专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]透明导电性基材-CN201180023712.X有效
  • 河添昭造;桥本健司 - 名阪真空工业株式会社
  • 2011-05-11 - 2013-03-06 - H01B5/14
  • 本发明涉及一种在基材的单面或者双面上依次层积透明导电性薄膜透明金属氧化透明导电性基材及其制备方法,所述透明导电性基材的特征在于,该透明金属氧化具有贯通表面和背面的多个微细空孔,该空孔的孔径为相反面侧大于与该透明导电性薄膜邻接面侧,所述透明导电性基材的制备方法的特征在于,通过倾斜蒸镀法,在所述透明导电性薄膜的表面上,形成所述透明金属氧化
  • 透明导电性基材
  • [实用新型]异质结电池-CN202223588555.1有效
  • 李硕;钟观发;吴坚;蒋方丹 - 嘉兴阿特斯技术研究院有限公司
  • 2022-12-29 - 2023-04-14 - H01L31/0224
  • 一种异质结电池,包括晶硅体,依次设置于所述晶硅体表面的本征非晶硅、掺杂透明导电氧化、金属电极,所述异质结电池还包括位于所述透明导电氧化和所述掺杂之间的金属网格。其中,所述金属网格用于辅助载流子的传输,降低横向传输的串阻损失,等效降低透明导电氧化的方阻;因此可以在沉积透明导电氧化时,提高氧的含量来提高光学透射率。
  • 异质结电池
  • [实用新型]太阳能电池-CN200820136652.8无效
  • 黄泳钊;郑博仁;简谷卫;黄导阳 - 北儒精密股份有限公司
  • 2008-12-18 - 2009-12-23 - H01L31/042
  • 一种太阳能电池,包含:一透明的基板、一呈透明状并铺设于该透明基板顶面的第一导电、一铺设于该第一导电顶面的金属氧化、一铺设于该金属氧化顶面的光电转换,及一铺设于该光电转换顶面的第二导电。金属氧化是以透明状并可导电的掺铝氧化锌材料制成,且金属氧化的顶面是蚀刻成尖锐凹凸的形状。通过位于该第一导电顶面并以掺铝氧化锌材料制成的金属氧化,以降低传导电流的阻抗,同时通过金属氧化可蚀刻的特性以于其顶面上蚀刻出可减少光源反射的锯齿形状或角锥形状,提升光电转换效率。
  • 太阳能电池
  • [发明专利]具有夹心式电流阻挡结构的发光二极管-CN201010590655.0有效
  • 潘群峰;吴志强;林科闯;黄少华 - 厦门市三安光电科技有限公司
  • 2010-12-16 - 2011-05-25 - H01L33/14
  • 具有夹心式电流阻挡结构的发光二极管,包括蓝宝石衬底及在其上外延有由n-GaN、有源和p-GaN构成的发光外延;第一透明导电氧化形成于p-GaN之上;透明绝缘定位于第一透明导电氧化上且相对其内缩1~50微米;第二透明导电氧化覆盖透明绝缘并且相对其向外扩展与第一透明导电氧化电学连接;p电极与第二透明导电氧化连接;n电极与n-GaN连接。透明绝缘的“内缩”定位,使第一透明导电氧化中的电流传输方式为“由外向内”具有一定电阻的横向传输,因此电流注入更多地分布于芯片的外环区域并使该区域的发光远大于芯片中央区域,芯片外环区域的光子侧面取出概率较高
  • 具有夹心电流阻挡结构发光二极管
  • [发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置-CN202211742772.3在审
  • 杨依林;康报虹 - 惠科股份有限公司
  • 2022-12-29 - 2023-05-16 - G02F1/1362
  • 本申请公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,制备方法包括提供基板,沉积第一透明金属氧化导电;采用第一道光罩对第一透明金属氧化导电图案化,形成公共电极与透明导电;采用等离子还原性气体对透明导电还原形成底栅;沉积缓冲和有源;采用第二道光罩对有源图案化形成导电沟道;沉积第二透明金属氧化导电;采用第三道光罩对第二透明金属氧化导电图案化形成第一导电和第二导电;采用等离子还原性气体对第一导电和第二导电还原得到源极和漏极;沉积第一钝化与栅极金属;采用第四道光罩对栅极金属图案化形成顶栅。
  • 阵列及其制备方法显示装置
  • [发明专利]导电性层叠体、带图案布线的透明导电性层叠体、以及光学器件-CN201280029923.9有效
  • 藤野望;拝师基希;多田光一郎;坂田义昌 - 日东电工株式会社
  • 2012-06-14 - 2017-12-26 - H01B5/14
  • 本发明的目的在于,抑制在透明导电上形成有金属导电性层叠体中通过蚀刻而去除金属时的透明导电的电阻的升高。导电性层叠体在透明基材(1)的至少一面上依次形成有由至少2透明导电性薄膜形成的透明导电性薄膜层叠体(2)和金属(3)。在透明导电性薄膜层叠体(2)中,最接近金属(3)的第一透明导电性薄膜(21)为金属氧化或含有主金属和1种以上的杂质金属的复合金属氧化,第一透明导电性薄膜以外的透明导电性薄膜(22)为含有主金属和1种以上的杂质金属的复合金属氧化。第一透明导电性薄膜(21)中的杂质金属的含有比例在构成前述透明导电性薄膜层叠体(2)的各透明导电性薄膜中的杂质金属的含有比例之中不为最大,由此可解决上述课题。
  • 导电性层叠图案布线透明以及光学器件
  • [发明专利]半导体发光元件及其制造方法-CN201310359009.7有效
  • 户谷真悟;出口将士 - 丰田合成株式会社
  • 2013-08-16 - 2017-04-12 - H01L33/42
  • 制造半导体发光元件的方法包括如下步骤在衬底的主表面上形成由第III族氮化物基化合物半导体构成的半导体;在半导体上形成透明导电金属氧化物膜;在透明导电金属氧化物膜上方形成电极;形成用于覆盖透明导电金属氧化物膜的一部分的掩模;以及在含氧气氛中对其上形成有掩模透明导电金属氧化物膜进行热处理;其中,在热处理步骤中,使透明导电金属氧化物膜的未被掩模覆盖的剩余部分的氧浓度高于透明导电金属氧化物膜的被掩模覆盖的部分的氧浓度。
  • 半导体发光元件及其制造方法

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