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[发明专利]多组分膜的生产装置和方法和涂布该多组分膜的工具-CN200480018486.6无效
发明人：佐藤嗣纪;北岛和男;园部胜;加藤范博;安冈学 -专利权人：株式会社不二越
申请日： 2004-06-29 - 公布日： 2006-08-02 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：一种生产装置和方法，其通过熔融蒸发类型的离子电镀方法，生产含熔点差别很大的金属组分，例如TiAlN的多组分膜，该膜具有高的材料利用效率并提供良好的膜质量。此刻，进行等离子体控制，使等离子体(7)聚焦在蒸发该材料所要求的起始区域内，然后进行等离子体控制，连续并台阶式移动和膨胀等离子体从起始的等离子体区域到最大等离子体区域，使材料的未熔融部分逐渐熔融。
组分生产装置方法工具

[发明专利]包括改进聚焦环的方法和装置-CN200480025729.9无效
发明人：迈克尔·兰蒂斯;史蒂文·T·芬克 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2004-10-19 - 公布日： 2006-10-18 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种聚焦环组件，设置为耦合到等离子体处理系统中的衬底支架，该组件包括聚焦环，聚焦环具有用于确定聚焦环的寿命的一个或更多个磨损指示器，其中聚焦环耦合到衬底支架便于聚焦环在等离子体处理系统中的自动定心。例如，安装在衬底支架上的定心环可包括定心特征，该定心特征设置为与聚焦环的配合特征相耦合。
包括改进聚焦方法装置

[发明专利]等离子体处理装置-CN202110070109.2在审
发明人：伏见彰仁 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-01-16 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种使等离子体处理的均匀性提高的等离子体处理装置。该等离子体处理装置利用用于生成等离子体的高频电力来将供给到腔室内的气体等离子体化，对基板进行等离子体处理，该等离子体处理装置具有：台，其以第一电极与第二电极分离的方式形成，该第一电极在上部载置基板，该第二电极在上部设置聚焦环且该第二电极设置于所述第一电极的周围；第一高频电源，其向所述第一电极施加主要用于吸引等离子体中的离子的第一高频电力；第二高频电源，其与所述第一高频电源独立地设置，向所述第二电极施加主要用于吸引等离子体中的离子的第二高频电力；以及控制部，其独立地控制所述第一高频电源和所述第二高频电源
等离子体处理装置

[发明专利]等离子体处理装置-CN201810040410.7有效
发明人：伏见彰仁 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-01-16 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种使等离子体处理的均匀性提高的等离子体处理装置。该等离子体处理装置利用用于生成等离子体的高频电力来将供给到腔室内的气体等离子体化，对基板进行等离子体处理，该等离子体处理装置具有：台，其以第一电极与第二电极分离的方式形成，该第一电极在上部载置基板，该第二电极在上部设置聚焦环且该第二电极设置于所述第一电极的周围；第一高频电源，其向所述第一电极施加主要用于吸引等离子体中的离子的第一高频电力；第二高频电源，其与所述第一高频电源独立地设置，向所述第二电极施加主要用于吸引等离子体中的离子的第二高频电力；以及控制部，其独立地控制所述第一高频电源和所述第二高频电源
等离子体处理装置

[发明专利]供电构造和等离子体处理装置-CN201911273973.1在审
发明人：佐佐木康晴;内田阳平 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-12-12 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种能够使等离子体的面内分布均匀化的供电构造和等离子体处理装置。供电构造具备第1连接构件组和第1端子区域。第1连接构件组由多个连接构件构成，该多个连接构件以对配置于等离子体处理装置用的处理容器内的聚焦环施加偏置电位的方式沿着聚焦环的周向配置。第1端子区域为环状，该第1端子区域与多个连接构件电连接。
供电构造等离子体处理装置

[发明专利]一种新型等离子体透镜及其制备方法-CN202211511135.5在审
发明人：张彩虹;谭博文;冯龙呈;杨圣新;范克彬;吴敬波;金飚兵;陈健;吴培亨 -专利权人：南京大学
申请日： 2022-11-29 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种新型等离子体透镜，包括石英基片和生长在所述石英基片上的金膜，所述金膜包括两组圆心重叠有半径差的半圆环狭缝，两组所述半圆环狭缝分别在圆心的两侧对称分布。本发明还公开了制备所述新型等离子体透镜的方法以及利用所述新型等离子体透镜激发太赫兹SPPs并聚焦增强的方法。本发明结构简单，通过相长干涉实现了对太赫兹SPPs的聚焦增强。
一种新型等离子体透镜及其制备方法

