板，采取固定机架模式用于抛磨石英石板材的抛光盘机构；具有公转转速的大抛光磨盘，其下面带有多个具有自转转速的小抛光磨盘；所述固定机架式抛光镀膜生产线配置多个大抛光磨盘；小抛光磨盘上安装海绵减震垫及羊毛垫抛片；皮带速度2.5米/分钟；大抛光磨盘前滴晶面剂，大抛光磨盘带动小抛光磨盘转动将晶面剂均化，小磨盘在石英石表面高速抛光，第三个和第四个大抛光磨盘重复第一个、第二个大抛光磨盘操作过程；第五个和第六个大抛光磨盘再重复第一个、第二个大抛光磨盘操作过程；第七个大抛光磨盘不加晶面剂，只是将石英石表面继续磨干净。该生产线镀膜、抛光效果、耐磨性好。
一种石英抛光镀膜生产线

[实用新型]便于重复检查的精子网格定位片-CN201820322532.0有效
发明人：单桂华;徐元诚 -专利权人：南通美韦德实验器材有限公司
申请日： 2018-03-09 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： G01N1/31 文献下载
摘要：本申请提供了一种便于重复检查的精子网格定位片，属于细胞生物学类研究技术领域，包括玻璃基板、抛光玻片，抛光玻片粘合在玻璃基板的一面，其特征在于，所述抛光玻片上绘有网格区，所述网格区的四周设有吸水结构；所述抛光玻片上设有盖玻片，所述玻璃基板上沿着抛光玻片的周边设有凹槽，所述凹槽沿封闭形状开设，所述盖玻片呈倒U形设于所述凹槽上。本申请提供的便于重复检查的精子网格定位片，结构简单，使用便捷，对于已经检查过的精子可以利用英文字母和阿拉伯数字标记的大小网格进行精确定位，当需要对特定的精子重复检查时，非常容易找到目标精子。
精子抛光玻片网格玻璃基板定位片网格区重复吸水结构检查盖玻片细胞生物学研究技术领域阿拉伯数字封闭形状英文字母倒U形粘合申请吸收

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