专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]除草微乳剂-CN01803903.0无效
  • 吉井博;前田胜 - 石原产业株式会社
  • 2001-01-18 - 2003-02-19 - A01N25/04
  • 一种微乳剂,它含有(1)至少一种选自氧基氧基羧酸、杂氧基氧基羧酸和它们的衍生物的除草活性组分,(2)至少一种选自聚氧化烯苯乙烯基基醚、聚氧化烯脱水山梨醇酯、脱水山梨醇烷基化物、聚乙烯聚丙烯烷基酚和聚氧化烯烷基醚的非离子表面活性剂和
  • 除草乳剂
  • [发明专利]GLYT-1的抑制剂-CN200780031510.3无效
  • S·乔里顿;R·纳尔基齐昂;E·皮那德 - 弗·哈夫曼-拉罗切有限公司
  • 2007-08-20 - 2009-08-12 - C07C233/51
  • 本发明涉及通式I化合物或其可药用酸加成盐,其中R1为低级烷基、基或杂基,其中基和杂基任选地被卤素、低级烷基、低级烷氧基、被卤素取代的低级烷基、被卤素取代的低级烷氧基、氰基、4基或杂基,其中至少一个环为芳香性的,其中基和杂基任选地被选自卤素、被卤素取代的低级烷基、被卤素取代的低级烷氧基、低级烷基的一个或多个取代基取代;X为键或-OCH2-;n为0、1或2;下列化合物除外:4-甲氧基-N-[2-代-2-(苯基氨基)乙基]-N-苯基-甲酰胺、4-氯-N-[2-[(4-甲基苯基)氨基]-2-代乙基]-N-苯基-甲酰胺、4-氯-N-[2-[5-氯-2-甲氧基苯基)氨基]-2-代乙基]-N-甲酰胺、4-甲基-N-(2-代-2-[(2,4,6-三氯苯基)氨基]乙基]-N-甲酰胺、N-[2-[(4-甲基苯基)氨基]-2-代乙基]-N-苯基-甲酰胺、4-甲基-N-[2-[(4-甲基苯基)氨基]-2-代乙基]-N-苯基-甲酰胺、4-氯-N-(2-代-2-[(2,4,6-三氯苯基)氨基]乙基]-N-甲酰胺和
  • glyt抑制剂
  • [发明专利]用于光电子器件的发射聚合物材料-CN200880122537.8有效
  • K·S·基查克;J·A·切拉;J·J·向;L·N·路易斯 - 通用电气公司
  • 2008-08-20 - 2011-03-30 - C09K11/06
  • 杂烷基、烷基基、基、基烷基、杂基、取代的烷基、取代的烷氧基、取代的杂烷基、取代的烷基基、取代的基、取代的基烷基或取代的杂基;R1a为氢或烷基;R2为亚烷基、取代的亚烷基、杂亚烷基、CO或CO2;R2a为亚烷基;R5每次出现时独立地为氢、烷基、烷基基、基、基烷基、烷氧基、羧基、取代的烷基、取代的烷基基、取代的基、取代的基烷基或取代的烷氧基;X为位于2,5-或2,7-位的卤素、三氟甲磺酸根、-B(OR1a)2或式(III);并且L衍生自苯基吡啶、甲苯基吡啶、并噻吩基吡啶、苯基异喹啉、二并喹喔啉、芴基吡啶、酮基吡咯、2-(1-萘基)并噁唑、2-苯基并噁唑、2-苯基并噻唑、香豆素、噻吩基吡啶、苯基吡啶、并噻吩基吡啶、3-甲氧基-2-苯基吡啶、噻吩基吡啶、苯基亚胺、乙烯基吡啶、吡啶基萘、吡啶基吡咯、吡啶基咪唑、苯基吲哚、其衍生物或其组合。
  • 用于光电子器件发射聚合物材料
  • [发明专利]并双唑基化合物-CN200410089855.2无效
  • 小木曾章;井上忍;塚原宇;西本泰三;三泽伝美 - 三井化学株式会社;山本化成株式会社
  • 2001-01-05 - 2005-07-13 - C07D498/04
  • 一种光记录介质包括基片和在基片上形成的作为记录层的有机染料层,其中记录层包含至少一种以通式(1)表示的并双唑基化合物。[式中,取代基X和Y各自表示基或杂基;环A和B各自表示噁唑环或噻唑环;以及Q1和Q2各自表示氢原子、卤素原子或烷基;条件是,以取代基X和Y分别表示的基或杂基各自可用卤素原子、羟基、氰基、氨基,取代或未取代的烷基、烷基、基、链烯基、烷氧基氧基氧基、链烯氧基、烷硫基、烷硫基、硫基、链烯硫基、单取代的氨基、双取代的氨基、酰基、烷羰基、羰基、羰基、链烯羰基、单取代的氨基羰基、双取代的氨基羰基、酰氧基或杂环基等来取代]。
  • 双唑基化合物
  • [发明专利]并双吡咯基化合物,光记录介质用化合物-CN01805771.3无效
  • 小木曾章;井上忍;塚原宇;西本泰三;三泽伝美 - 三井化学株式会社;山本化成株式会社
  • 2001-01-05 - 2003-03-26 - B41M5/26
  • 一种光记录介质包括基片和在基片上形成的作为记录层的有机染料层,其中记录层包含至少一种以通式(1)表示的并双吡咯化合物。[式中,取代基X和Y各自表示基或杂基;环A和B各自表示噁唑环或噻唑环;以及Q1和Q2各自表示氢原子、卤素原子或烷基;条件是,以取代基X和Y分别表示的基或杂基各自可用卤素原子、羟基、氰基、氨基,取代或未取代的烷基、烷基、基、链烯基、烷氧基氧基氧基、链烯氧基、烷硫基、烷硫基、硫基、链烯硫基、单取代的氨基、双取代的氨基、酰基、烷羰基、羰基、羰基、链烯羰基、单取代的氨基羰基、双取代的氨基羰基、酰氧基或杂环基等来取代]。
  • 吡咯化合物记录介质

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