“连续电子束”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果2069110个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种电子束焊接方法-CN202210879979.9有效
发明人：赵桐;唐振云;付鹏飞 -专利权人：中国航空制造技术研究院
申请日： 2022-07-25 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： B23K15/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种电子束焊接方法，用于提高待焊工件的焊缝质量，包括设计电子束斑的参数信息；调整各电子束斑的运动轨迹均与焊缝的长度方向重合；控制电子束对试验样板上的焊缝进行焊接得到成型焊缝；根据成型焊缝的质量来调整电子束斑的参数信息以及电子束焊机的焊接参数；采用调整后的电子束斑的参数信息以及电子束焊机的焊接参数对待焊工件上的焊缝进行焊接，得到符合焊接质量要求的目标焊缝。本发明用于解决室温脆性大、裂纹倾向大的材料在进行电子束焊接时易产生裂纹以及现有电子束焊接易产生熔深不足、焊缝形貌与焊缝内部质量差的问题。
一种电子束焊接方法

[发明专利]彩色显像管装置-CN89102569.3无效
发明人：下间武敏;蒲原英治;菅原繁 -专利权人：东芝株式会社
申请日： 1989-04-19 - 公布日： 1993-03-17 - 主分类号： H01J29/48 文献下载
摘要：彩色显像管装置具备一列型电子枪部、偏转部及荧光屏部，该电子枪部具备发生相互平行的三个电子束并对其进行控制、加速的电子束形成部和使三个电子束聚焦并集中的主电子透镜部。此主电子透镜部具有对三个电子束共同作用的大口径菲对称电子透镜及对各电子束赋予垂直方向比水平方向强的发散作用且使三个电子束在相互平行的状态下入射到非对称电子透镜的电子束形成手段。电子束形成手段设在非对称电子透镜的电子束形成部一侧。
彩色显像管装置

[发明专利]太赫兹辐射的产生系统及方法-CN202310137903.3在审
发明人：颜立新;唐传祥;梁一凡;刘卓辕;杜应超;田其立;李任恺 -专利权人：清华大学
申请日： 2023-02-06 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： H01S1/00 文献下载
摘要：其中光阴极电子枪用于接收激光脉冲串并产生电子束；加速管用于将电子束加速至相对论能量；第一聚焦螺线管位于光阴极电子枪的出口处，用于提高电子束的电荷密度，第二聚焦螺线管环绕加速管，用于在电子束于加速管中加速时，调节电子束的电荷密度至目标电荷密度；束线管用于传输能量调制的电子束；色散节包括上半色散节与下半色散节，束线管自上半色散节与下半色散节之间穿过，用于在能量调制的电子束于束线管中传输时，将能量调制的电子束转换为密度调制的电子束；辐射装置用于接收密度调制的电子束，并通过密度调制的电子束产生太赫兹辐射。
赫兹辐射产生系统方法

[发明专利]基于多弯消色散的超快电子衍射系统-CN202210566572.0有效
发明人：鲁巍;华剑飞;方煜 -专利权人：清华大学
申请日： 2022-05-23 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： H01J37/295 文献下载
摘要：本公开涉及一种基于多弯消色散的超快电子衍射系统，包括：电子源，用于产生第一电子束；第一聚焦组件，用于捕获所述第一电子束，并使所述第一电子束聚焦，获得第二电子束；多弯消色散组件，用于使第二电子束中具有不同能量的电子按照不同运动路径运动，并在压缩束长后获得第三电子束，第三电子束的脉宽在预设位置处最小。根据本公开的实施例的基于多弯消色散的超快电子衍射系统，可针对宽能谱电子源的特性，使用与电子源性能匹配的多弯消色散组件，从而对电子束的束长进行压缩，获得能量高，能散低，时间分辨率高的电子束，以满足超快电子衍射的应用研究需求
基于多弯消色散电子衍射系统

[发明专利]一种电子束增材制造装置及方法-CN202010802432.X在审
发明人：郭超;马旭龙;阚文斌 -专利权人：天津清研智束科技有限公司
申请日： 2020-08-11 - 公布日： 2020-11-20 - 主分类号： B22F3/105 文献下载
摘要：本发明属于增材制造技术领域，公开了一种电子束增材制造装置及方法，电子束增材制造装置包括成形室和位于成形室内的铺粉平台，电子束增材制造装置还包括：泛射电子枪，设置于成形室内，用于产生泛射电子束，泛射电子束覆盖成型区域的粉末层，并对粉末层进行低能量轰击，以使粉末层的粉末颗粒带有正电荷；聚焦电子枪，设置于成形室内，用于产生聚焦电子束，聚焦电子束扫描熔化粉末层，带有正电荷的粉末颗粒能中和聚焦电子束产生的电子束负电荷，聚焦电子束的加速电压大于泛射电子束的加速电压
一种电子束制造装置方法

