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- [发明专利]清洗腔室-CN202310712947.4在审
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梁家齐;赵宏宇;张敬博;王延广
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北京北方华创微电子装备有限公司
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2021-11-19
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2023-09-12
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B08B15/02
- 本发明公开一种清洗腔室，包括腔室本体、排风箱体、调节机构和排液装置；排风箱体位于腔室本体之外，且排风箱体与腔室本体相连通，排风箱体开设有与外界空间相连通的通孔；调节机构包括调节板，调节板可活动地位于排风箱体内，调节板用于调节排风箱体的排风量；其中，调节板设置于腔室本体和排风箱体的连通口与排风箱体与厂务排风端的连通口之间，且调节板朝向腔室本体与排风箱体的连通口的一侧倾斜向下设置；排液装置通过通孔与外界空间相连通上述方案能够解决清洗腔室的清洗效果较差的问题。
- 清洗
- [发明专利]镀膜腔室清洗装置及镀膜腔室清洗方法-CN201810645978.1有效
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郭建利
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北京蜃景光电科技有限公司
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2018-06-21
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2020-09-01
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H01J37/32
- 本发明提供了一种镀膜腔室清洗装置及镀膜腔室清洗方法，涉及有机镀膜技术领域，包括：转动驱动装置、水平驱动装置、旋转平台、反射镜和激光发射器。通过激光发射器向反射镜发射激光，利用反射镜将激光反射到有机镀膜腔室的内壁上，对有机镀膜腔室内壁进行清洗，并且通过转动驱动装置带动旋转平台上的反射镜转动，通过水平驱动装置带动反射镜相对于旋转平台移动，改变激光发射方向，对有机镀膜腔室的内壁进行全方位进行，缓解了现有技术中存在的传统的清洗有机镀膜腔室内壁方法费工费时，严重影响生产进度的技术问题，实现了快速对有机镀膜腔室内壁清洗的技术效果。
- 镀膜清洗装置方法
- [发明专利]清洗装置及清洗腔室-CN201910157192.X在审
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惠世鹏;张凇铭;刘效岩;许璐
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北京北方华创微电子装备有限公司
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2019-03-01
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2020-09-08
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H01L21/67
- 本发明提供一种清洗装置及清洗腔室，用于对放置在基座上的晶片表面进行清洗，包括固定板、多个喷头和多条喷淋管路，其中，固定板设置在基座的上方；多个喷头设置在固定板面向基座的一面，且用于朝向晶片表面喷淋清洗介质；多条喷淋管路用于输送不同种类的清洗介质，并且每条喷淋管路与至少一个喷头连接，以能够选择性地通过至少一个喷头朝向晶片表面喷淋其中一种清洗介质。本发明提供的清洗装置及清洗腔室能够缩短在不同种清洗介质之间切换使用的时间，以便于对晶片进行连续清洗，提高清洗的效率，并且能够降低清洗腔室的高度，增加清洗腔室在清洗机中的堆叠数量，提高晶片的生产效率。
- 清洗装置
- [实用新型]预清洗工艺腔室-CN201220282730.1有效
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陈鹏;吕铀;王东;郭浩
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北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
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2012-06-15
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2013-02-06
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C23C14/22
- 本实用新型公开了一种预清洗工艺腔室。该预清洗工艺腔室包括：腔体、第一射频装置和承载装置，承载装置位于腔体的内部，腔室的顶盖向腔体外部凸起，且顶盖中心位置的凸起程度大于顶盖边缘位置的凸起程度；第一射频装置，用于向腔体提供第一射频功率，以将腔体内的工艺气体激发为等离子体；承载装置，用于承载待清洗件。腔体的顶盖向腔体外部凸起，顶盖中心位置的凸起程度大于顶盖边缘位置的凸起程度，使密度较高的中心区域的等离子体可通过向上扩散而较大程度的降低密度，有效减小了中心区域等离子体密度和边缘区域等离子体密度的差异，从而提高了预清洗工艺的工艺均匀性
- 清洗工艺
- [发明专利]腔室清洗机构-CN99805719.3无效
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蒂莫西·L·赫尔曼
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高级技术材料公司
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1999-03-01
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2001-06-13
