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[发明专利]一种电感耦合等离子体装置-CN202110643823.6在审
发明人：吴堃 -专利权人：上海邦芯半导体科技有限公司
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种电感耦合等离子体装置，包括：反应腔主体，所述反应腔主体的顶壁包括介质窗；位于介质窗顶部的电感线圈；位于介质窗顶部的若干分立的磁性元件，所述磁性元件至少被部分圈的电感线圈包围且与电感线圈分立。所述电感耦合等离子体装置能够调节反应腔主体内部的等离子体密度分度且结构简单。
一种电感耦合等离子体装置

[实用新型]一种电感耦合等离子体装置-CN202121288712.X有效
发明人：吴堃 -专利权人：上海邦芯半导体科技有限公司
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种电感耦合等离子体装置，包括：反应腔主体，所述反应腔主体的顶壁包括介质窗；位于介质窗顶部的电感线圈；位于介质窗顶部的若干分立的磁性元件，所述磁性元件至少被部分圈的电感线圈包围且与电感线圈分立。所述电感耦合等离子体装置能够调节反应腔主体内部的等离子体密度分度且结构简单。
一种电感耦合等离子体装置

[发明专利]用于膨胀热等离子体的电感耦合的系统和方法-CN200480015891.2有效
发明人：马克·谢普肯斯 -专利权人：通用电气公司
申请日： 2004-06-14 - 公布日： 2006-07-12 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种等离子体生成系统(300)，其包括用于生成热等离子体的等离子体生成设备(316)；处于所述等离子体生成设备(316)外的等离子体处理室(318)，其用于接收来自等离子体生成设备(316)的热等离子体，并且，在生成等离子体的过程中，保持等离子体处理室(318)内的压力小于等离子体生成设备(316)中的压力，从而引起热等离子体在等离子体处理室(318)内膨胀；以及用于对所述热等离子体进行电感耦合的电感系统
用于膨胀等离子体电感耦合系统方法

[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法-CN202211354572.0在审
发明人：齐藤均;佐佐木和男;植松治志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-11-01 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供能够不使用稀有气体而提高等离子体点火性的等离子体处理装置和等离子体处理方法。等离子体处理装置包括：处理容器；载置台；金属窗，其保持与处理容器电绝缘地形成处理容器的顶部，并且被接地；隔着金属窗与载置台相对的电感耦合天线，其保持与金属窗电绝缘地配置；和用于对等离子体处理进行控制的控制部，控制部能够执行：以第一电功率向载置台供给第一高频，在金属窗与载置台之间通过电容耦合使等离子体点火的第一控制；以第二电功率向电感耦合天线供给第二高频，经由金属窗通过电感耦合来维持等离子体的第二控制；和将第一高频的电功率改变为比第一电功率大的第三电功率，对被载置在载置台上的基片实施等离子体处理的第三控制。
等离子体处理装置方法

[发明专利]电感耦合型等离子体处理装置-CN201410635189.1有效
发明人：周旭升;吴狄;倪图强 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2014-11-12 - 公布日： 2018-01-02 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种电感耦合型等离子体处理装置，包括反应腔室，所述反应腔室顶部具有绝缘盖板，所述绝缘盖板具有一开口；垂直设置于所述绝缘盖板上通过所述开口与所述反应腔室连通的绝缘套筒；卷绕于所述绝缘套筒上的第一电感耦合线圈，所述第一电感耦合线圈中通入射频电流以将引入所述反应腔室的工艺气体在所述绝缘套筒内和/或其下方激发为等离子体；以及设置于所述绝缘套筒中的第一冷却元件，其与所述等离子体接触的部分具有抗等离子体涂层，所述第一冷却元件中流通冷却介质以冷却所述等离子体本发明能够降低等离子体温度，避免等离子体对基片表面损伤。
电感耦合等离子体处理装置

[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法-CN201210089311.0有效
发明人：山泽阳平 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-03-29 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法。在电感耦合型等离子体处理中有效且任意地控制在腔室内形成的环状等离子体内的等离子体密度分布。在该电感耦合型等离子体处理装置中，为了生成电感耦合等离子体而设置在介电窗(52)上的RF天线(54)在径向上被分割为内侧线圈(58)、中间线圈(60)和外侧线圈(62)。
等离子体处理装置方法

