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[发明专利]一种用于透射电镜原位观察位错滑移迹线的样品制备方法-CN202011236377.9在审
发明人：李阁平;韩福洲;袁福森;张英东;穆罕穆德.阿里;郭文斌;任杰;刘承泽;顾恒飞 -专利权人：中国科学院金属研究所
申请日： 2020-11-09 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： G01N1/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种透射电镜观察分析样品的制备方法，具体地指一种用于透射电镜原位观察位错滑移迹线的样品制备方法，具体步骤为：样品切割与处理；表面抛光；维氏硬度加载；减薄及后续观察分析。本发明试样的制备相对简单，不需要高精密的仪器设备；采用本发明方法，可以准确确定加载力的方向和大小，原位确定压痕附近的滑移迹线的特征；借助透射电镜不仅可以观察位错滑移迹线特征，而且通过压痕定位达到原位观察分析材料在外加载荷作用下位错滑移迹线特征
一种用于透射原位观察滑移样品制备方法

[发明专利]辐照后反应堆结构材料TEM试样的制备方法及试样盒-CN202011131583.3在审
发明人：吴璐;张伟;覃检涛;毛建军;何文;王桢;方忠强;潘荣剑;罗浩 -专利权人：中国核动力研究设计院
申请日： 2020-10-21 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： G01N23/04 文献下载
摘要：本发明公开了辐照后反应堆结构材料TEM试样的制备方法，步骤1，取未经辐照的反应堆结构材进行加工获得预制样品，预制样品的尺寸大小满足TEM试样的要求；步骤2，将步骤1获得的预制样品置于闭合容器内，通过夹块夹持闭合容器，并装载到辐照装置内再进行辐照考验；步骤3，辐照结束后，取出闭合容器中辐照后样品经减薄处理后，用于透射电镜分析。本发明效解决了现有辐照后反应堆结构材料透射电镜试样制备难度大、成品率低及不易批量化等问题；且避免夹持过程出现的问题，尤其适用于辐照后透射电镜试样的制备。
辐照反应堆结构材料 tem 试样制备方法

[发明专利]一种块体材料平面透射电镜样品的制备方法-CN202011314203.X在审
发明人：付新;贾荣光;李聪;于海燕;何少卿;杜志伟 -专利权人：国标（北京）检验认证有限公司;国合通用测试评价认证股份公司
申请日： 2020-11-20 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： G01N1/28 文献下载
摘要：本发明公开了属于透射电镜制样与分析技术领域的一种块体材料平面透射电镜样品的制备方法。在分析制样的矩形选区表面沉积保护层；5)将镀过保护层的矩形选区三边切空，将截面修理平整；6)将纳米机械手与第四边的对边截面焊接后将第四边切空，矩形选区与薄片脱离；7)提取矩形选区焊接至FIB载网的柱体上；8)调整样品台使离子束垂直于矩形选区的截面入射，截面镀保护层，然后最终减薄，得到平面透射电镜样品。本发明是一种简单易行的定点制备块体材料平面透射电镜样品的方法。
一种块体材料平面透射样品制备方法

[实用新型]一种用于快速定位透射电镜样品的扫描电镜样品台-CN202220701856.1有效
发明人：张芳;彭绍春 -专利权人：北京理工大学
申请日： 2022-03-29 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： G01N23/2204 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于快速定位透射电镜样品的扫描电镜样品台，包括圆形的基座、圆环形压片以及紧固件；其中，基座的顶面设置有圆环形凹槽、压片固定孔、多个圆形的样品凹槽、以及呈辐射状的多条刻线；圆环形凹槽与基座同轴设置；压片固定孔和样品凹槽均对称分布于圆环形凹槽内；每条刻线的中心均为基座的顶面圆心，且刻线穿过样品凹槽或压片固定孔的圆心；圆环形压片可与圆环形凹槽形状配合，并设置有与压片固定孔对应的紧固件通孔以及与样品凹槽对应的观测通孔该扫描电镜样品台可以快速找到透射电镜所需表征的样品，提升了透射电镜测试的效率和质量。
一种用于快速定位透射样品扫描电镜

[实用新型]原位透射电镜电学液体芯片-CN202223206546.1有效
发明人：韩晓东;王梦龙;张剑飞;杨晓萌;田志永 -专利权人：北京工业大学
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G01N23/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及原位透射电镜技术领域，提供一种原位透射电镜电学液体芯片，包括：功能芯片、盖板芯片和盖板；功能芯片包括：第一基底、第一薄膜承载层和金属电极层，金属电极层包括工作电极、对电极和参比电极导线；钝化保护层本实用新型提供的原位透射电镜电学液体芯片，在实现液体环境施加的基础上，将传统电化学领域的三电极测试体系引入透射电镜，可对液体环境中样品的电化学行为进行原子尺度原位动态观测的同时，完成电学信号的精确控制及采集
原位透射电学液体芯片

