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[发明专利]基于近场直写技术的全定制化创伤敷料制备系统及方法-CN202211248972.3在审
发明人：张烜志;陈桪;许奕杨;谢明辉;封淇耀;王嘉逸;张荣光;陈新 -专利权人：广东工业大学
申请日： 2022-10-12 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： A61F13/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于近场直写技术的全定制化创伤敷料制备系统及方法，包括3D伤口扫描仪、近场直写单元、高压发生器和处理单元；近场直写单元包括Z轴升降模组、静电纺丝直写针组件、高清工业相机、XY轴移动模组和收集板；收集板设在XY轴移动模组的活动端，Z轴升降模组设在收集板的上方，静电纺丝直写针组件设在Z轴升降模组的升降端；本发明的制备系统能根据患者的伤口形状打印出相应的具有独特三维结构的医用敷料，并可根据伤口的恢复程度选择敷料所搭载的药物
基于近场技术定制创伤敷料制备系统方法

[实用新型]一种打印设备-CN201822241764.6有效
发明人：曹志强 -专利权人：北京梦之墨科技有限公司
申请日： 2018-12-29 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： B22F3/115 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种打印设备，涉及打印技术领域；该打印设备包括直写式打印头，用以通过接触的方式在印制基底上进行打印作业；与所述直写式打印头配合的压力调节机构，用以将所述直写式打印头与所述印制基底之间的第一接触压力调节至第二接触压力；所述直写式打印头以所述第二接触压力在印制基底上进行打印作业。本实用新型通过对直写式打印头设置压力调节机构，可以满足不同接触压力需求的印制，保障良好的印制效果，提高打印机的可靠性和稳定性。
打印头直写印制打印设备接触压力基底压力调节机构本实用新型打印作业接触压力调节打印机打印配合

[发明专利]一种智能直写笔-CN201711159904.9有效
发明人：杨春燕;易锟;李文军 -专利权人：广东工业大学
申请日： 2017-11-20 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： G06F3/0354 文献下载
摘要：本发明公开了一种智能直写笔，包括笔帽、笔后端、笔芯、笔中端和笔前端。其中，智能直写笔微处理器用于处理中波长红外线接收器接收的中波长红外信号，在实现书写的同时，准确判断智能直写笔与笔帽的相对位置。智能直写笔中的第一中波长红外线发射器和第二中波长红外线发射器向外发射1.5‑5.6微米波长段的中波长红外线，中波长红外线对人体和眼睛安全无害；同时，该智能直写笔结构简单，携带、使用方便，自配可充电式电池，适用于初中及其以上人群在任意场合、任意环境下使用，另一方面，由于该智能直写笔在设计中充分结合了具体使用中的情况，使得书写本或纸张可以在不印刷格子情况下实现直写，使用方便，对人体无害且实用性强，适合大范围推广
一种智能直写笔

[发明专利]多光束激光并行直写光栅的装置及光栅直写方法-CN201110188988.5无效
发明人：麻健勇;曹武刚;周常河;朱锋;曹红超 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2011-07-07 - 公布日： 2011-11-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种多光束激光并行直写光栅的装置及光栅直写方法，包括刻写光路、探测光路和控制模块三部分，其特点是在刻写光路中设置了达曼光栅分光器件，使刻写光栅的效率比传统的单光束激光直写装置提高了几十倍。
光束激光并行光栅装置方法

[发明专利]一种纤维增强复合水凝胶人工血管结构及其成型方法-CN201910023769.8在审
发明人：刘媛媛;汪羽;王斌;蒲华燕;罗均;谢少荣;彭艳 -专利权人：上海大学
申请日： 2019-01-10 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： A61L27/40 文献下载
摘要：本发明公开了一种纤维增强复合水凝胶人工血管结构及其成型方法，其中人工血管结构由内向外依次包括：静电直写纤维层一、静电纺丝层一、水凝胶层一、静电直写纤维层二、水凝胶层二和静电纺丝层二；静电直写纤维层一沿血管轴向平行排列；静电直写纤维层二沿血管壁螺旋交叉。
人工血管结构静电纤维层直写复合水凝胶静电纺丝水凝胶层纤维增强成型生物相容性力学性能血管细胞由内向外顺应性血管壁血管轴降解生长