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F22B37/48
- 本发明公开了一种清洗腔室(25)的方法和装置。刮刀(65)可转动地安装在所述腔室(25)内并且平行于所述腔室(25)的纵轴。所述刮刀(65)在所述腔室(25)内沿圆周方向转动,刮擦该腔室(25)的内表面(26),以防止颗粒物质的聚集。一个环形齿轮组件为所述刮刀(65)提供了安装支撑。一个气动操作推杆组件(85)在所述腔室(25)内沿圆周方向转动所述刮刀(65)。所述环形齿轮组件和推杆组件不阻碍穿过所述腔室(25)的一个直达路径。
- 清洗机构
- [发明专利]加快工艺腔室复机的清洗方法-CN201710889449.1有效
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李晓鹏
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北京北方华创微电子装备有限公司
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2017-09-27
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2021-10-15
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H01J37/32
- 本发明公开了一种加快工艺腔室复机的清洗方法。包括加热工艺腔室，以使得工艺腔室内的温度符合清洗杂质的预设温度；延时第一预设时间后，对工艺腔室进行初步抽真空；循环执行快速清洗工艺腔室的流程；循环执行深度清洗工艺腔室的流程，其中，循环执行深度清洗工艺腔室的流程包括：控制通入工艺腔室内的第一清洗气体流量，使得第一清洗气体流量符合预设第一清洗气体流量，以对工艺腔室进行深度清洗，和/或，控制通入工艺腔室内的第一清洗气体流速，使得第一清洗气体流速符合预设第一清洗气体流速，以对工艺腔室进行深度清洗；执行初始化工艺腔室的流程，以完成对工艺腔室的清洗。能够有效缩短工艺腔室的复机时间，提高工艺腔室的清洗效率。
- 加快工艺复机清洗方法
- [实用新型]一种清洗设备-CN202020136538.6有效
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张强;刘源;王振
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埃斯凯电气（天津）有限公司
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2020-01-21
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2020-10-02
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B08B5/02
- 本实用新型提供一种清洗设备，包括：清洗台，清洗台上限定有腔室，腔室的一端设有与腔室连通的入口，腔室的另一端设有与腔室连通的出口，腔室沿清洗台的长度方向延伸；传输装置，传输装置设在清洗台上且至少部分位于腔室中，传输装置能够将待清洗件从腔室的一端传输至腔室的另一端；吹扫装置，吹扫装置设在腔室中以吹扫待清洗件；清洗装置，清洗装置设在腔室中以清洗待清洗件；干燥装置，干燥装置设在腔室中以干燥待清洗件；吹扫装置、清洗装置和干燥装置分别沿腔室的长度方向依次间隔开设置通过清洗设备可以将零件清洗干净，清洗和干燥效果好，提高生产效率，节省人力资源，减少水资源浪费。
- 一种清洗设备
- [发明专利]掩膜版清洗运送系统和方法-CN202110231062.3在审
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张久杰;季渊
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南京昀光科技有限公司
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2021-03-02
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2021-06-25
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C23C14/56
- 本发明实施例公开了一种掩膜版清洗运送系统和方法，掩膜版清洗运送系统包括中转腔室和清洗腔室，清洗腔室中设置有传送机构；清洗腔室中设置有清洗机构；传送机构用于将待清洗的掩膜版从中转腔室传送至清洗腔室供清洗机构清洗；以及用于通过将清洗后的掩膜版从清洗腔室传送至中转腔室；其中，中转腔室与蒸镀机的设定腔室密闭连通。掩膜版由中转腔室运送至清洗机构的过程、清洗过程以及清洗后由清洗腔室传送至中转腔室过程中都不会接触大气，与现有技术相比，可以减少清洗后掩膜版与外界大气的接触，进而减少掩膜版所吸附的杂质颗粒；并且掩膜版在清洗后无需与人手接触
- 掩膜版清洗运送系统方法
- [实用新型]一种阀门胶套生产水洗装置-CN202222432563.0有效
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陈志耀
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天津科瑞隆阀门有限公司
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2022-09-14
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2023-01-17
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B08B3/02
- 本实用新型公开了一种阀门胶套生产水洗装置，涉及水洗装置领域，包括清洗室组件、驱动腔室、过滤腔室、储水腔室和喷淋组件，清洗室组件包括设置在驱动腔室上端的支撑框架，支撑框架一侧设置有透明板，支撑框架内腔设置有清洗放置盒，清洗放置盒一侧设置有长软管，清洗室组件下端设置有驱动腔室，驱动腔室下端设置有过滤腔室，长软管的一端穿过透明板与过滤腔室一侧相连通，驱动腔室顶面设置有主凹槽腔，驱动腔室下端设置有电机室，且电机室设置在过滤腔室的内部，过滤腔室的下端设置有储水腔室，这种设置由于清洗放置盒的往复高频振动进而提升清洁水对阀门胶套的清洗作用，从而提高装置对阀门胶套的清洗效率。
- 一种阀门生产水洗装置
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