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- [发明专利]一种高能离子束基板处理及真空蒸发镀膜设备及方法-CN201410642838.0在审
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邵海平
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邵海平
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2014-11-13
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2015-02-25
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C23C14/34
- 本发明涉及真空蒸发镀膜设备领域,具体涉及一种高能离子束基板处理及真空蒸发镀膜设备及方法。包括对装有基板的真空腔体抽真空至4.5X10-3Pa至5.5X10-3Pa;对基板表面进行离子清洗;将真空腔体内压强调整至4.5X10-1Pa至5.5X10-1Pa,并对清洗后的基板表面通过中频Si靶生生成一层厚度为8nm至12nm的SiO2缓冲层;在真空度为7X10-1Pa至9X10-1Pa下在具有SiO2缓冲层的基板表面通过蒸发镀膜镀上一层厚度为15nm至25nm的防污层本发明通过在设置离子发生机构对基板首先进行离子清洗,以便而后在处理后的基板之上通过中频Si靶溅射生成一层SiO2缓冲层层缓冲层,SiO2缓冲层的亲和力强,能使防污层与基板牢固的结合在一起
- 一种高能离子束处理真空蒸发镀膜设备方法
- [实用新型]一种防倒吸液环真空装置-CN201621202996.5有效
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刘柳兵;王为民;蒋永飞;巫秋萍
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丽珠集团福州福兴医药有限公司
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2016-11-08
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2017-04-26
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F04D17/18
- 本实用新型涉及真空系统领域,目的在于提供一种防倒吸液环真空装置,所述防倒吸液环真空装置,包括液环真空泵、真空缓冲罐、连接管道、电源和控制开关,连接管道的一端与液环真空泵的吸气口相连,连接管道的另一端与真空缓冲罐相连,真空缓冲罐的出气口上设有真空泄放阀,真空泄放阀和液环真空泵分别与控制开关电连接,控制开关与电源电连接。本实用新型的有益效果在于真空泄放阀与液环真空泵连接至同一电源并采用同一控制开关和电源进行控制,当液环真空泵断电时,真空泄放阀失电打开,真空缓冲罐里的气体泄放,有效的从源头上制止液环真空泵腔体内的液体倒流至物料系统中,防止液环真空泵中的水、油等对物料的污染。
- 一种防倒吸液环真空装置
- [发明专利]氧化物缓冲层及其制备方法-CN200910052051.8无效
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范峰;鲁玉明;周文谦;刘志勇;蔡传兵
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上海大学
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2009-05-26
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2009-10-21
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H01B12/04
- 本发明公开一种氧化物缓冲层及其制备方法,氧化物缓冲层的化学式为YxCe1-xO2-0.5x,其中,0.2≤x≤0.8。氧化物缓冲层的制备方法包括:A.金属靶材的制备;B.金属基底的清洗和固定;C.气路清洗;D.直流反应溅射腔体的气压调制,其中,对直流反应溅射腔体抽真空,直至背底真空达到10-5Pa或以下;接着通入体积比为Ar∶H2=19∶1的混合气体,直至直流反应溅射腔体压强达到1~10Pa;E.预溅射;F.正式溅射。通过上述方法制备的氧化物缓冲层具有高度的双轴织构、低表面粗糙度,且厚度得到较大提高,能够满足YBCO(YBa2Cu3O7-x)高温超导层的外延生长需要
- 氧化物缓冲及其制备方法
- [发明专利]压板真空室-CN201210201634.4无效
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唐玮
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唐玮
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2012-06-06
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2013-12-25
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B28B3/04
- 本发明涉及板材成型技术领域,压板真空室,包括压头、底座,压头位于底座上方,压头可相对于底座升降,压头下方设置有密封圈,压头降下时,密封圈内侧与压头和底座之间形成密闭腔体,坯料及模具被罩闭在密闭腔体中,压头上设有由外界连通至密闭腔体的抽真空管本技术方案,设在压头和底座之间的密封圈,具有密封、承压、缓冲与减振、吸音与隔音等多种功能;减少了密闭腔体容积,有利于缩短抽真空的时间、减少能耗、提高生产率、改善压板的产品质量;主体钢结构仅为压头和底座两大构件本发明压板真空室可广泛应用于人造板材真空压制成型的压板设备中。
- 压板真空
- [实用新型]真空腔体-CN202223239783.8有效
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熊凯;户家周;杨元才;杨喆
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上海福宜真空设备有限公司
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2022-12-02
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2023-03-28
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C23C14/00
- 本实用新型涉及一种真空腔体,采用了真空腔体的上方设置顶板;在真空腔体的下方设置底板;在顶板和底板的中心轴线上设置抽气接口法兰;在真空腔体的一侧设置腔体上门框;腔体上门框将真空腔体分割成一半圆;抽气接口法兰的两侧,沿着顶板和底板的边缘设置若干个腔体侧壁结构;在腔体侧壁结构和腔体侧壁结构之间设置腔体侧壁焊接法兰。腔体侧壁焊接法兰和腔体侧壁结构均为先折弯得到的,腔体侧壁焊接法兰和腔体侧壁结构可以预制,将整个的半圆的腔体结构分割成若干块;并且不需要焊完后再加工,然后才在腔体侧壁上焊接法兰,其可直接焊接,既节省了材料也大大降低了腔体的加工成本
- 空腔
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