专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]采用硅烷作用形成图形的方法-CN93112925.7无效
  • 金铁洪;韩牛声 - 三星电子株式会社
  • 1993-11-08 - 2001-07-11 - G03F7/075
  • 一种形成图的方法,通过使用硅烷光刻胶膜使工艺简化,保持了多层光刻胶膜工艺所具有的分辨率提高效果,其中在基片上形成第一光刻胶层,并使基片表面部分硅烷、由此形成硅烷层。然后在硅烷层上形成第二光刻胶层,通过设有予定图形的光掩模对其曝光。显影之后形成第二光刻胶图形。随后以第二光刻胶图形作为蚀刻掩模,对硅烷层深蚀刻,形成硅烷图形。之后氧化硅烷图形,利用氧化的硅烷图形蚀刻第一光刻胶层,形成第一光刻胶图形。$#!
  • 采用硅烷化作形成图形方法
  • [发明专利]青霉素和头孢菌素的制备方法-CN99127526.8无效
  • V·沙提列斯;J·狄亚戈;J·路迪斯彻 - 生化企业
  • 1995-11-20 - 2003-10-15 - C07D499/12
  • 本发明涉及制备除羟氨苄青霉素之外的7-氨基酰基-去乙酰氧基-头孢菌素或6-氨基酰基青霉素的方法,该方法包括应用一种适合的酰化试剂对通过6-氨基青霉烷酸或7-氨基-去乙酰氧基头孢烷酸的硅烷而制备成的硅烷的6-氨基青霉烷酸或硅烷的7-氨基-去乙酰氧基-头孢烷酸进行酰基反应。本发明还涉及羟氨苄青霉素的制备方法,该方法包括应用一种混合酸酐和/或一种适合的酰化通过对6-氨基青霉烷酸或7-氨基-去乙酰氧基-头孢烷酸进行硅烷反应而制备成的硅烷的6-氨基青霉烷酸或硅烷
  • 青霉素头孢菌素制备方法

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