专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]表面处理方法和半导体装置的制造装置-CN02810062.X无效
  • 高瀬道彦;吉田哲久;水野文二 - 松下电器产业株式会社
  • 2002-03-25 - 2004-06-30 - H01L21/265
  • 本发明提供一种表面处理方法,其特征为,包括:通过等离子体使物质等离子体化,生成第一等离子体化物质及第二等离子体化物质的等离子体化工序;开始向基体导入通过该等离子体而等离子体化的该第一等离子体化物质的开始工序;终止向该基体导入该第一等离子体化物质的终止工序;在该终止工序前观测通过该等离子体而等离子体化的该第二等离子体化物质状态的观测工序;和根据该观测工序的观测结果,控制表示从该开始工序直到该终止工序为止的时间的等离子体处理时间的控制工序,使表示向该基体导入的第一等离子体化物质的总量的总剂量成为所希望的总剂量。
  • 表面处理方法半导体装置制造
  • [发明专利]等离子离子源的发生装置-CN201010579490.7有效
  • 陈应;徐国宾;杨芃原 - 上海华质生物技术有限公司
  • 2010-12-08 - 2012-07-11 - H05H1/46
  • 一种应用于质谱仪的等离子离子源的发生装置,包括:等离子体发生腔体,包括作为等离子体发生区的腔室;高压射频源,包括电源以及设于所述等离子体发生腔体外表面的射频电极;与所述等离子体发生腔体相通的传输结构,用于将样品气体和载气引入到所述等离子体发生腔体中;密封件,用于密封所述传输结构与所述等离子体发生腔体之间的连通,为所述等离子体发生腔体提供真空环境。相较于现有技术,本发明的等离子离子源的发生装置,利用等离子体发生腔体,在低真空环境下可以产生出高密度的等离子离子源。
  • 等离子体离子源发生装置
  • [发明专利]等离子体足部理疗机-CN201710591146.1在审
  • 王雨蓬;李毅;李双豆;杨锡信;赵龙;周磊;赵国柱 - 烟台海灵健康科技有限公司
  • 2017-07-19 - 2017-09-26 - A61N1/44
  • 本发明公开了一种等离子体足部理疗机,包括等离子体发生器升降装置(1)、等离子体发生器(2)、等离子体足部理疗箱(3)、抽气系统(4)、触摸控制系统(5)、气源(6)和电源(7),所述等离子体发生器升降装置(1)设置在等离子体发生器(2)下部并连接控制等离子体发生器(2)上升下降,等离子体发生器(2)设置在等离子体足部理疗箱(3)下方并与等离子体足部理疗箱(3)相连。本发明的等离子体足部理疗机产生的等离子体,具有杀菌消毒作用,对于大多数的皮肤疾病具有显著治疗效果,同时等离子体能大幅提高人体免疫能力,具有防病保健的效果,并且能够加速脚部血液循环,促进新陈代谢,缓解疲劳
  • 等离子体足部理疗
  • [发明专利]等离子体观测系统和等离子体观测方法-CN202110054765.3在审
  • 山崎良二;宫下大幸;佐藤幹夫 - 东京毅力科创株式会社
  • 2021-01-15 - 2021-07-23 - H01L21/66
  • 本发明提供一种等离子体观测系统和等离子体观测方法,用于进行处理容器内的等离子体的观测地点的确定和观测地点的等离子体的状态的判定。所述等离子体观测系统具有:等离子体处理装置,在该等离子体处理装置的处理容器内通过等离子体对基板进行处理;以及测定装置,其测定所述等离子体,其中,所述等离子体处理装置具有多个观测窗,所述多个观测窗能够观测所述处理容器中等离子体的发光状态,所述测定装置具有:受光器,其从多个观测窗接受在所述处理容器内交叉的多个光;以及控制部,其基于接受到的多个光来进行等离子体的观测地点的确定和所述观测地点的等离子体的状态判定。
  • 等离子体观测系统方法
  • [发明专利]一种基于深度卷积网络等离子定向能量沉积面积计算方法-CN202110511718.7有效
  • 李辉;刘胜;申胜男;张亿凯;覃浩平 - 武汉大学
  • 2021-05-11 - 2022-10-11 - G06V10/26