[发明专利]基于双光子吸收效应的光刻胶组合物及系统-CN202210392310.7在审
发明人：匡翠方;邱毅伟;曹春;关玲玲;沈小明;夏贤梦 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2022-04-15 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明属于光刻胶、激光直写和显微成像技术领域，并公开了一种基于双光子吸收效应的光刻胶组合物及系统，包含光刻胶组合物、激光直写和受激发射损耗成像方法及其系统。所述光刻胶组合物在进行飞秒激光直写和显影后具有较强的荧光效应。激光直写样品无需镀金，通过STED显微镜来进行荧光成像，实现微纳结构的无损分析。
基于光子吸收效应光刻组合系统

[发明专利]陶瓷无模直写的3D打印方法及系统-CN202010670321.8有效
发明人：吕琳;刘文强;周宇;钟凡超;闫鑫 -专利权人：山东大学
申请日： 2020-07-13 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： G06F17/00 文献下载
摘要：本申请公开了陶瓷无模直写的3D打印方法及系统，包括：基于输入的第一轮廓曲线、第二轮廓曲线、轨迹曲线和设定中心点，生成初始扫掠曲面；将初始扫掠曲面，映射到实际打印坐标系中，得到扫掠曲面模型；对扫掠曲面模型，计算陶瓷无模直写往复式打印路径；对扫掠曲面模型，计算陶瓷无模直写的陶瓷浆料的挤出量；完成扫掠曲面模型陶瓷无模直写的3D打印。
陶瓷无模直写打印方法系统

[发明专利]一种基于等离子体表面改性的直写喷头、包括其的直写系统装置及直写方法-CN202110244743.3在审
发明人：杨灿辉;李啸天;张平;王慧如 -专利权人：南方科技大学
申请日： 2021-03-05 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： B29C64/209 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于等离子体表面改性的直写喷头、包括其的直写系统装置及直写方法，所述的直写喷头包括安装板以及设置于所述安装板上的驱动组件，所述的驱动组件上并排竖直设置有等离子体喷头和墨水注射器；所述的驱动组件用于带动所述的等离子体喷头沿竖直方向移动和本发明提供的直写喷头能够减少掩膜的浪费，降低人工的参与程度，减小时间成本，可以采用更细的线条绘制图案，从而提升制作效率和图案精度，实现了程序化、自动化和集成化的图案绘制。
一种基于等离子体表面改性喷头包括系统装置方法

[发明专利]一种基于等分因子的直写式光刻机曝光方法-CN201910815567.7有效
发明人：赵美云 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2019-08-30 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种基于等分因子的直写式光刻机曝光方法，可解决当前直写式光刻机曝光技术的直写式光刻机的最小特征图形的解析能力和图形分辨能力较低的技术问题。本发明采用等分因子技术，将直写式光刻机的光刻版图进行等分，然后对数据进行栅格化并进行重组，使得DMD数字微镜在每次进行刷新时，加载不同时刻的光刻数据，从而完成曝光；取代了传统的完全依赖光刻机物镜倍率来提升最小特征图形解析的能力和图形精细度本发明通过等分因子提升了直写式光刻机的最小线宽的解析能力，同时增加了写式光刻机的产能。
一种基于等分因子直写式光刻曝光方法

[发明专利]一种基于欧拉图的激光直写加工多胞结构的路径优化方法-CN202011305799.7有效
发明人：顾忠泽;王琼;顾洪成;丁海波;游萌;刘潇阳;刘诗越;曹猛;樊世豪;陈喆鑫;唐洵睿 -专利权人：东南大学
申请日： 2020-11-19 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于欧拉图的激光直写加工多胞结构的路径优化方法，选择目标多胞结构的最小重复组织作为结构单元；结构单元自重复组装构成目标无向图，目标无向图包含所有直写加工路径；计算目标无向图中各顶点度数，统计目标无向图中为奇点的顶点个数；根据统计奇点数选择起点；根据目标无向图和起点生成欧拉回路；根据统计奇点数，生成欧拉最优路径；将欧拉最优路径构造为激光直写加工路径。本发明基于欧拉回路，通过直写加工方式制造目标多胞结构，可以显著提高使用激光直写方式加工晶体结构材料的打印速度和打印质量。
一种基于欧拉图激光加工结构路径优化方法

