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[发明专利]等离子体观测系统和等离子体观测方法-CN202110054765.3在审
发明人：山崎良二;宫下大幸;佐藤幹夫 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-01-15 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体观测系统和等离子体观测方法，用于进行处理容器内的等离子体的观测地点的确定和观测地点的等离子体的状态的判定。所述等离子体观测系统具有：等离子体处理装置，在该等离子体处理装置的处理容器内通过等离子体对基板进行处理；以及测定装置，其测定所述等离子体，其中，所述等离子体处理装置具有多个观测窗，所述多个观测窗能够观测所述处理容器中等离子体的发光状态，所述测定装置具有：受光器，其从多个观测窗接受在所述处理容器内交叉的多个光；以及控制部，其基于接受到的多个光来进行等离子体的观测地点的确定和所述观测地点的等离子体的状态判定。
等离子体观测系统方法

[发明专利]基于光辅助的等离子增强光电性能二次电池-CN202110711466.2在审
发明人：徐璟;陈滢滢;夏晖;夏求应;昝峰;耿浩;贾春 -专利权人：南京理工大学
申请日： 2021-06-25 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： H01M4/62 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于光辅助的等离子增强光电性能二次电池。所述的二次电池采用等离子体复合含锂半导体材料或自身具有等离子效应的无锂半导体材料为正极，所述的等离子体复合含锂半导体材料为具有等离子体效应的纳米材料掺杂含锂半导体材料所得，且具有等离子体效应的纳米材料与半导体材料具有完全重合或部分重合的光响应范围正极捕获入射光，并在正极表面产生等离子体来增加外部使用电子总数，提高电池的比容量。本发明的二次电池在等离子体增强作用下，能有效降低电池界面抗阻，增加电极材料的电子电导率，从而提高电池容量。
基于辅助等离子增强光电性能二次电池

[发明专利]可移式等离子箱单室大批量镀膜的方法-CN200710005090.3无效
发明人：李沅民;马昕 -专利权人：北京行者多媒体科技有限公司
申请日： 2007-02-14 - 公布日： 2008-08-20 - 主分类号： C23C16/513 文献下载
摘要：本发明公开了一个制造大面积薄膜硅光伏器件的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备和方法。采用能承载多个电极和大量基板的可移式等离子箱并使用单一真空室，制造基于薄膜硅p－i－n型光伏器件的方法包括以下步骤：将基板放入等离子箱，然后让等离子箱在一个预热炉中加热，再将等离子箱放入PECVD系统中的单一真空室里，在固定的等离子箱中将硅薄膜沉积在基板上，然后把等离子箱从PECVD真空室移入一个降温室中，最后从等离子箱中取出基板。等离子箱可在下一批基板处理之前被清理。这是一个简单、高产出的生产低成本高效率光伏器件的方法。
可移式等离子箱单室大批量镀膜方法

[发明专利]具有远程等离子体源和DC电极的原子层蚀刻系统-CN201780005093.9在审
发明人：卢多维克·戈代;薛君;桑基·纳姆 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-01-04 - 公布日： 2018-08-21 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：脉冲式等离子体产生和针对等离子体残光的后续偏压应用可提供改良的ALE特性。本文中所述的设备提供了从一或多个等离子体源产生等离子体和偏压等离子体残光以促进从基板移除材料。
等离子体原子层残光远程等离子体源蚀刻等离子体产生偏压等离子体等离子体源基板移除设备提供蚀刻系统脉冲式改良应用

[发明专利]一种光等离子产生装置、消毒柜及消毒方法-CN201910702265.9有效
发明人：马少云;李枫;王涛;韩军;郑永波;王凯 -专利权人：青岛海尔智慧厨房电器有限公司;海尔智家股份有限公司
申请日： 2019-07-31 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： A61L2/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种光等离子产生装置、消毒柜及消毒方法，光等离子产生装置包括反光罩、光等离子管及风扇，光等离子管发出的光以及风扇吹出的风均经反光罩上的开口流出至消毒柜的灭菌空间内进行灭菌。消毒柜工作时，光等离子产生装置和第二加热件同时工作，不仅可以实现无死角、无异味、高效杀菌，而且将杀菌与烘干同时进行，能够大大缩短消毒时间。
一种等离子产生装置消毒柜消毒方法

[实用新型]一种光等离子产生装置及消毒柜-CN201921225301.9有效
发明人：马少云;李枫;王涛;韩军;郑永波;王凯 -专利权人：青岛海尔智慧厨房电器有限公司;海尔智家股份有限公司
申请日： 2019-07-31 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： A61L2/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光等离子产生装置及消毒柜，光等离子产生装置包括反光罩、光等离子管及风扇，光等离子管发出的光以及风扇吹出的风均经反光罩上的开口流出至消毒柜的灭菌空间内进行灭菌。消毒柜工作时，光等离子产生装置和第二加热件同时工作，不仅可以实现无死角、无异味、高效杀菌，而且将杀菌与烘干同时进行，能够大大缩短消毒时间。
一种等离子产生装置消毒柜