[发明专利]YAG:Ce荧光屏实现毛细管放电极紫外光刻光源等离子体状态检测系统-CN201310100760.5无效
发明人：徐强;赵永蓬;王骐 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2013-03-27 - 公布日： 2013-06-19 - 主分类号： G01J11/00 文献下载
摘要：YAG:Ce荧光屏实现毛细管放电极紫外光刻光源等离子体状态检测系统，涉及毛细管放电极紫外光刻光源中等离子状态检测。本发明解决了极紫外光刻光源等离子体常规检测方法价格昂贵，使用条件苛刻的问题，提出了YAG:Ce荧光屏实现毛细管放电极紫外光刻光源等离子体状态检测系统。本发明的毛细管的中心线与聚焦系统的焦点位于同一直线上，可见光CCD图像传感器设置在聚焦系统的焦点处，毛细管发出的极紫外光入射到YAG:Ce荧光屏上，YAG:Ce荧光屏将该极紫外光转换为可见光，并入射到聚焦系统，经聚焦系统聚焦后入射到可见光CCD图像传感器的光敏面上，形成光斑，可见光CCD图像传感器将采集到的光斑通过图像输出端输入到计算机。本发明适用于极紫外光刻光源等离子体状态的检测。
yag ce 荧光屏实现毛细管电极紫外光刻光源等离子体状态检测系统

[发明专利]激光焦点定位系统及将材料定位于激光焦点处的方法-CN201210431903.6有效
发明人：朱志武;程湘爱;江天;许中杰;黄良金;郑鑫;邱伟成;刘泽金 -专利权人：中国人民解放军国防科学技术大学
申请日： 2012-11-02 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： B23K26/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光焦点定位系统，包括激光器、会聚透镜和材料平移装置，激光器输出的激光束入射到会聚透镜上，经聚焦后入射到材料平移装置上装夹的光学材料表面，激光束经聚焦后产生等离子体亮点，该亮点通过光学材料表面形成一亮点镜像，另设置一可同时采集等离子体亮点和亮点镜像的图像并进行输出的CCD显微成像系统。本发明还公开了一种将光学材料定位于激光焦点处的方法：先通过调节激光器等使聚焦后输出的激光束产生一等离子体亮点；控制材料表面逐渐靠近等离子体亮点，直至形成亮点镜像；使等离子体亮点及其镜像均进入CCD显微成像系统的视场
激光焦点定位系统材料位于方法

[发明专利]等离子体轰击制备绒面氧化锌透明导电镀膜玻璃的装置-CN200910026063.3有效
发明人：赵青南;董玉红;卢秀强 -专利权人：江苏秀强玻璃工艺有限公司
申请日： 2009-03-18 - 公布日： 2009-10-28 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：等离子体轰击制备绒面氧化锌透明导电镀膜玻璃的装置在同一条轴线上依次设有屏蔽罩装置(A)、产生离子源电源引线(B)、气体离化室(C)、等离子体出口(D)、气体和离子分离区(E)、套管(M)、离子体出口(K)，屏蔽罩装置(A)套在产生离子源电源引线(B)的外部，壳体(N)套在气体离化室(C)、等离子体出口(D)、气体和离子分离区(E)的外部，电磁装置(F)套在壳体(N)的外部，法兰(I)位于套管(M)外侧，聚焦电极(H)连接在法兰(I)上，聚焦电压源(G)与聚焦电极(H)连接，聚焦等角度变动装置(L)壳体(N)的外部，气体入口(J)位于壳体(N)的外部。
等离子体轰击制备氧化锌透明导电镀膜玻璃装置

[实用新型]一种等离子体源结构-CN200920035732.9无效
发明人：赵青南;董玉红;卢秀强 -专利权人：江苏秀强玻璃工艺股份有限公司
申请日： 2009-03-18 - 公布日： 2009-12-16 - 主分类号： C03C17/23 文献下载
摘要：一种等离子体源结构在同一条轴线上依次设有屏蔽罩装置(A)、产生离子源电源引线(B)、气体离化室(C)、等离子体出口(D)、气体和离子分离区(E)、套管(M)、离子体出口(K)，屏蔽罩装置(A)套在产生离子源电源引线(B)的外部，壳体(N)套在气体离化室(C)、等离子体出口(D)、气体和离子分离区(E)的外部，电磁装置(F)套在壳体(N)的外部，法兰(I)位于套管(M)外侧，聚焦电极(H)连接在法兰(I)上，聚焦电压源(G)与聚焦电极(H)连接，聚焦等角度变动装置(L)壳体(N)的外部，气体入口(J)位于壳体(N)的外部。
一种等离子体结构