[发明专利]电感耦合等离子体线圈及等离子体注入装置-CN201110421472.0有效
发明人：窦伟;李楠;李超波;夏洋 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2011-12-15 - 公布日： 2013-06-19 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：公开了一种电感耦合等离子体线圈，包括两组折回而成的射频线圈；两组所述射频线圈的空间结构采用平面蛇形并联的方式，且在空间分布上严格对称，使得在同一线圈位置的射频电流的方向相同。还公开了一种设置有上述等离子体线圈的电感耦合等离子体注入装置。本发明提供的电感耦合等离子体线圈及其注入装置，一方面能够减少线圈中的驻波效应，增加等离子体的均匀性。另一方面能够很好地实现阻抗匹配，增加等离子体的耦合效率，降低由于过高的电压导致石英窗溅射从而造成晶片污染的可能性，还能够在大面积反应腔室中产生大面积，均匀的高密度等离子体，以满足微电子领域的实验室以及工业上的需求
电感耦合等离子体线圈注入装置

[实用新型]电感耦合等离子体线圈及等离子体注入装置-CN201120527128.5有效
发明人：窦伟;李楠;李超波;夏洋 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2011-12-15 - 公布日： 2012-08-15 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：公开了一种电感耦合等离子体线圈，包括两组折回而成的射频线圈；两组所述射频线圈的空间结构采用平面蛇形并联的方式，且在空间分布上严格对称。还公开了一种设置有上述等离子体线圈的电感耦合等离子体注入装置。本实用新型提供的电感耦合等离子体线圈及其注入装置，一方面能够减少线圈中的驻波效应，增加等离子体的均匀性。另一方面能够很好地实现阻抗匹配，增加等离子体的耦合效率，降低由于过高的电压导致石英窗溅射从而造成晶片污染的可能性，还能够在大面积反应腔室中产生大面积，均匀的高密度等离子体，以满足微电子领域的实验室以及工业上的需求
电感耦合等离子体线圈注入装置

[发明专利]等离子体处理装置和控制方法-CN202010716759.5在审
发明人：池田太郎;佐藤幹夫;镰田英纪 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-07-23 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本公开提供一种能够监视使用金属窗的电感耦合型的等离子体处理装置中等离子体的状态的等离子体处理装置和控制方法。基于本公开的一个方式的等离子体处理装置具备：主体容器；一个或多个高频天线，所述一个或多个高频天线用于使所述主体容器的内部的等离子体生成区域产生电感耦合等离子体；多个金属窗，所述多个金属窗配置于所述等离子体生成区域与所述高频天线之间，所述多个金属窗与所述主体容器绝缘，并且所述多个金属窗彼此绝缘；以及等离子体检测部，其与所述多个金属窗的各个金属窗连接，用于检测生成的等离子体的状态。
等离子体处理装置控制方法

[发明专利]一种电感耦合线圈及采用该耦合线圈的等离子体处理装置-CN200810106283.2有效
发明人：韦刚 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2008-05-12 - 公布日： 2009-11-18 - 主分类号： H01F27/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种电感耦合线圈，其包括相互并联的第一线圈支路和第二线圈支路，所述第一线圈支路包括内圈绕组部分，所述第二线圈支路包括外圈绕组部分，并且所述第一线圈支路还包括与内圈绕组部分相串联的可调电容。此外，本发明还公开了一种等离子体处理装置，其包括反应腔室，在所述反应室的上部设有介质窗，并且在所述介质窗的上方设置有上述电感耦合线圈，所述电感耦合线圈的第一端通过射频匹配器与射频电源连接，并且其第二端接地，以便在反应腔室内得到分布均匀的等离子体。本发明提供的电感耦合线圈及等离子体处理装置不仅能够在稳定放电阶段产生分布较为均匀的等离子体，而且能够在等离子体点火阶段较为容易地实现等离子体点火。
一种电感耦合线圈采用等离子体处理装置

