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[发明专利]耐崩刀性、耐缺损性优异的表面包覆切削工具-CN201310007836.X有效
发明人：龙冈翔;岩崎直之;长田晃 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2013-01-09 - 公布日： 2013-09-18 - 主分类号： B23B27/14 文献下载
摘要：本发明的表面包覆切削工具，在由WC基硬质合金或TiCN基金属陶瓷构成的工具基体表面上设置有硬质包覆层，其中，硬质包覆层由下部层和上部层构成，（a）下部层为由Ti的碳化物层、氮化物层、碳氮化物层、碳氧化物层及碳氮氧化物层中的1层或2层以上构成，且具有3～20μm的合计平均层厚的Ti化合物层，（b）上部层为具有1～25μm平均层厚的氧化铝层，构成上部层的氧化铝层含有板状生长氧化铝晶相与非晶氧化铝相，在上部层的表面，板状生长氧化铝晶相的占有比例为5～35面积％，非晶氧化铝相以填充板状生长氧化铝晶相的间隙的方式存在。
耐崩刀性缺损优异表面切削工具

[发明专利]一种图形化蓝宝石衬底结构及其制作工艺-CN201811611738.6有效
发明人：冯磊;徐平;王杰;陈欢 -专利权人：湘能华磊光电股份有限公司
申请日： 2018-12-27 - 公布日： 2020-08-18 - 主分类号： H01L33/22 文献下载
摘要：本发明提供了一种图形化蓝宝石衬底结构，包括蓝宝石衬底、氮化铝薄膜层和氧化铝纳米微结构；在蓝宝石衬底上表面设计了氮化铝薄膜层、氧化铝介质层和掩膜图形层的多膜层结构，通过纳米压印工艺技术实现图案转移，以干蚀刻工艺选择性蚀刻掩膜图形层和氧化铝介质层，蚀刻出需要的图形深度和形貌，且在图形化的氧化铝纳米微结构之间露出氮化铝膜，形成具有氧化铝纳米微结构的图形化蓝宝石衬底；这种氧化铝纳米微结构的图形化蓝宝石衬底既保留了在外延生长中三维生长优势，又发挥了氮化铝和
一种图形蓝宝石衬底结构及其制作工艺

[发明专利]切削工具-CN201980069701.1在审
发明人：奥野晋;今村晋也;力宗勇树;城户保树;小林史佳 -专利权人：住友电工硬质合金株式会社
申请日： 2019-12-12 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： B23B27/14 文献下载
摘要：一种切削工具，其包括基材和被覆基材的被膜，其中：被膜包括设置在基材上的α‑氧化铝层；α‑氧化铝层包含α‑氧化铝晶粒；α‑氧化铝层包括下侧部和上侧部；当沿着包括第二界面的法线的平面切割α‑氧化铝层以获得截面，并使用场发射扫描显微镜对该截面进行电子背散射衍射分析以识别α‑氧化铝晶粒的晶体取向，并且基于此创建彩色图时，在彩色图中，在上侧部中，由(006)面的法线方向相对于上述第二界面的法线方向在±15°以内的α‑氧化铝晶粒所占据的面积比率为50％以上，并且在下侧部中，由(012)面、(104)面、(110)面、(113)面、(116)面、(300)面、(214)面和(006)面各自的法线方向相对于上述第二界面的法线方向在±15°以内的α‑氧化铝晶粒所占据的面积比率为大于等于5％且小于50％；并且α‑氧化铝层的厚度为3μm以上20μm以下。
切削工具

[发明专利]一种透明高阻隔聚酯镀氧化铝薄膜及其制备方法-CN202111091721.4有效
发明人：林善华;陈永群;魏国华;王伟华 -专利权人：佛山市彩龙镀膜包装材料有限公司
申请日： 2021-09-16 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： C08J7/043 文献下载
摘要：本申请涉及镀铝膜领域，具体公开了一种透明高阻隔聚酯镀氧化铝薄膜及其制备方法。一种透明高阻隔聚酯镀氧化铝薄膜，包括依次设置的基材、聚氨酯底涂层、氧化铝层和聚氨酯面涂层，所述聚氨酯底涂层的厚度和聚氨酯面涂层的厚度均为8~15μm，所述氧化铝层的厚度为80~140埃，所述聚氨酯底涂层由聚氨酯涂液干燥而成其制备方法为：S1.在基材聚氨酯底涂层，得到底涂薄膜；S2.在聚氨酯底涂层上形成氧化铝层，得到初镀薄膜；S3.在氧化铝层上形成聚氨酯面涂层，熟化，得到透明高阻隔聚酯镀氧化铝薄膜。本申请的镀氧化铝薄膜具有良好耐蒸煮性和阻隔性的优点。
一种透明阻隔聚酯氧化铝薄膜及其制备方法