[发明专利]基于阵列的表征工具-CN201980029659.0有效
发明人： A·利普金德;A·罗森塔尔;F·基莱塞;J·格尔林;L·穆劳伊;R·海恩斯 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2019-04-30 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： G02B21/00 文献下载
摘要：一种扫描电子显微术SEM系统包含多个电子束源，所述多个电子束源经配置以产生初级电子束。所述SEM系统包含具有多个电子光学柱的电子光学柱阵列。电子光学柱包含多个电子光学元件。所述多个电子光学元件包含偏转器层，所述偏转器层经配置以经由由所述多个电子光学柱中的至少一些电子光学柱共享的共同控制器驱动；且包含修整偏转器层，所述修整偏转器层经配置以由个别控制器驱动。所述多个电子光学元件经布置以形成电子束通道，所述电子束通道经配置以将所述初级电子束引导到固定于载台上的样本，所述样本响应于所述初级电子束而发射电子束。所述电子光学柱包含电子检测器。所述电子束通道经配置以将所述电子束引导到所述电子检测器。
基于阵列表征工具

[实用新型]一种电子束蒸镀用坩埚及电子束蒸镀装置-CN202220346262.3有效
发明人：何秉轩 -专利权人：隆基绿能科技股份有限公司
申请日： 2022-02-21 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本实用新型公开一种电子束蒸镀用坩埚及电子束蒸镀装置，涉及物理气相沉积技术领域，以解决现有技术中电子束蒸镀装置的能量利用率较低的问题。电子束蒸镀用坩埚包括：用于容纳待沉积的蒸发料的坩埚本体和包覆设置于坩埚本体的外侧的导电保温托，导电保温托用于保温坩埚本体。电子束蒸镀装置包括上述技术方案所提的电子束蒸镀用坩埚。本实用新型提供的电子束蒸镀用坩埚及电子束蒸镀装置用于提高电子束蒸镀装置对能量的利用率。
一种电子束蒸镀用坩埚装置

[发明专利]真空多功能连续镀膜装置-CN200810233591.1无效
发明人：杨滨 -专利权人：昆明理工大学
申请日： 2008-11-18 - 公布日： 2009-04-22 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明属于电子机械技术领域，涉及一种高真空多功能离子束溅射与电子束蒸发连续镀膜装置。本装置的真空镀膜室为单室结构，离子束溅射源和电子束蒸镀源的发生器设置在真空镀膜室外，二者通入镀膜室的入口对应设置有离子束溅源射挡板和电子束蒸镀源挡板；恒张力可逆卷绕单元的收/放卷轴及随动过渡轴固定于镀膜室内的连接支撑装置上本发明结构紧凑，在单真空室内具有多种镀膜及连续镀膜功能，并可实现镀膜过程中间断或全时的离子束辅助增强沉积，能将溅射靶材特别是贵重金属靶材和难加工类靶材利用率提高60％～100％，还可通过镶嵌型靶获得特殊功能的包覆型复合膜产品
真空多功能连续镀膜装置

[发明专利]一种利用电子束连续轰击制备石墨烯的方法-CN201710446664.4有效
发明人：陈庆;王镭迪;曾军堂 -专利权人：成都新柯力化工科技有限公司
申请日： 2017-06-14 - 公布日： 2018-05-04 - 主分类号： C01B32/19 文献下载
摘要：本发明涉及石墨烯材料制备领域，提出一种利用电子束连续轰击制备石墨烯的方法，首先将石墨预制成大面积石墨板，利用加速电子束连续以扫描方式轰击石墨板，同时对石墨板进行稳定微气流吹扫，石墨板经过电子束的轰击，使石墨获得能量进入高能态
一种利用电子束连续轰击制备石墨方法

[发明专利]基于密度结构调变的激光等离子体电子加速方法-CN202210564526.7有效
发明人：鲁巍;华剑飞;刘爽 -专利权人：清华大学
申请日： 2022-05-23 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： H05H7/00 文献下载
摘要：本公开涉及一种电子束加速方法及等离子体介质密度设置方法，所述方法包括：注入具有预设电荷量的电子束；使电子束动态地保持在激光脉冲在等离子体介质中激发的尾波场的预设位置运动，获得加速后的目标电子束，其中，等离子体介质的密度沿电子束的运动方向增大根据本公开的实施例的电子束加速方法，可通过沿电子束和激光脉冲的运动方向增大密度的等离子体介质，在激光脉冲的运动过程中改变其激发的尾波场的波长，从而使电子束动态地保持在尾波场中的预设位置，可使电子束以更高的加速梯度加速，提升加速效率和能量转换效率，并可加载与介质密度相适应的电荷量，抵消电子束的能量啁啾，使得电子束的能散降低，获得更高品质的电子束。
基于密度结构激光等离子体电子加速方法

