专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种氧化铪基电容器及其制备方法-CN202310338732.0在审
  • 卢红亮;刘胤池;刘文军 - 复旦大学
  • 2023-03-31 - 2023-07-18 - H10N97/00
  • 本发明公开了一种氧化铪基电容器及其制备方法;本发明的制备方法如下:首先,在Si/SiO2衬底上采用磁控溅射沉积形成底电极,然后,采用原子层沉积技术生长ZrO2籽晶层,在籽晶层上依次生长氧化铪基薄膜和氧化铝覆盖层,并采用快速热退火形成相,最后利用光刻、电子束蒸发、剥离制备顶电极得到电容器。在本发明的电容存储器结构中,通过添加氧化锆ZrO2作为氧化铪基薄膜的籽晶层,来优化氧化铪基薄膜与底电极之间的界面,增加了退火后薄膜中铁相的成分,实现高性能的电容存储功能
  • 一种氧化铪基铁电电容器及其制备方法
  • [发明专利]一种单晶薄膜及其制备方法-CN202111484387.9在审
  • 丑修建;毕开西;薛刚;梅林玉;穆继亮;何剑;侯晓娟 - 中北大学
  • 2021-12-07 - 2022-05-10 - H01L21/425
  • 本申请提供了一种单晶薄膜及其制备方法,包括:清洗单晶与衬底表面;将衬底与单晶进行间接键合,同时与基板进行临时键合;采用不同粒径的磨料对单晶进行减薄抛光;将抛光后的单晶从基板表面剥离,清洗单晶表面,得到单晶薄膜。本申请通过间接键合与化学机械抛光方法代替离子注入方法,可以避免由离子注入引起的薄膜表面晶格损伤,进而获得低厚度、高平整度、低损伤的单晶薄膜,满足高精度器件制备需求,可应用于集成电路制造,微传感器、微执行器等功能元件的制造;可以实现常温环境下制备,减少了在低温—高温—低温的变换过程中铁单晶由于热失配原因而产生的变形、碎裂等问题,提高产物的成品率。
  • 一种铁电单晶薄膜及其制备方法
  • [发明专利]一种获得大面积薄膜晶体管阵列制备工艺的方法-CN201510332231.7有效
  • 钟向丽;黄健;王金斌;李山;李波 - 湘潭大学
  • 2015-06-16 - 2018-12-25 - H01L21/77
  • 发明名称一种获得大面积薄膜晶体管阵列制备工艺的方法摘要本发明公开了一种获得大面积薄膜晶体管阵列制备工艺的方法,主要包含以下步骤:(1)将小面积基片放在大面积基片架的镂空方格基片位上;(2)在基片背面放置一块与基片架相同尺寸的硅晶圆片挡板;(3)采用物理气相沉积方法在基片上依次制备薄膜绝缘层和氧化物半导体薄膜沟道层;(4)采用物理气相沉积方法结合掩膜技术在沟道层之上制备源极和漏极,形成大面积薄膜晶体管阵列;(5)对大面积薄膜晶体管阵列的性能进行测试,根据晶体管单元性能以及阵列性能的一致性,优化大面积薄膜晶体管阵列制备过程中的工艺参数,得到性能满足要求且一致性好的大面积薄膜晶体管阵列及其制备工艺。
  • 一种获得大面积薄膜晶体管阵列制备工艺方法
  • [发明专利]一种提升铪基薄膜性能的方法和应用-CN202010757391.7在审
  • 陆旭兵;邹正淼 - 肇庆市华师大光电产业研究院
  • 2020-07-31 - 2020-11-17 - C23C16/40
  • 本发明属于薄膜材料技术领域,公开了一种提升铪基薄膜性能的方法,包括以下步骤:(1)在清洗干净的衬底上生长TiN底电极;(2)在TiN底电极上通过原子沉积法沉积一层氧化铪‑氧化锆薄膜;(3)在氧化铪‑氧化锆薄膜上沉积氧化锆盖层;(4)退火即可。本发明采用原子层沉积一层氧化锆盖层提升铪基薄膜的方法控制精准,形成的薄膜均匀性好,有利于大面积生产。采以氧化锆作为盖层明显降低了铪基薄膜中非相的比例,提高了正交相的比例,剩余极化强度值提升一倍,同时薄膜的漏电流减少,更不容易发生击穿,薄膜的可靠性得到了提升,在104
  • 一种提升铪基铁电薄膜性能方法应用
  • [发明专利]一种原位应力加载的柔性薄膜的制备方法-CN202011449292.9在审
  • 姜杰;莫圣涛;姜楠;张彪 - 湘潭大学
  • 2020-12-09 - 2021-04-30 - C23C14/28
  • 本发明公开了一种原位应力加载的柔性薄膜的制备方法,包括:将柔性单晶云母片固定在支撑件的表面上;所述支撑件具有预设的曲率半径;在所述柔性单晶云母片的表面上形成预设厚度的薄膜;将生长有所述薄膜的所述柔性单晶云母片,在自然条件下恢复至平整状态,进而在所述薄膜上引入内应力。本发明实施例提供的一种柔性薄膜的制备方法,该方法采用柔性单晶云母片作为基板,能够避免传统的利用不同基板进行应力引入的方法同时引入不同的界面效应,避免了其它条件的影响。
  • 一种原位应力加载柔性薄膜制备方法
  • [发明专利]一种基于可调电容的可调谐振腔-CN201710086921.8有效
  • 张继华;陈建男;郑懿;陈宏伟 - 电子科技大学
  • 2017-02-17 - 2019-05-14 - H01P1/209
  • 本发明属于通信领域,提供一种基于可调电容的可调谐振腔,包括类同轴结构金属腔体、绝缘介质环、薄膜、电容电极及调谐电极;类同轴结构金属腔体的顶部带有开口环,绝缘介质环填充入开口环处;薄膜设置于金属腔体上方中心,且半径大于等于绝缘介质环的内半径;调谐电极设置于薄膜上方中心;电容电极为环绕调谐电极设置的环形电极,且电容电极外边缘与金属腔体连接,电容电极内边缘与薄膜及金属腔体形成平行电容板结构。本发明采用由薄膜制成的可调电容;首先避免了机械疲劳问题,延长了谐振腔的使用寿命;其次调谐电压只需要达到三十伏特,使调谐更加简便;最后,由于材料极快的反应速度,也增加了谐振腔的调谐速度。
  • 一种基于可调电容谐振腔
  • [发明专利]一种氧化铪基薄膜唤醒效应的分析方法及系统-CN202310116745.3在审
  • 曾斌建;刘瑞萍;廖敏;彭强祥;杨琼;郑帅至 - 湘潭大学
  • 2023-02-06 - 2023-06-23 - G06F30/23
  • 本发明公开了一种氧化铪基薄膜唤醒效应的分析方法及系统,涉及薄膜模拟分析技术领域,首先确定能量方程及体自由能、极化梯度能、静电能和退极化场能的密度方程表达式,构建氧化铪基薄膜相场模型;确定极化演化方程、氧空位演化方程、氧化铪基薄膜空间电荷密度方程,通过麦克斯韦方程建立氧空位和极化演化间的关联;推导出极化演化方程、氧空位扩散方程和麦克斯韦方程的弱形式,编译到软件当中;对极化演化方程和氧空位扩散方程以及麦克斯韦方程进行求解本发明提供的氧化铪基薄膜唤醒效应的分析方法及系统解决了现在难以简易分析氧化铪基薄膜唤醒效应的问题。
  • 一种氧化铪基铁电薄膜唤醒效应分析方法系统

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