[发明专利]蚀刻工艺中用于硬化光致抗蚀剂的方法和组合物-CN03819178.4无效
发明人： Y·K·泰勒;W·阮;C·G·N·李 -专利权人：兰姆研究有限公司
申请日： 2003-07-31 - 公布日： 2005-10-26 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：公开了一种蚀刻其上具有光致抗蚀剂材料图形的晶片的方法。该方法包括以含溴的等离子体硬化光致抗蚀剂材料。然后进行晶片的主蚀刻。还公开了一种用于硬化晶片上的光致抗蚀剂材料的图形的方法。该硬化方法包括提供含溴的等离子体并将光致抗蚀剂材料暴露在等离子体中，使得光致抗蚀剂材料下面的晶片的层不被蚀穿。在高密度等离子体处理装置中用于硬化晶片上的光致抗蚀剂材料的等离子体组合物包括溴。
蚀刻工艺用于硬化光致抗蚀剂方法组合

[发明专利]在蚀刻期间利用光谱使RF切换与气体切换同步-CN201280027855.2有效
发明人：许青;卡梅利娅·鲁苏;布赖恩·K·麦克米林;亚历山大·M·帕特森 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2012-05-30 - 公布日： 2014-03-19 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：提供了用于在等离子体处理腔室中将特征蚀刻到蚀刻层中的方法。提供了光定时沉积阶段，其包括：提供沉积阶段气体流；检测所述等离子体处理腔室内沉积气体的存在；提供由所述等离子体处理腔室中的沉积阶段气体形成等离子体的RF能；以及停止所述沉积气体流入等离子体处理腔室。提供了光定时蚀刻阶段，包括：提供蚀刻气体流；检测等离子体处理腔室内蚀刻气体的存在；提供用于由等离子体处理腔室中的蚀刻气体形成等离子体的RF能；以及停止蚀刻气体流入等离子体处理腔室。
蚀刻期间利用光谱 rf 切换气体同步

[发明专利]一种基于等离子体同位素频谱偏移的信号加密传输系统-CN202211013190.1有效
发明人：周灵;周卓彦;张昕阳;高文汉;邱卓华;张仕正;李东来;潘璐恬;王帅欣 -专利权人：南京信息工程大学
申请日： 2022-08-23 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： H04B10/50 文献下载
摘要：本发明涉及信号传输技术领域，具体是一种基于等离子体同位素频谱偏移的信号加密传输系统，包括光信号调制系统发射基站和等离子体光谱同位素解密接收基站，所述光信号调制系统发射基站包括依次连接的人机交互模组一、信号调制模组、固体激光器和信号传输模组；所述等离子体光谱同位素解密接收基站包括依次连接的等离子同位素解密池、光探头、光信号处理模组和人工交互模组二。本发明只要在信号传输的两端建立基站，光信号进入接收基站后首先进入等离子同位素解密池，激发等离子体光谱由四通道等离子体光谱仪接收，而等离子体光谱的特殊性质使得每条单独的信号波长可以精确地控制在纳米甚至埃米量级
一种基于等离子体同位素频谱偏移信号加密传输系统

[发明专利]一种瞬稳态激光诱导击穿光谱检测系统-CN202010225376.8有效
发明人：赵天卓;肖红;樊仲维;聂树真;李欣;钟奇秀;赵晟海;黄文迪 -专利权人：中国科学院空天信息创新研究院
申请日： 2020-03-26 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G01N21/71 文献下载
摘要：本发明公开了一种瞬稳态激光诱导击穿光谱检测系统，包括激光光源模块、激光聚焦模块、等离子体辐射收集模块、等离子体分光及探测模块、控制电路及数据处理模块，其中：激光光源模块产生脉冲宽度微秒至秒级的激光束，激光聚焦模块将激光光源模块发射的诱导激励的激光束汇聚到被测样品的表面；被测样品产生宽光谱范围诱导等离子体散射光信号，等离子体辐射收集模块采集该光信号后，将该光信号汇聚到等离子体分光及探测模块中；等离子体分光及探测模块对汇聚来的光信号进行光谱分光，并探测获得不同波长的光谱强度数据上述系统能在瞬间实现等离子体信号的稳定发射并同时实施光谱信号采集，从而获取稳定的等离子体信号。
一种稳态激光诱导击穿光谱检测系统