[发明专利]一种改善电子束直写曝光邻近效应的方法-CN202010614295.7在审
发明人：顾晓文;郁鑫鑫;周建军;钱广 -专利权人：中国电子科技集团公司第五十五研究所
申请日： 2020-06-30 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种改善电子束直写曝光邻近效应的方法，包括如下步骤：对设计的初始版图进行处理，根据电子束曝光的剂量经验对同一步直写曝光的版图图层进行分层，相同剂量的列为一层，每个图形分割为3个图层，对于相邻的图形则分为两组单独的3个图层；在衬底材料上依次涂覆黏附剂、电子束光刻胶和导电胶；采用分层处理的版图进行电子束直写程序编制，并进行直写曝光；利用显影制备出电子束胶的掩膜图形，实现图形的精确加工。本发明采用简单布尔运算方法实现版图的分层处理，并采用不同的剂量进行电子束直写曝光，实现图形的精确加工；在涂胶上针对电子束工艺，增加一层导电胶，有效解决衬底材料的导电性差的问题，同时降低直写过程中的荷电效应
一种改善电子束曝光邻近效应方法

[发明专利]一种直写笔和直写装置-CN201910257020.X在审
发明人：尹涛;张金权 -专利权人：北京梦之墨科技有限公司
申请日： 2019-04-01 - 公布日： 2020-10-13 - 主分类号： B22F3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种直写笔及直写装置，涉及打印设备技术领域。其中，直写装置包括直写笔，包括笔管、笔尖、以及笔管内部的、向笔管内部提供原料的供料管，供料管自笔管的上端延伸至笔管的内部，使供料管的下端口与笔管的内腔连通构成连通器；笔管设有测压气口；物料盒，用以存放原料，其上具有出料口和调节气口，其出料口与供料管的上端口连通；压力闭环控制系统，分别与测压气口和调节气口连通，维持直写笔的笔尖处恒定的出墨压力。本发明通过将直写笔的内部打造成连通器结构，然后配合压力闭环控制系统，将笔管内腔中的原料液面保持在恒定状态，从而维持笔尖处的出墨压力在稳定水平，解决了出墨效果不稳定的问题，提高了装置的可靠性和稳定性。
一种直写笔装置

[发明专利]一种直写曝光光刻系统-CN202210340646.9在审
发明人：柯华恒;黄燕燕;王笑冰;李洪江;梁德文 -专利权人：深圳市深大极光科技有限公司
申请日： 2022-04-02 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请提供的直写曝光光刻系统，包括:计算机、控制器、光源、光功率调制器、激光匀光准直器、第一偏振调制器、第一偏振分光镜、激光扩束器、第一反射镜、空间光调制器、第一中继透镜、第二偏振分光镜、第二偏振调制器、第二反射镜、第三偏振分光镜、第三偏振调制器及第四偏振调制器、运动轮盘、第一光刻聚焦物镜、第二光刻聚焦物镜、感光材料、多维运动台、第二中继透镜及CCD探测器，本申请提供的直写曝光光刻系统，综合高效率大幅面图形化投影直写与高分辨无缝激光束直写两种直写技术，将两种直写技术混合光刻可提高光刻效率和降低生产制造成本。
一种曝光光刻系统

[发明专利]一种提高激光直写碳基超级电容器比电容的方法-CN202210798875.5在审
发明人：王树同;黄斐;张弘 -专利权人：四川大学
申请日： 2022-07-08 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： H01G11/86 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高激光直写碳基超级电容器比电容的方法，属于电容器技术领域。本发明提供的方法包括以下步骤：(1)利用静电纺丝制备纤维膜；(2)利用真空高温热处理纤维膜；(3)利用激光直写诱导碳基纤维，其具有高导电性；以上激光直写碳基纤维材料作为电极，组装得到比电容提高的激光直写碳基电容器本发明通过对前驱体材料进行纺丝、预热以及激光直写，能够获得高导电性的碳基材料，同时纤维中的空隙有效提高了离子迁移率，以此能有效提高激光直写碳基电容器的比电容；同时本发明提供的方法克服了传统方法操作复杂、
一种提高激光直写碳基超级电容器电容方法

[发明专利]一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的方法与装置-CN202310017454.9在审
发明人：杨臻垚;刘秋兰;张晓依;邱毅伟;匡翠方;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-01-06 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G02B21/00 文献下载
摘要：一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的方法，通过在光刻胶中掺杂可以闪烁的荧光染料，利用边缘光抑制效应的双光束实现高精度激光直写，以及利用随机光重构显微方法进行超分辨成像。一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的装置包括进行高精度激光直写的两个光源和进行超分辨显微成像的另两个光源；其中，前者两个光源分别为使光刻胶产生光聚合过程的激发光光源和对光刻胶产生抑制聚合的抑制光源本发明通过在一个系统中集成激光直写与光学显微成像，进而同时实现超分辨刻写与成像两个功能，实现刻写结构的无损、非侵入直写光学成像，操作简便，节约成本。
一种同时实现高精度激光分辨显微成像方法装置