[发明专利]一种发射光谱采集装置、时间分辨光谱采集系统及方法-CN202110055141.3在审
发明人：卢璟 -专利权人：青岛金谱晟科技有限公司
申请日： 2021-01-15 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： G01N21/71 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种发射光谱采集装置、时间分辨光谱采集系统及方法，所述装置包括支撑架，准直单元，分光单元，第一光谱采集组件，所述第一收集透镜用于将第一光束聚焦耦合至第一光纤光谱仪，获得第一等离子体发射光谱；第二光谱采集组件，所述第二光谱采集组件用于将第二光束聚焦耦合至第二光纤光谱仪，获得第二等离子体发射光谱。在本申请实施例中，由于激光诱导击穿产生等离子体是一个瞬态过程，双光纤光谱仪时间差分采集，弥补了单个光纤光谱仪，在采集同一个等离子体的时间分辨光谱时时间门宽太大的问题，利用两个光纤光谱仪得到的等离子体光谱相减，可以间接地得到等离子体在微秒量级时间间隔下的时间分辨光谱。
一种发射光谱采集装置时间分辨光谱系统方法

[发明专利]一种激光诱导多点击穿标记测速方法-CN202010148428.6在审
发明人：李博;李晓峰;高强 -专利权人：天津大学
申请日： 2020-03-05 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： G01P5/20 文献下载
摘要：本发明公开一种激光诱导多点击穿标记测速方法，采用以下系统实现，所述系统包括飞秒激光器、纳秒激光器、聚焦透镜、二向色镜、轴锥镜以及CCD相机；测量过程中，产生的飞秒激光经过聚焦透镜后在目标流场中自聚焦产生一条一定长度的一维等离子体通道，该通道为预电离区域；产生的纳秒激光经二向色镜反射后与飞秒激光光束在空间上重合，再经过轴锥镜聚焦后在等离子体通道上产生零级贝塞尔光束诱发多点击穿产生用于测速的击穿等离子体亮斑，用CCD相机记录击穿等离子体亮斑的位置信息
一种激光诱导多点击穿标记测速方法

[发明专利]利用光谱分析检测角膜切削阈值的激光系统及检测方法-CN201510263392.5有效
发明人：孙辉;樊仲维 -专利权人：中国科学院光电研究院
申请日： 2015-05-21 - 公布日： 2017-10-03 - 主分类号： G01N21/63 文献下载
摘要：本发明涉及激光眼科手术技术领域，具体公开一种利用光谱分析检测角膜切削阈值的飞秒激光系统，包括样品模块、飞秒激光发射模块、激光聚焦模块、光谱分析模块；飞秒激光发射模块发射激光束，所述激光束经过激光聚焦模块聚焦，照射于所述样品模块的角膜样品上，所述角膜样品受激光诱导后发出激光诱导等离子体光信号，所述激光诱导等离子体光信号经激光聚焦模块发送至所述光谱分析模块，所述光谱分析模块对所述激光诱导等离子体光信号进行光谱分析并计算角膜本发明利用对激光诱导等离子体光信号光谱分析，确定角膜切削阈值，实现了在手术中实时、精确的确定角膜的激光切割阈值的有益效果。
利用光谱分析检测角膜切削阈值激光系统方法

[发明专利]一种基于宽带表面等离子体波的微区光谱测量装置-CN201410086293.X有效
发明人：韩璐;张斗国;陈漪恺;朱良富;王茹雪;王沛;明海 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2014-03-10 - 公布日： 2014-06-04 - 主分类号： G01N21/49 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于宽带表面等离子体波的微区光谱测量装置，主要是利用高数值孔径显微物镜与宽带径向偏振光或称径向偏振白光搭建光谱测量装置。入射宽带环形径向偏振光束被高数值孔径油浸显微物镜聚焦到金属薄膜上，激发金属薄膜上表面的宽带表面等离子体波，表面等离子体波沿界面向物镜聚焦中心传播，形成一个超衍射极限的聚焦白光光斑，即近场光斑，局域在金属薄膜上表面表面等离子体波具有很小的穿透深度，径向偏振光可实现超衍射极限聚焦光斑，其中心光强远大于入射光光强，基于此装置可获得高空间分辨率，高灵敏度和信噪比的被测样品光谱信息。
一种基于宽带表面等离子体光谱测量装置

[发明专利]聚焦环、等离子体蚀刻装置及等离子体蚀刻方法-CN200510123269.X有效
发明人：佐藤大树;小林秀行;堀口将人 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2005-11-15 - 公布日： 2006-05-24 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明提供一种聚焦环，是在利用等离子体对载置在气密性处理容器内的载置台上的基板表面进行蚀刻的等离子体蚀刻装置中使用、以围绕所述基板周围的方式设置的聚焦环。聚焦环中，在靠近其表面的内侧处，具有对该区域进行精加工，使其平均表面粗糙度Ra小到蚀刻处理时不捕捉反应生成物的程度的第一区域，在所述第一区域的外侧，具有对该区域进行a精加工，使其平均表面粗糙度R大到能捕捉所述反应生成物的第二区域第一区域和第二区域的界限，是将聚焦环组装到等离子体蚀刻装置中，利用等离子体对基板进行蚀刻时，消耗程度相对于其他部位大幅度变化的部位。
聚焦等离子体蚀刻装置方法