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[发明专利]一种无污染钛材碱蚀剂-CN201711074200.1在审
发明人：季雪松 -专利权人：季雪松
申请日： 2017-11-05 - 公布日： 2019-05-14 - 主分类号： C23F1/38 文献下载
摘要：本发明公开了一种新型钛材碱蚀添加剂，所述处理剂包括如下组份：30～50份的螯合剂，25～35份的增稠剂，10～20份的促进剂，10～20份的沉淀剂。碱砂工艺如下：将待钛材制品装在挂具上后先除油，再将钛材制品放入50～70℃的碱砂溶液中3～10分钟，取出钛材制品水洗二次并喷淋。
钛材产品使用沉淀剂处理剂促进剂碱蚀剂增稠剂螯合剂除油放入挂具碱蚀喷淋组份制备添加剂能耗合格率取出环境保护

[实用新型]太阳能铝边框的表面处理装置-CN202022076191.3有效
发明人：王萍 -专利权人：江阴顺源电工钢材料有限公司
申请日： 2020-09-21 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： C23G3/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及太阳能铝边框的表面处理装置，包含有从前到后依次设置的脱脂硫酸槽、第一水洗池、第一碱蚀槽、第二碱蚀槽、第二水洗池、第三水洗池、中和硝酸池、第四水洗池和第五水洗池；所述脱脂硫酸槽中的硫酸溶液浓度为38.5%；第一碱蚀槽和第二碱蚀槽中均加入氢氧化钠溶液，第一碱蚀槽和第二碱蚀槽中的氢氧化钠溶液浓度为38.5%；脱脂硫酸槽的左右两侧上方均设置有长度方向与各个水池排列方向一致的轨道，轨道上安装有行车，行车在轨道上前后移动
太阳能边框表面处理装置

[发明专利]一种同层面非均一铜厚PCB板的制造方法-CN201711054451.3有效
发明人：余同德;江庆华;余梓元;吴文跃;郑宏波 -专利权人：汕头凯星印制板有限公司
申请日： 2017-11-01 - 公布日： 2021-04-27 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本发明提供一种同层面非均一铜厚PCB板的制造方法，包括以下步骤：将PCB板进行开料、内层、合压、钻孔、沉铜、一次铜、印湿油、曝光、碱蚀、局部退膜处理、酸蚀；内层蚀刻后进行AOI、阻焊、表面处理后成型。其中，碱蚀完成C/S面2oz，酸蚀完成局部线路6oz，S/S面完成6oz。本发明通过湿膜图转碱蚀法完成线路转移，通过酸蚀法对板面图形进行局部选择性铜厚剥减，实现制作同层面导线或焊盘铜厚度差不同的PCB板，满足客户需求。
一种层面均一 pcb 制造方法

[发明专利]一种具有高解析度和优异附着力的光致抗蚀剂-CN202111109386.6在审
发明人：刘罡 -专利权人：深圳惠美亚科技有限公司
申请日： 2021-09-22 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了一种光致抗试剂，该光致抗蚀剂作为感光干膜的核心层，包含：50‑70重量份的碱溶性树脂、15‑40重量份光聚合化合物、0.2‑8.0重量份的光引发剂、0.1‑2.0重量份其他助剂。上述光致抗蚀剂制成感光干膜后，显影后具有高解析度、优异的附着力及柔韧性、退膜快等优点，有利于提升下游电子产品的良品率。
一种具有解析度优异附着力光致抗蚀剂

[发明专利]光致抗蚀剂组合物-CN201611114494.1有效
发明人：杉原昌子;西村崇;坂本宏 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2016-12-06 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含：具有由式(I)表示的结构单元的树脂：其中，R1表示氢原子、卤原子、或任选具有卤原子的C1至C6烷基，且R2表示任选具有取代基的C1至C42烃基；碱溶性树脂；酸生成剂；和溶剂。
光致抗蚀剂组合