[发明专利]一种电子束高效、连续熔炼提纯多晶硅的方法及设备-CN201110031569.0有效
发明人：谭毅;姜大川;邹瑞洵;顾正;战丽姝 -专利权人：大连隆田科技有限公司
申请日： 2011-01-29 - 公布日： 2011-07-13 - 主分类号： C01B33/037 文献下载
摘要：一种电子束高效、连续熔炼提纯多晶硅的方法，先通过电子束在坩埚中形成稳定的高纯硅熔池，然后将需提纯硅粉通过进料真空闸室连续落入熔池，快速熔化后熔炼，从而去除硅粉中的杂质磷，得到的低磷硅液周期性地从坩埚中溢出，在水冷倾斜铜槽中形成硅块，并落入收集筒中冷却，最后通过出料真空闸室连续出料，完成连续提纯多晶硅的工艺过程。本发明采取连续加料和连续出料的熔炼方式，采用电子束熔炼多晶硅可去除饱和蒸汽压高的挥发性杂质磷，达到高效、连续熔炼除杂的目的，纯度达到了太阳能级硅的使用要求，技术稳定，能耗小，成本低，生产效率高，适合大规模工业化生产
一种电子束高效连续熔炼提纯多晶方法设备

[发明专利]一种基于电子束熔丝成形的晶粒细化装置及方法-CN201610842124.3有效
发明人：杨光;巩水利;杨帆;黄志涛;董伟;杨洋 -专利权人：中国航空制造技术研究院
申请日： 2016-09-23 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： B23K15/00 文献下载
摘要：一种基于电子束熔丝成形的晶粒细化装置，其技术要点是：包括装置本体，装置本体分为发射装置和控制系统及工作台装置，装置本体的外部为真空室，一种基于电子束熔丝成形的晶粒细化方法，采用电子枪产生的两束电子束，一束用于熔化丝材成形的成形主电子束，一束用于冲击细化晶粒的脉冲电子束，电子枪和工作台按照设定的成形路径运动，控制系统根据实时的运动方向利用扫描线圈调整电子束的射出位置，将电子束的射出位置固定于熔池的后方，直到电子束熔丝成形结束；采用该技术方案，两束电子束分别用于熔化成形和冲击细化晶粒，无需额外增加机械装置，相对简单易于实现。
一种基于电子束成形晶粒细化装置方法

[发明专利]暗视野像差矫正电子显微镜-CN201180008909.6在审
发明人：克里斯多夫·书源翁;安德鲁·布利罗齐;保罗·约翰·达布罗维斯基 -专利权人：摩奇有限公司(D/B/AVOXA)
申请日： 2011-02-10 - 公布日： 2014-06-04 - 主分类号： H01J37/153 文献下载
摘要：一种穿透式电子显微镜，包括一电子束源(20)以产生一电子束，以电子束用光学组件聚集该电子束；一像差矫正器(90)至少矫正该电子束之球面像差；一位于该电子束路径上的一试片座，用来设置一试片(40)；一侦测器(80)用于侦测穿过该试片之电子束。该穿透式电子显微镜操作于晴视野模式下，其中第零阶电子束并不予以侦测。该穿透式电子显微镜并可操作在非同调照射模式下。
视野矫正电子显微镜

[发明专利]一种场发射电子源电子束发射性能评测装置及其评测方法-CN201410158183.X有效
发明人：徐军;刘亚琪;王朋博;袁明艺;饶先拓;陈莉;朱瑞 -专利权人：北京大学
申请日： 2014-04-18 - 公布日： 2014-11-05 - 主分类号： H01J37/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种场发射电子源电子束发射性能评测装置及其评测方法。本发明的评测装置包括：真空腔室、真空抽气系统、真空度测量系统、电子枪组件、电源系统、电子束成像系统、电子束偏转系统和探测与采集系统。本发明在电子束的路径上安装两个垂直方向的偏转磁场，控制电子束从边缘至中心依次扫描通过荧光屏上的小孔，从而获得电子束束斑形状、电子束束斑中心束束流强度、束流密度、角电流密度等、电子束发射稳定度等重要的场发射电子源电子束发射性能定量参数，获得上述电子源电子发射的定量化参数，为评价场发射电子源性能，优化场发射电子源制备工艺，完善场发射电子源制备平台提供定量依据。
一种发射电子电子束性能评测装置及其方法

[发明专利]辐照装置及利用其进行杀菌处理的方法-CN202110786843.9在审
发明人：王常强;向益淮;张立锋;朱志斌;崔爱军;吴青峰 -专利权人：中国原子能科学研究院
申请日： 2021-07-12 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： G21K5/00 文献下载
摘要：辐照装置用于照射被辐照物，包括：加速器，加速器使带电粒子加速并射出带电粒子束；开关磁铁，开关磁铁设置在带电粒子束的传输路径上，并设置在加速器的下游，开关磁铁用于将带电粒子束分成多束电子束，多束电子束包括第一电子束、第二电子束和第三电子束；偏转磁铁组件，偏转磁铁组件设置在电子束的传输路径上，并设置在开关磁铁的下游，偏转磁铁组件用于对第一电子束和第三电子束进行偏转；其中，第一电子束和第三电子束以第一预定夹角照射在被辐照物上；第二电子束竖直照射在被辐照物上。
辐照装置利用进行杀菌处理方法

首页
«上一页
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
下一页»
尾页
共 100000 条