[发明专利]一种针对高分子纳米材料的透射电镜简易检测方法-CN201510294051.4有效
发明人：梁兴杰;车晶;翁郁华;郭宏博;薛向东;甘雅玲 -专利权人：国家纳米科学中心
申请日： 2015-06-01 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： G01N23/00 文献下载
摘要：一种针对高分子纳米材料的生物透射电镜检测方法。首先通过纳米组装制备包载有含氟药物的高分子纳米胶束水溶液；然后采用简单、快速的电镜制样方法将胶束水溶液滴加在附有支持膜的铜网上，并对样品进行染色；最后采用生物透射电镜观察样品，得到清晰度高、对比度高的高分子胶束电镜图像与现有技术相比，本发明简化了纳米尺寸高分子材料电镜样品的制备过程，实现了利用透射电镜对50nm以下高分子胶束的快速、简易检测。
一种针对高分子纳米材料透射简易检测方法

[发明专利]原位透射电镜电学液体芯片及其制备方法-CN202211528368.6在审
发明人：韩晓东;王梦龙;张剑飞;杨晓萌;田志永 -专利权人：北京工业大学
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： G01N23/04 文献下载
摘要：本发明涉及原位透射电镜技术领域，提供一种原位透射电镜电学液体芯片及其制备方法。原位透射电学液体芯片包括：功能芯片、盖板芯片和盖板；功能芯片包括：第一基底、第一薄膜承载层和金属电极层，金属电极层包括工作电极、对电极和参比电极导线；钝化保护层，部分覆盖第一薄膜承载层和金属电极层；盖板芯片包括本发明提供的原位透射电镜电学液体芯片及其制备方法，在实现液体环境施加的基础上，将传统电化学领域的三电极测试体系引入透射电镜，可对液体环境中样品的电化学行为进行原子尺度原位动态观测的同时，完成电学信号的精确控制及采集
原位透射电学液体芯片及其制备方法

[发明专利]一种制备梯度纳米结构材料透射电镜样品的装置和方法-CN202111347165.2在审
发明人：阳琳;刘亿;胡钊华;许梦凝;王帅卓;高波;肖礼容;周浩 -专利权人：南京理工大学;鞍钢集团北京研究院有限公司
申请日： 2021-11-15 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： G01N1/28 文献下载
摘要：本发明属于材料测试领域，特别是一种制备梯度纳米结构材料透射电镜样品的装置和方法，所述的装置包括用于透射电镜样品制备的三脚平衡研磨台装置，主要包括精密千分尺、千分尺支撑脚、楔形圆柱固定器、液泡水平仪以及带有精密千分尺、千分尺支撑脚和液泡水平仪用于测量其与样品的水平关系、厚度差异测量，楔形圆柱固定器用于固定需要研磨厚度的样品，带有3°坡度的楔形圆柱用于粘接厚度均匀态梯度纳米结构材料样品。所示的方法包含均匀薄片粘接、楔形样品制备、离子减薄制备三步工序。将样品固定在楔形圆柱的斜坡面上，使其梯度组织方向的边缘粘接在斜坡面与水平面的交线区域；通过往复研磨的方式对样品进行研磨，获得厚度不均匀态梯度纳米结构材料样品；采用离子减薄法对样品进行减薄，获得可供透射电镜观察的厚度不均匀态梯度纳米结构材料透射电镜样品
一种制备梯度纳米结构材料透射样品装置方法

[发明专利]电解双喷制备细丝纵截面透射电镜薄膜样品的方法-CN201310218516.9无效
发明人：郝京丽;鞠新华;孟杨;蔡宁 -专利权人：首钢总公司
申请日： 2013-06-04 - 公布日： 2013-10-02 - 主分类号： G01N1/28 文献下载
摘要：一种电解双喷制备细丝纵截面透射电镜薄膜样品的方法，属于透射电镜制样领域。利用电解双喷方法和直径3.0mm孔径样品夹实现了直径1.0mm细丝样品纵截面薄膜的成功制备，并利用透射电镜进行组织和第二相分析。将样品进行切割、磨制、夹持、调节束流、电解双喷和清洗，试样制备完毕。优点在于，采用电解双喷仪对细丝样品纵截面的两面同时进行抛光和减薄，抛光和减薄时间仅需数10秒~2分钟，能精确的获取组织和第二相，这种制样方法减少了部分制样设备的使用，降低了成本，提高了制样效率和成功率。
电解制备细丝截面透射薄膜样品方法

[发明专利]一种透射电镜平面样品的制备方法-CN202110725969.5在审
发明人：邵笑;高金德 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： G01N1/28 文献下载
摘要：本发明提供了一种透射电镜平面样品的制备方法，应用于半导体领域。在本发明实施例中，提供一样品芯片，在所述样品芯片上确定目标截面，所述目标截面为所述透射电镜平面样品平行于第一平面的截面；从所述样品芯片中，提取包括所述目标截面的待制作样品；对所述待制作样品的侧面，在所述目标截面沿所述芯片厚度方向的两侧，分别进行离子束标记；对所述待制作样品的正面和背面进行刻蚀，直至暴露出所述目标截面两侧的离子束标记时，停止刻蚀，将刻蚀后得到的样品作为所述透射电镜平面样品。本发明在对具有特殊结构的样品进行制备时，可准确获取刻蚀停止位置，从而提高样品制备质量，进而便于精确地对样品失效位置进行定位。
一种透射平面样品制备方法