[发明专利]光致抗蚀剂组合物和形成电子装置的相关方法-CN201510649722.4有效
发明人： P·J·拉博姆;V·吉安;S·M·科利;J·W·萨克莱;J·F·卡梅伦;A·M·郭;D·A·瓦莱里 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2015-10-09 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物和形成电子装置的相关方法。光致抗蚀剂组合物包括第一聚合物，其中至少一半的重复单元是光酸产生重复单元；和第二聚合物，其在酸的作用下在碱性显影剂中展现溶解度的变化。在所述第一聚合物中，所述光酸产生重复单元中的每一个包含光酸产生官能团和碱溶解度增强官能团。
聚合物光酸光致抗蚀剂组合物碱性显影剂电子装置碱溶解度溶解度

[发明专利]采用光敏纳米二氧化硅对光致抗蚀材料进行改性制备的方法-CN201010543525.1有效
发明人：刘晓亚;陈宁;疏亿万;安丰磊;冯玉进;张胜文;刘仁;吴育云 -专利权人：江南大学;无锡广信感光科技有限公司
申请日： 2010-11-12 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：采用光敏纳米二氧化硅对光致抗蚀材料进行改性制备的方法，属于高分子光致抗蚀材料的技术领域。本发明采用溶胶-凝胶法制得纳米二氧化硅溶胶，再用含双键的硅烷偶联剂为主要原料对其表面进行原位接枝改性，得到光敏纳米二氧化硅，并将其添加到紫外光固化碱溶性预聚物中，通过光敏纳米二氧化硅表面的双键与紫外光固化碱溶性预聚物中的双键相互作用，得到光敏纳米二氧化硅改性的光致抗蚀材料。本发明对光致抗蚀材料进行改性制备之后，可以使其感光敏感性能、尺寸热稳定性能明显提高。经过本发明改性的光致抗蚀材料可应用于印刷线路板抗蚀刻、成像油墨、液晶显示器彩色滤光片等领域。
采用光敏纳米二氧化硅对光致抗蚀材料进行改性制备方法

[发明专利]感光性树脂组合物-CN201180056670.X有效
发明人：岩岛智幸;松本拓也;末吉孝;竹之内宏美;尾见仁一 -专利权人：株式会社艾迪科
申请日： 2011-11-28 - 公布日： 2013-07-31 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明提供一种碱显影性的负型感光性树脂组合物以及使用了该感光性树脂组合物的永久抗蚀剂，所述负型感光性树脂组合物的透明性、耐化学试剂性、耐热性及碱显影性优异，而且作为永久抗蚀剂的耐热性及耐经时变化性优异，具体而言，提供一种感光性树脂组合物，其含有下述聚硅氧烷化合物以及光自由基产生剂，所述聚硅氧烷化合物是通过将特定的不饱和硅烷化合物、特定的硅烷化合物以及特定的环状硅氧烷化合物进行水解缩合反应而得到的。
感光性树脂组合

[发明专利]正型感光性树脂组合物、经图案化的抗蚀剂膜的形成方法及经图案化的抗蚀剂膜-CN202110532928.4在审
发明人：松本直纯 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2021-05-17 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及正型感光性树脂组合物、经图案化的抗蚀剂膜的形成方法及经图案化的抗蚀剂膜。本发明的课题在于提供兼具优异的焦点深度特性和优异的分辨率的正型感光性树脂组合物、使用该正型感光性树脂组合物的经图案化的抗蚀剂膜的形成方法、和由前述正型感光性树脂组合物形成的经图案化的抗蚀剂膜。本发明的解决手段为，在包含碱溶性树脂(A)和含醌二叠氮基的化合物(B)的正型感光性树脂组合物中，使用以特定比率组合包含特定结构的2种含醌二叠氮基的化合物的含醌二叠氮基的化合物(B)。
感光性树脂组合图案抗蚀剂膜形成方法

