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- [发明专利]静电保护结构及其制备方法-CN202110658518.4在审
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孙俊
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无锡华润上华科技有限公司
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2021-06-15
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2022-12-16
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H01L27/02
- 本申请涉及一种静电保护结构及其制备方法,包括衬底、埋层、第一深阱、第二深阱及第三深阱,第一深阱中设有相反导电类型的阱区和相同导电类型的重掺杂区,第二深阱及第三深阱中分别设有相同导电类型的阱区和重掺杂区,且第一深阱、第一阱区及第二阱区浮空,第一重掺杂区引出接静电电压,第六重掺杂区接地。当静电端口输入正电压时,第一重掺杂区、第一阱区、第二重掺杂区、第三重掺杂区、第二阱区及第四重掺杂区共同构成相互串联的晶体管以实现进行正向耐压;当静电端口输入负电压时,埋层、第二深阱、第三阱区、第四阱区、第三深阱、衬底及第一深阱形成寄生晶体管,第一深阱与第一阱区形成二极管,通过寄生晶体管和二极管可以进行反向耐压。
- 静电保护结构及其制备方法
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