[发明专利]一种高通量预筛选相变异质结材料的方法-CN201910773306.3有效
发明人：张伟;王疆靖;周宇星;蒋婷婷 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2019-08-21 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： G01N23/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种高通量预筛选相变异质结材料的方法，包括：选择能够进行微观结构表征的衬底制备的相变材料薄膜或异质结构薄膜；采用聚焦离子束及进行透射电镜样品制备，采用等离子清洗技术对制备的样品进行表面预处理；将预处理电镜样品置于透射电镜中，并在电镜样品中寻找表面平整、正晶带轴向的区域；针对相变材料薄膜和异质结构薄膜，在电镜中设置电子束的辐照电压、辐照强度和辐照时间；在电镜中实时观测电镜样品辐照区域的微观结构本发明结合了常规的透射电子显微样品制备和结构分析方法预筛选相变异质结材料，简便易操作，具有高效率、低成本的特点。
一种通量筛选相变异质结材料方法

[发明专利]一种碳膜液体池及其制备方法-CN202010935303.8在审
发明人：廖洪钢;彭新星 -专利权人：厦门大学
申请日： 2020-09-08 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： G01N1/28 文献下载
摘要：碳膜液体池由表面改性的两片透射电镜载网将液体包埋在载网之间所形成三明治结构。制备方法：1)选用商业化的透射电镜载网，所述透射电镜载网主要包括金属网格和有机物骨架两个组成部分；2)在透射电镜载网上有机物骨架一侧沉积一层碳膜；3)将沉积碳膜的透射电镜载网放在清水中漂洗，然后放在真空干燥箱中干燥；4)将干燥后的透射电镜载网放入氧气等离子体表面处理仪中进行表面处理；5)在经过等子体处理后的透射电镜载网上放上极少量溶液，然后将另一片透射电镜载网置于液滴上方，待未包埋在内部的液体挥发后，进行漏液检测
一种液体及其制备方法

[发明专利]一种用于原位芯片观察的柔性热电材料透射电镜样品的制备方法-CN202210642155.X在审
发明人：姜颖;李士景;顾辉;邢娟娟 -专利权人：上海大学
申请日： 2022-06-07 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： G01N23/04 文献下载
摘要：本发明涉及透射电镜原位加热和通电研究技术领域，公开了一种用于原位芯片观察的柔性热电材料透射电镜样品的制备方法，包括以下步骤：(1)原位芯片穿孔；(2)铸锭圆片裁剪；(3)修块；(4)切片前准备；(5)超薄切片；(6)切片样品转移。本发明减少机械抛光和树脂包埋处理，避免热、电损伤，显著提高转移成功率，缩短样品制备时间到两小时内，降低制备成本。放置于原位芯片上的无损薄片能够在透射电镜中施加热、电等多外场，进行结构演变的动态观察。
一种用于原位芯片观察柔性热电材料透射样品制备方法

[实用新型]一种基于IP成像板的透射电镜成像及扫描系统-CN201220580560.5有效
发明人：张焱;贾春燕;陈晶;冉书能;刘国超;李增杰 -专利权人：北京大学
申请日： 2012-11-06 - 公布日： 2013-04-10 - 主分类号： H01J37/26 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基于IP成像板的透射电镜成像及扫描系统。本实用新型的透射电镜成像及扫描系统包括：透射电镜及扫描装置；其中，透射电镜中采用IP成像板，透过样品后的电子束曝光在IP成像板上形成影像；扫描装置对已曝光的IP成像板进行影像扫描，直接生成影像的数码信息本实用新型采用IP成像板，形成影像的曝光时间短，从而提高了透射电镜的灵敏度，并且操作快捷，图像对比度高；存储在IP成像板内的影像可以保持7天以上；IP成像板可在正常的可见光环境中操作；IP成像板中的信息可选择性的重复读取或消光
一种基于 ip 成像透射扫描系统

[发明专利]一种钢中复合夹杂物原位加工及结构表征方法-CN201410747269.6在审
发明人：金传伟;吴园园;张珂;洪慧敏 -专利权人：江苏省沙钢钢铁研究院有限公司
申请日： 2014-12-09 - 公布日： 2015-03-25 - 主分类号： G01N23/22 文献下载
摘要：本发明涉及一种钢中复合夹杂物原位加工及结构表征方法，包括以下步骤：(1)利用聚焦离子束精确定位并原位制备出感兴趣复合夹杂物的透射电镜剖面样品；(2)通过透射电镜附件X射线能谱仪分析夹杂物的元素组成和元素面分布；(3)用透射电镜电子衍射技术获得夹杂物中各元素聚集区域低指数面的衍射谱图；(4)利用衍射谱图并结合夹杂物元素组成和面分布特点标定出各个衍射谱对应的物相。本发明方法可以快速精确获得感兴趣复合夹杂物从核心到表面的物相分布和组成，为复合夹杂物内部物相组成和形成机理的研究提供了新的方法，并且解决了传统制备复合夹杂物透射电镜样品随机性高、成功率低以及难以保证夹杂物完整性等缺点
一种复合夹杂原位加工结构表征方法

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