[发明专利]一种等离子体显示面板及显示装置-CN202011423629.9有效
发明人：沈凯锋 -专利权人：康佳集团股份有限公司
申请日： 2020-12-08 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： G09F9/313 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体显示面板，包括光源，以及依次设置的基底、导光层和电路层，所述导光层自侧面从光源导光；其中，所述导光层包括设置在所述基底上的等离子层和覆盖在所述等离子层上的介质层；所述电路层通电后产生垂直于等离子层的磁场，控制所述导光层发光或不发光。本发明通过导光层导光，再通过电路层控制导光层的发光状态，由彩膜层实现色彩显示，在实现面板显示的同时，还精简了结构。
一种等离子体显示面板显示装置

[发明专利]等离子放电辉光的光学监控方法-CN201510915185.3在审
发明人：李志勇;徐逸明;王立民;周昭旭;黄友俊;陈彦政 -专利权人：馗鼎奈米科技股份有限公司
申请日： 2015-12-10 - 公布日： 2016-09-14 - 主分类号： G01N21/84 文献下载
摘要：一种等离子放电辉光的光学监控方法，其包含下列步骤。利用侦测器侦测等离子放电辉光，以取得数个光信号。利用感测电路撷取这些光信号，并将这些光信号转换成数个电信号。利用运算单元根据这些电信号来进行计算步骤，以获得对应等离子放电辉光的数个位置的数个光强度。利用影像重建单元根据等离子放电辉光的这些位置与对应的光强度重建等离子放电辉光的影像。运用此方法，可以非接触的方式，有效侦测出等离子放电辉光的形状、大小、温度分布、颜色分布与闪烁行为，以及相对强度、绝对强度与强度分布，因此可达到即时监控等离子处理的区域的效果。
等离子放电辉光光学监控方法

[发明专利]改善光掩模表面静电的处理方法-CN202310761491.0在审
发明人：罗嘉盈;施维;郑怀志;黄偲;张卓维;甘裕明 -专利权人：广州新锐光掩模科技有限公司
申请日： 2023-06-26 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本申请提供一种改善光掩模表面静电的处理方法，涉及光掩模的领域，其步骤如下：将光掩模进行高温烘烤和/或等离子体表面处理；其中，高温烘烤的温度在80‑200℃，等离子体表面处理采用含氟气体。通过采用高温烘烤、等离子体表面处理或者高温烘烤加等离子体表面处理的方式对光掩模表面进行除静电，能够有效的去除光掩模表面的静电现象，使得光掩模在完成去光阻步骤后，无需等待较长时间，即可进行CD‑SEM的量测
改善光掩模表面静电处理方法

[发明专利]等离子体射流速度的监测方法与设备-CN201910922191.X有效
发明人：曹进文;黄河激;孟显;潘文霞 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2019-09-26 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： H05H1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子体射流速度的监测方法与设备，其方法包括:撷取层流等离子体的多个光图案，基于输出功率与等离子体的浓度正相关由所述光图案的发光边界确定等离子体射流的射流边界;基于所述等离子体射流由射流出口到射流末端的轴向射流边界，确定层流等离子体的射流长度;由所述层流等离子体的射流长度计算出等离子体的射流平均速度，在预定不同的弧电流射流速度保持不变下，建立层流等离子体的射流长度与弧电流的关系。本发明具有等离子体射流速度测量过程简化与降低系测量统设备建置成本的效果。
等离子体射流速度监测方法设备

[发明专利]园艺补光装置及系统-CN201810431680.0在审
发明人：潘虹;何梁 -专利权人：清华四川能源互联网研究院
申请日： 2018-05-08 - 公布日： 2018-08-17 - 主分类号： A01G7/04 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种园艺补光装置及系统。园艺补光装置包括：填充有可进行等离子发光的混合填充物的等离子灯泡；与等离子灯泡连接的射频聚焦器；与射频聚焦器连接，用于发射射频能量的固态射频源，射频聚焦器用于将固态射频源发射的射频能量聚集耦合到所述等离子灯泡所处区域并形成对应电场强度的电场，以使所述等离子灯泡内填充的混合填充物被电离，同时辐射出可见光以对栽培植物进行补光；与固态射频源电性连接，用于为固态射频源提供电力能源的电源；以及与等离子灯泡连接，用于对等离子灯泡发出的光进行反射配光的反光器
等离子灯泡固态射频源补光装置聚焦器射频混合填充物园艺填充发射射频能量等离子发光光能利用率可见光电力能源电性连接聚集耦合射频能量使用寿命栽培植物植物生产智能控制电场电离反光器补光配光灯泡反射光照电源发射辐射保证