[发明专利]光致抗蚀剂组合物及图案形成方法-CN202111260293.3在审
发明人：侯希森;李明琦;J·凯茨;T·马兰戈尼;P·特雷夫纳斯三世 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2021-10-28 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：光致抗蚀剂组合物包含：酸敏感聚合物，其包含由包含酸可分解基团的第一可自由基聚合单体形成的第一重复单元和由包含羧酸基团的第二可自由基聚合单体形成的第二重复单元；包含两个或更多个烯醇醚基团的化合物，其中所述化合物不同于所述酸敏感聚合物；包含碱不稳定基团的材料；光酸产生剂；以及溶剂。所述光致抗蚀剂组合物和使用所述光致抗蚀剂组合物的图案形成方法特别地可用于在半导体制造工业中形成精细光刻图案。
光致抗蚀剂组合图案形成方法

[发明专利]一种干膜抗蚀剂-CN201410610604.8有效
发明人：李志强;李伟杰;严晓慧;周光大;林建华 -专利权人：杭州福斯特应用材料股份有限公司
申请日： 2014-11-03 - 公布日： 2018-08-14 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明公开了一种干膜抗蚀剂，主要包含A、B、C三种组分，且组分A、B、C的质量比为15‑45：0.5‑10：50‑70，其中，A组分为带有至少两个可聚合的不饱和键的单体；B组分为光引发剂；C组分为重均分子量在5000‑500000的碱溶性共聚物树脂；该干膜抗蚀剂作为刻蚀用或镀敷用的干膜抗蚀剂材料，具有特别好的附着力、更高的分辨率，以及更好的光敏性等综合性能。
一种干膜抗蚀剂

[发明专利]单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法-CN201510955723.1有效
发明人：提箸正义;长谷川幸士;片山和弘;畠山润 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2015-12-18 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：由包含该聚合物的抗蚀剂组合物，以高分辨率形成在碱显影剂中不可溶并且具有高耐蚀刻性的负型图案。
单体聚合物抗蚀剂组合图案方法

[发明专利]一种阻垢、缓蚀和环保的水处理剂-CN03137272.4无效
发明人：赵柱;张耀亨;李长伟;朱以明;王健生 -专利权人：中国石油兰州炼油化工总厂
申请日： 2003-06-03 - 公布日： 2004-04-07 - 主分类号： C02F5/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种以氨基磺酸和有机碱改性的聚天冬氨酸钠或钾为主剂同时复配葡萄酸钠和锌盐的水处理剂，其制备方法简单，同时兼备了防止结垢和缓蚀功能，是无磷、无污染的环保药剂。
一种环保水处理

[发明专利]一种光致抗蚀膜剥离液-CN202210083754.2在审
发明人：刘志强 -专利权人：千纳微电子技术（南通）有限公司
申请日： 2022-01-25 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：一种光致抗蚀膜剥离液。本发明是一种光致抗蚀膜剥离液，涉及印制电路板制造领域，主要应用于图形电镀后退膜。由于本发明使用了代用碱，可以延长剥离液的寿命，提高效率；添加了护锡剂，在退膜时避免了溶锡，可以降低镀锡厚度，节约成本。
一种光致抗蚀膜剥离

[发明专利]一种铝合金材质石化设备板材碱蚀处理用碱蚀处理液-CN201511013505.2在审
发明人：金哲;金晶;王信 -专利权人：芜湖市金宇石化设备有限公司
申请日： 2015-12-31 - 公布日： 2016-05-11 - 主分类号： C23F1/36 文献下载
摘要：本发明涉及石化设备板加工技术领域，具体是涉及一种铝合金材质石化设备板材碱蚀处理用碱蚀处理液。由25份氢氧化钠、5份月桂醇聚醚硫酸酯钠、0.5份异芒果苷、5份硫化钠、5份丙三醇和60份水制成。本发明的碱蚀处理液，其配方设计新颖、合理，特别是添加了少量的异芒果苷，可以显著提高碱蚀处理液的处理效率，它能够有效的防止偏铝酸钠的累计而发生水解并沉淀，以便获得高质量的细致的砂面。
一种铝合金材质石化设备板材处理用碱蚀