[发明专利]高氧化镁添加的处理过的二氧化钛颜料、其制备方法及其在造纸中的用途-CN201980048225.5在审
发明人： R·麦金泰尔;J·E·克罗德;B·韦伯;N·伯尼斯顿 -专利权人：特罗诺克斯有限公司
申请日： 2019-06-19 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： C09C1/36 文献下载
摘要：二氧化钛颜料的表面处理方法，特征在于，其包括以下步骤：第一步，形成二氧化钛颜料的水悬浮液，第二步，在所述颜料的表面上沉淀一层磷酸氧化铝，第三步，在所述第一磷酸氧化铝层上沉淀氧化铝层，第四步，在所述氧化铝层上沉淀氧化镁和氧化铝层还包括通过本公开的方法制备的二氧化钛颜料以及所述颜料在造纸中的应用。
氧化镁添加处理氧化颜料制备方法及其造纸中的用途

[发明专利]双位快闪存储器的制作方法-CN200910201181.3有效
发明人：三重野文健 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-12-15 - 公布日： 2011-06-15 - 主分类号： H01L21/8247 文献下载
摘要：一种双位快闪存储器的制作方法，包括：提供半导体衬底，在所述半导体衬底上依次形成栅介电层与栅电极层，刻蚀所述栅电极层及栅介电层，形成栅极结构；侧向刻蚀栅介电层的部分区域，在栅介电层两侧形成开口；在栅电极层与半导体衬底表面形成隔离层；在半导体衬底及栅极结构上形成氧化铝，所述氧化铝填充到栅介电层的开口中，栅电极层与半导体衬底表面的隔离层将所述氧化铝与栅电极层及半导体衬底隔离；刻蚀氧化铝，仅保留位于栅介电层开口处的氧化铝，所述开口处的氧化铝形成电荷俘获层
双位快闪存制作方法

[发明专利]高导热电路板及其制作方法-CN201010537345.2无效
发明人：寇崇善 -专利权人：寇崇善
申请日： 2010-11-05 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： H05K1/02 文献下载
摘要：本发明有关于一种高导热电路板及其制作方法，其中，高导热电路板包括：一铝基板；一氧化铝层，形成于铝基板上；一类钻碳膜，设于氧化铝层上，且氧化铝层位于类钻碳膜与铝基板间；以及一电路层，设于类钻碳膜上。于本发明中，透过阳极化处理铝基板以于铝基板表面形成具多孔隙结构的氧化铝层，且类钻碳完全填入氧化铝层的孔洞中。利用氧化铝层及类钻碳膜，可使电路板展现极高的热传导效率。
导热电路板及其制作方法

[发明专利]半导体材料的表面钝化方法以及半导体基板-CN201780047662.6有效
发明人：杰斯屋未·夫奇斯;维埃特·轩·努言;汤玛斯·普尔拿;沃夫冈·佑斯 -专利权人：商先创国际股份有限公司;浙江爱旭太阳能科技有限公司
申请日： 2017-09-15 - 公布日： 2020-07-24 - 主分类号： H01L31/0216 文献下载
摘要：在半导体材料的表面上形成堆叠层，该堆叠层包括氧化铝层和覆盖层；该氧化铝层和该覆盖层分别通过真空程序室在真空中形成。该钝化方法的特征为：在形成该氧化铝层和形成该覆盖层的期间中保持真空；以及在形成该氧化铝层之后且在形成该覆盖层之前，将氢和氧供应至已形成的该氧化铝层。本发明还涉及半导体基板。
半导体材料表面钝化方法以及半导体

[发明专利]C8-BTBT单晶膜及其制备方法、基于C8-BTBT单晶膜的有机场效应晶体管-CN201911032433.4有效
发明人：汪涛;胡文平;张小涛;任晓辰;牟麒;席悦 -专利权人：天津大学
申请日： 2019-10-28 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： H10K71/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种C8‑BTBT单晶膜及其制备方法、基于C8‑BTBT单晶膜的有机场效应晶体管，制备方法包括以下步骤：在载玻片上热蒸镀铝，形成铝层，对铝层采用阳极氧化方法，以使铝层形成一氧化铝层；将氧化铝层加热至40～60℃，在氧化铝层的上表面设置一刮刀，位于刮刀底端的刀刃与氧化铝层的上表面的距离为5‑20微米，在刮刀和氧化铝层之间滴加有机半导体溶液，以0.01～0.4mm/s的速度移动刮刀或载玻片，以使氧化铝层和刮刀发生相对移动，在刀刃经过的氧化铝层上得到C8‑BTBT单晶膜。
c8 btbt 单晶膜及其制备方法基于有机场效应晶体管