  • 本发明提供了一种基于深度卷积网络等离子定向能量沉积面积计算方法。该方法包括:获取等离子定向能量沉积过程中的熔池和等离子弧的图像采集,对熔池和等离子弧图像进行预处理;利用深度卷积网络处理预处理后的图像,提取熔池和等离子弧的图像特征;由熔池和等离子弧的灰度值不同分离出熔池和等离子弧,最终获得熔池和等离子弧的RGB特征图像;采用坐标法计算熔池和等离子弧的面积,并利用GPU算法进行熔池和等离子弧的面积计算。本发明能够对等离子定向能量沉积过程中的熔池和等离子弧面积的变化特征进行统计,熔池和等离子弧面积特征作为根据进行反馈调节,进而对打印的工件进行增材制造或减材制造,以提高金属增材制造产品的质量。
  • 一种基于深度卷积网络等离子定向能量沉积面积计算方法
  • [实用新型]一种高温等离子水处理设备-CN201520338529.4有效
  • 陈晓兵 - 桐乡市合诚自动化技术有限公司
  • 2015-05-25 - 2015-09-16 - C02F9/08
  • 本实用新型涉及一种高温等离子水处理的设备,它包括反应容器;铁碳处理机构,所述铁碳处理机构位于所述反应容器的底部;等离子处理机构,所述等离子处理机构与反应容器连通;等离子调节机构,所述等离子调节机构固定于所述等离子处理机构;可见光监控机构,所述可见光监控机构与所述等离子处理机构相对;水位控制机构,所述水位控制机构位于所述反应容器内;COD测量与监控机构;以及设备控制装置;其特征在于:所述等离子处理机构由一导气管和位于所述导气管内的等离子喷嘴组成,所述等离子喷嘴上绕着为其供电的导线,所述等离子喷嘴包括两片互相靠近的铜片,所述等离子喷嘴前方设置有线圈,所述线圈所产生的磁感应强度方向与等离子喷出方向相反。
  • 一种高温等离子水处理设备
  • [实用新型]一种双束层流等离子发生器-CN201621091089.8有效
  • 黄佳华;李露;何泽;李向阳 - 成都真火科技有限公司
  • 2016-09-29 - 2017-09-05 - H05H1/28
  • 本实用新型属于等离子装置领域,具体为一种等离子发生器,尤其涉及一种双束层流等离子发生器,其特征在于包括阴极、管内阳极、管外阳极、冷却装置、等离子流出口、阳极绝缘层和等离子发生器主体,所述阴极、管内阳极、管外阳极、冷却装置、等离子流出口、阳极绝缘层和等离子发生器主体相连接在一起,所述阴极和管内阳极设置在等离子发生器主体的内部,所述管内阳极的内部设置有一层阳极绝缘层,所述冷却装置设置在等离子发生器主体的外部,所述等离子流出口设置在等离子发生器主体的一侧,所述管外阳极设置在等离子流出口上,所述等离子流出口的外部设置有分流器,所述分流器上设置有稳定装置。
  • 一种层流等离子发生器
  • [实用新型]一种可移动的层流等离子发生器-CN201621091067.1有效
  • 黄佳华;李露;何泽;李向阳 - 成都真火科技有限公司
  • 2016-09-29 - 2017-06-13 - H05H1/28
  • 本实用新型属于等离子装置领域,具体为一种等离子发生器,尤其涉及一种可移动的层流等离子发生器,其特征在于包括阴极、管内阳极、管外阳极、冷却装置、等离子流出口、阳极绝缘层和等离子发生器主体,所述阴极、管内阳极、管外阳极、冷却装置、等离子流出口、阳极绝缘层和等离子发生器主体相连接在一起,所述阴极和管内阳极设置在等离子发生器主体的内部,所述管内阳极的内部设置有一层阳极绝缘层,所述冷却装置设置在等离子发生器主体的外部,所述等离子流出口设置在等离子发生器主体的一侧,所述管外阳极设置在等离子流出口上,所述等离子发生器主体的底部设置有驱动装置主体,所述驱动装置主体底部设置有驱动履带。
  • 一种移动层流等离子发生器
  • [实用新型]低温等离子废气处理系统-CN201620163913.X有效
  • 谭培 - 浙江澳蓝环保科技有限公司
  • 2016-03-03 - 2016-07-27 - B01D53/32
  • 本实用新型公开了一种低温等离子废气处理系统,其包括:除尘器、等离子除臭系统和风机,废气通过废气入口管道进入到除尘器中,经过除尘后排至等离子除臭系统中,经过除臭后,在风机的作用下,达标气体通过气体排出管道排出等离子除臭系统外;前述等离子除臭系统由多套等离子除臭设备并联组成,每套等离子除臭设备又由多个等离子除臭装置先串联再并联组成。本实用新型的有益之处在于:废气先经除尘器除尘,再经等离子除臭系统除臭,并且该等离子除臭系统由多套等离子除臭设备并联组成,每套等离子除臭设备又由多个等离子除臭装置先串联再并联组成,所以本实用新型的废弃处理系统显著提升了废气的处理效果
  • 低温等离子废气处理系统

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