[发明专利]具有可调相线圈组件的双模电感耦合等离子体反应器-CN201010240684.4有效
发明人：萨姆尔·班纳;瓦伦丁·N·托多罗夫;肯尼思·S·柯林斯;安德鲁·阮;马丁·杰夫·萨利纳斯;陈志刚;安库尔·阿加瓦尔;阿尼茹达·帕;王泽江 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2010-07-28 - 公布日： 2011-05-11 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供双模电感耦合等离子体反应器及其使用方法。在一些实施方式中，双模电感耦合等离子体处理系统可包括处理腔室，该处理腔室具有介质盖和设置在该介质盖上方的等离子体源组件。该等离子体源组件包括多个线圈，该线圈配置为将RF能量感应耦合至处理腔室以在其中形成并维持等离子体，用于调整施加给该多个线圈中每个线圈的RF电流的相对相的相控制器，以及耦合至该相控制器和该多个线圈的RF产生器
具有调相线圈组件双模电感耦合等离子体反应器

[发明专利]控制等离子体处理室中的蚀刻工艺的方位角均匀性-CN201680001356.4有效
发明人：弗拉迪米尔·纳戈尔尼 -专利权人：马特森技术有限公司;北京屹唐半导体科技有限公司
申请日： 2016-03-17 - 公布日： 2019-01-11 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：提供了一种用于控制等离子体处理室中的蚀刻工艺的方位角均匀性的装置、系统和方法。在一个实施方式中，等离子体处理装置可以包括等离子体处理室和布置在所述等离子体处理室之上的RF罩。介电窗可以将等离子体处理室和RF罩分开。装置可以包括布置在介电窗之上的等离子体生成线圈。等离子体生成线圈能够进行操作以在被激励时在等离子体处理室中生成电感耦合等离子体。装置还包括布置在RF罩内接近等离子体生成线圈的至少一部分的导电表面。导电表面被布置成在等离子体生成线圈被激励时在导电表面与等离子体生成线圈之间生成方位角可变电感耦合。
控制等离子体处理中的蚀刻工艺方位角均匀

[发明专利]电感耦合等离子体处理装置-CN201410054308.4有效
发明人：东条利洋;里吉务;佐佐木和男 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-02-18 - 公布日： 2017-07-04 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供能够使用分割型电介质窗对大型被处理基板进行均匀的等离子体处理的电感耦合等离子体处理装置。本发明为对矩形形状的基板实施电感耦合等离子体处理的电感耦合等离子体处理装置，包括收纳基板的处理室；用于在处理室内的配置基板的区域生成电感耦合等离子体的高频天线；和配置在生成电感耦等离子体的生成区域与高频天线之间
电感耦合等离子体处理装置

[实用新型]一种提高电感耦合等离子体光谱仪测试效率的辅助装置-CN202220206277.X有效
发明人：洪光辉;余建新;王晴晴;徐超;崔喜平;杨磊;李雪 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2022-01-25 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： G01N21/73 文献下载
摘要：一种提高电感耦合等离子体光谱仪测试效率的辅助装置，所述辅助装置包括雾化室(2)、震荡混合组件(3)、提取组件(4)和N根样品提取管(5)，N为正整数。本实用新型提供一种提高电感耦合等离子体光谱仪测试效率的辅助装置，通过优化传统电感耦合等离子体光谱仪的进液系统，将原有的单一溶液进液端改变为多端口同时进液，可以使电感耦合等离子体光谱仪实现多样品同时输出元素含量测试
一种提高电感耦合等离子体光谱仪测试效率辅助装置

[发明专利]一种金属离子标记的免疫反应单脉冲检测方法-CN201810395515.4有效
发明人：林斯 -专利权人：天津华科泰生物技术有限公司
申请日： 2018-04-27 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： G01N33/53 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属离子标记的免疫反应单脉冲检测方法，通过采用电感耦合等离子体或微波等离子体质谱分析技术实现了单脉冲信号检测，通过采用金属纳米颗粒标记免疫反应，进一步利用电感耦合等离子体或微波等离子体质谱分析技术检测标记免疫反应的金属离子的脉冲信号
一种金属离子标记免疫反应脉冲检测方法