[发明专利]高透射性玻璃基多孔氧化铝基板的制备方法-CN201010229065.5无效
发明人：夏志林;郭培涛;薛亦渝;赵立新;孟正华 -专利权人：武汉理工大学
申请日： 2010-07-16 - 公布日： 2010-11-17 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种新型玻璃基多孔氧化铝基板的制备方法，本发明先以玻璃为基板，采用真空热蒸发法制备高纯铝膜；然后采用一次或二次阳极氧化法生成多孔氧化铝层；接着采用扩孔工艺优化多孔氧化铝层的孔径；最后采用高温退火处理，提高整个玻璃基多孔氧化铝基板的透射性。本发明的玻璃基多孔氧化铝基板机械强度好，氧化铝孔高度有序，可见光透射性高。
透射玻璃基多氧化铝制备方法

[发明专利]一种增强型双面真空镀铝膜及其制备方法-CN202310170067.9在审
发明人：章澄 -专利权人：南京沪江复合材料股份有限公司
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种增强型双面真空镀铝膜及其制备方法，该方法对基膜进行表面处理后采用双面磁控溅射镀氧化铝层及在其氧化铝层进一步真空蒸镀铝膜；该增强型双面真空镀铝膜包括从上到下依次设置有镀铝层、镀氧化铝层、基膜、镀氧化铝层和镀铝层；所述基膜厚度为4～6微米；所述镀氧化铝层厚度为5～7纳米；所述镀铝层厚度为50～60纳米；相较于普通蒸镀法，本发明对基膜进行表面处理后采用双面磁控溅射镀氧化铝层及在其氧化铝层进一步真空蒸镀铝膜的方法，其膜层与基材结合力强、膜层致密性及均匀性好；双面同时溅射，不仅提高了镀膜效率；双面增强镀铝膜还显著提高其阻隔性。
一种增强双面真空镀铝及其制备方法

[发明专利]非均相烷烃脱氢催化剂-CN201480066089.X有效
发明人： M·P·卡明斯基;A·马雷克;L·罗;B·A·斯蒂尔斯;I·K·姆巴拉卡;D·C·罗森菲尔德 -专利权人：陶氏环球技术有限责任公司
申请日： 2014-12-02 - 公布日： 2019-08-30 - 主分类号： B01J23/08 文献下载
摘要：一种适用于烷烃脱氢的非均相催化剂具有活性层，所述活性层包括氧化铝和氧化镓。所述活性层分散于载体上，所述载体例如氧化铝或二氧化硅改性的氧化铝。
均相烷烃脱氢催化剂

[实用新型]一种新型泡轻活性氧化铝球-CN202022240991.4有效
发明人：聂雨彬;聂文斐 -专利权人：山东物华新材料科技有限公司
申请日： 2020-10-10 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： B01J21/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型泡轻活性氧化铝球，属于氧化铝球技术领域，氧化铝球球体的外侧表面设有沟槽，沟槽的一端连接有中心孔，氧化铝球球体的内部连接有氧化铝层，氧化铝层的一表面通过第一胶层固定粘接有拟薄水铝石层，拟薄水铝石层的另一表面通过第二胶层固定粘接有莫来石层，该新型泡轻活性氧化铝球设置的拟薄水铝石层和沟槽在相同体积的情况下，不仅提高了孔容，而且增加了与液体以及气体的接触面积，有效的促进了催化效率，而且设置的第一胶层和第二胶层保证了拟薄水铝石层以及莫来石层的粘接牢固性，不仅降低了生产磨耗，而且可以避免相互之间裂缝的产生，从而有效的提高了活性氧化铝球的强度。
一种新型活性氧化铝

[发明专利]多孔基材结构及其制造方法-CN202110053405.1在审
发明人：黄军儒;纪岩勳;张秉宏 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2021-01-15 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： B01D69/10 文献下载
摘要：所述多孔基材结构包括基材、阳极氧化铝层以及双金属氧化物层。所述基材具有多个孔洞。所述阳极氧化铝层设置于所述基材上。所述双金属氧化物层设置于所述阳极氧化铝层上。
多孔基材结构及其制造方法

[发明专利]形成氧化铝层的方法、有氧化铝层的金属表面和电子器件-CN201810635363.0在审
发明人： J.加特鲍尔;W.莱纳特;K.马托伊;E.纳佩奇尼希;M.罗加利;M.施内根斯;B.魏德根斯 -专利权人：英飞凌科技股份有限公司
申请日： 2018-06-20 - 公布日： 2018-12-28 - 主分类号： H01L21/48 文献下载
摘要：本申请涉及形成氧化铝层的方法、有氧化铝层的金属表面和电子器件。提供了一种形成氧化铝层的方法，所述方法包括：提供包括金属的群组中的至少一种金属的金属表面，所述群组包括铜、铝、钯、镍、银及其合金；以及通过原子层沉积在所述金属表面上沉积氧化铝层，其中在沉积期间的最大处理温度是280℃，使得所述氧化铝层被形成为具有如下表面：所述表面有小于40°的液态焊料接触角。
氧化铝层金属表面电子器件群组沉积原子层沉积金属液态焊料接触角合金申请