专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种具有电磁屏蔽的天线装置-CN201611082156.4在审
  • 王汉清 - 南通沃特光电科技有限公司
  • 2016-11-30 - 2017-02-15 - H01Q1/52
  • 本发明提供了一种具有电磁屏蔽的天线装置,包括中介载板,具有相对的上表面和下表面;位于所述上表面的凹槽;位于所述凹槽中的倒装芯片,所述芯片具有两个射频元件;位于所述下表面的接地层,所述接地层由在所述下表面的下导电图案隔为两部分,所述两个射频元件分别电连接到所述接地层的两部分。本发明利用隔开的接地层可最大程度的减小两射频元件间的电磁干扰,并且利用载板的侧面的导电层进行二次电磁屏蔽,进一步弱化外界的电磁干扰;在芯片设置隔离沟槽,防止两射频元件内部的电磁耦合。
  • 一种具有电磁屏蔽天线装置
  • [发明专利]一种油井堵水用的硅酸盐堵剂及其使用方法-CN201210283454.5有效
  • 郑力军;王兴宏;张荣;郭方元;杨海恩;朱家杰 - 中国石油天然气股份有限公司
  • 2012-08-09 - 2016-11-02 - C09K8/467
  • 本发明公开了一种油井堵水用的硅酸盐堵剂及其使用方法,该硅酸盐堵剂包括以下重量百分含量的组分:通用硅酸盐水泥:8‑12%,微粉:1‑3%,水玻璃:0.3‑0.7%,木质素磺酸钠:0.01~0.03%,其余为水该油井堵水用的硅酸盐堵剂的使用方法,包括以下步骤:在搅拌过程中,按照配比依次将水玻璃、木质素磺酸钠和微粉加入装好水的搅拌罐中,搅拌均匀得到混合液;然后边搅拌,边向混合液中加入通用硅酸盐水泥,即形成硅酸盐堵剂基液;将硅酸盐堵剂基液注入地层裂缝中。本发明的硅酸盐堵剂具有水灰比高、泵注性好、初凝时间长、终凝后强度高,有较好的耐水冲刷性等优点,与地层本身物性相似,能达到油井堵水的施工要求,其性能适合于非均裂缝性油藏。
  • 一种油井堵水用硅酸盐及其使用方法
  • [发明专利]一种碎屑岩储层分级评价方法-CN202110993930.1有效
  • 李阳;徐耀辉;文志刚;张金亮 - 长江大学
  • 2021-08-27 - 2023-03-03 - E21B49/00
  • 本发明公开一种碎屑岩储层分级评价方法,涉及储层分级评价技术领域,以解决没有统一的储层分级评价标准的问题。所述分级评价方法包括将控制储层质量的各个具体的参数总结归纳为物源因素、沉积因素、成岩因素和地层压力因素4大因素,再基于物源因素、沉积因素、成岩因素和地层压力因素对研究区储层进行分级评价,既能够综合反映储层质量控制参数本发明提供的碎屑岩储层分级评价方法用于进行碎屑岩储层分级评价。
  • 一种碎屑岩分级评价方法
  • [发明专利]一种卫星定位天线及测试板-CN202310861625.6在审
  • 顾爱琴 - 普尔思(苏州)无线通讯产品有限公司
  • 2023-07-13 - 2023-09-19 - H01Q1/50
  • 本申请提供了一种卫星定位天线及测试板,该卫星定位天线包括:第一天线走线层、第一介层、第二天线走线层、第二介层和馈电层;第一介层的介电常数大于第二介层的介电常数;馈电层包括地层和馈电点;地层接地;馈电点为天线端口;第一介层和第二介层包括多个孔洞;第一天线走线层包括多个天线主辐射体,天线主辐射体通过第一介层的孔洞和第二介层的孔洞连接馈电点;第一天线走线层和第二天线走线层包括多组天线寄生分支;天线寄生分支通过第一介层的孔洞和/或第二介层的孔洞连接地层
  • 一种卫星定位天线测试
  • [发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN202110234823.0在审
  • 村木雄介 - 东京毅力科创株式会社
  • 2021-03-03 - 2021-09-10 - H01L21/3065
  • 本发明提供一种基板处理方法和基板处理装置,在交替地层叠有层和锗层的基板的处理中恰当地对作为绝缘膜的间隔膜进行去除。在交替地层叠有膜和锗膜的基板的处理方法中,至少在所述膜和所述锗膜的侧面形成有低介电常数的间隔膜,所述基板处理方法包括以下工序:通过使用远程等离子体被进行了自由基化的含氧气体来在所述间隔膜的表层形成氧化膜
  • 处理方法装置

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