专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种用于FSEC赛车的行车控制方法-CN202010861641.1在审
  • 郑英杰;张毫杰 - 浙江工业大学
  • 2020-08-25 - 2020-12-15 - B60W10/08
  • 一种用于FSEC赛车的行车控制方法,包括:S1、电动方程式赛车上电:闭合低压主控开关,闭合高压主控开关后按下高压上电开关,电池继电器闭合,开始向电机控制器输送高压电;S2、电动方程式赛车进入待驶状态:在安全回路连通的情况下,按下待驶开关按钮并踩下制动踏板,电机使能,赛车进入待驶状态;S3、电动方程式赛车的模式选择:电动方程式赛车在行驶过程中可以有两种行驶模式,一种为赛场模式,另一种为练车模式,车手可以通过长按驾驶舱的模式转换开关来切换驾驶模式;S4、电动方程式赛车正常行车过程:采集加速踏板传感器、油压传感器的模拟信号和CAN总线信号,启动传感器自检环节和CAN总线断线检测环节;S5、电动方程式赛车下电。
  • 一种用于fsec赛车行车控制方法
  • [发明专利]一种改善因晶圆形变引起的套刻精度变差的曝光方法-CN202111417575.X在审
  • 王建涛;郭晓波 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2021-11-26 - 2022-02-22 - G03F7/20
  • 本发明提供一种改善因晶圆形变引起的套刻精度变差的曝光方法,对不同翘曲值的标准晶圆进行曝光,量测并获得整片标准晶圆上的套刻精度并对其进行分析和拟合,生成不同的套刻精度高阶补正子程式;建立翘曲值与套刻精度高阶补正子程式的关系;将翘曲值与套刻精度高阶补正子程式的关系输入至生产系统;曝光前量测晶圆的翘曲值,并将量测的翘曲值送入生产系统;通过生产系统中所述翘曲值与套刻精度高阶补正子程式的关系,调用与所量测的翘曲值匹配的套刻精度高阶补正子程式;利用所调用的与所量测的翘曲值匹配的套刻精度高阶补正子程式对所述晶圆进行曝光,并对其进行套刻精度量测,根据量测结果拟合出套刻精度与翘曲值的对应关系,并反馈给所述生产系统。
  • 一种改善圆形引起精度曝光方法
  • [发明专利]具有两个成像模块的成像系统-CN200780047572.3无效
  • B·H·W·亨德里克斯;G·特胡夫特;S·凯珀 - 皇家飞利浦电子股份有限公司
  • 2007-12-17 - 2009-10-28 - A61B5/00
  • 本发明涉及具有两种程式的成像系统1,所述系统包括:导管40,具有光学透镜系统50,所述光学透镜系统位于所述导管的终端部分,并与光学导引装置15a光学连接。所述成像系统还包括成像单元5,被安排用于与导管40合作进行光学成像,第一成像程式1IM和第二成像程式2IM与导管40的光学透镜系统50光学可连接。所述成像系统能够在以下述两种模式成像之间改变:(1)光学透镜系统50的第一数值孔径1NA和成像单元5的第一成像程式1IM;以及(2)光学透镜系统50的第二数值孔径2NA和成像单元5的第二成像程式2IM。因为可非常快速地执行第一和第二成像程式之间的改变,所以本发明可提供快速和灵活的活体内成像,因此,可选择第一和第二成像程式来彼此补充。
  • 具有两个成像模块系统

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