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- [发明专利]液体材料气化装置-CN200880121722.5有效
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宫本英显;西川一朗
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株式会社堀场STEC
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2008-12-05
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2010-12-01
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C23C16/448
- 本发明提供一种液体材料气化装置,目的在于不改变喷嘴形状就能使载体气体(CG)的流量增大,所述液体材料气化装置包括:气液混合室(1),将液体材料(LM)以及载体气体(CG)混合;液体材料导入通道(2),将所述液体材料(LM)导入气液混合室(1);载体气体导入通道3,将载体气体(CG)导入气液混合室(1);气化喷嘴部(4),与气液混合室(1)连通,使由液体材料(LM)及载体气体(CG)构成的混合体减压气化;混合气体导出通道(5),与气化喷嘴部(4)连通,将通过气化喷嘴部(4)气化的混合气体(MG)导出;以及旁路通道(6),将载体气体导入通道(3)与混合气体导出通道(5)连通,且使载体气体(CG)从载体气体导入通道(3)向混合气体导出通道
- 液体材料气化装置
- [实用新型]反应气体供给装置-CN201220445219.9有效
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李菁;魏强
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中微半导体设备(上海)有限公司
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2012-09-03
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2013-03-27
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C23C16/455
- 本实用新型涉及一种反应气体供给装置,与等离子体处理设备配合使用,反应气体供给装置控制通入反应腔室的反应气体流量,该供给装置包括:至少一个气体导入通道,与气体喷淋单元连接,反应气体自气体导入通道导入气体喷淋单元;至少一个调节阀,与气体导入通道配合使用,调节阀调节气体导入通道中反应气体的流量;其中,供给装置还包括一脉宽调制单元,脉宽调制单元发出至少一种脉宽信号控制调节阀调节导入气体喷淋单元的反应气体的流量。该装置实现了对气体导入通道中反应气体流量的精确控制,从而使反应腔室中反应气体分布处于一种可控状态,实现了对等离子体处理工艺的过程控制。其实施开销少,结构简单。
- 反应气体供给装置
- [发明专利]排气稀释装置和PM测量系统-CN201910121628.X有效
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熊谷树
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株式会社堀场制作所
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2013-07-17
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2022-03-25
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G01N1/22
- 本发明提供排气稀释装置和PM测量系统,排气稀释装置包括:稀释通道,提供稀释用空气,对来自发动机的排气进行稀释;第一排气导入通道,向稀释通道导入从第一发动机排出的第一排气;以及第二稀释排气导入通道,向稀释通道导入从第二发动机排出的第二排气被稀释后的第二稀释排气,稀释通道具有气体混合部,将从第一排气导入通道导入的第一排气和稀释用空气混合,第一排气导入通道向比稀释通道中的气体混合部更上游的一侧导入第一排气,第二稀释排气导入通道向比稀释通道中的气体混合部更上游的一侧且比第一排气导入通道的气体导入口更上游的一侧导入第二稀释排气,气体混合部包括节流部,节流部对稀释用空气的流动进行节流。
- 排气稀释装置pm测量系统
- [发明专利]气体供给阀及部件输送装置-CN200910145325.8无效
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原顺一;神户祐二;百濑和纪
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株式会社大伸
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2009-06-03
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2009-12-16
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F16K31/72
- 本发明的气体供给阀(10)设有导入气体的气体导入通道(11c)、该气体导入通道的导入开口(11e)向内部面对着的阀缸(12)、在该阀缸的内部具有可开闭上述导入开口地构成的闭塞部(15a)的阀体(15)、具有面对上述阀缸的内部的导出开口(12d)的气体导出通道(12c、11g),及驱动上述阀体进行上述导入开口的开闭动作的压电执行机构(19);其特征在于:至少在阀的开放时使上述导入开口与上述导出开口间的内部空间连通到外部的通气路径(12e、12f、11j)与上述气体导入通道和上述气体导出通道分别地设置。这样,能够实现气体供给阀的小型化,并减小气流喷吹开始和停止的延迟。
- 气体供给部件输送装置
- [发明专利]一种微小气泡发生装置-CN200780033979.0有效
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岛田晴示;六轩益成
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霓达摩尔株式会社
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2007-11-06
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2009-12-02
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B01F5/02
- 微小气泡发生装置能够将第1结构体(1)与第2结构体(2)以气密状态相对旋转,第1结构体(1)主要具有液体导入通道(3)和设在其中心部分的气体导入通道(4),第2结构体(2)主要具有螺旋状液体导入通道(5),将来自液体导入通道(3)的液体改变成螺旋流,并且传送至气体导入通道(4)的出口附近;和气液混合导出口(6),排出由成为了螺旋状的液体和来自气体导入通道(4)的气体构成的气液混合体。提供一种一旦安装到固定部分之后,也能够自由地改变气体及液体的导入方向的微小气泡发生装置。
- 一种微小气泡发生装置
- [发明专利]玻璃基板的制造装置及制造方法-CN201780079164.X有效
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山本好晴;中塚弘树;大野和宏
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日本电气硝子株式会社
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2017-11-30
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2022-05-27
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C03C15/00
- 本发明的玻璃基板的制造装置(10)具备用于向成为玻璃基板的板状玻璃的一方的主表面供给处理气体(Ga)而实施规定的表面处理的表面处理装置(11)。表面处理装置(11)具备:处理气体生成装置(16);将处理气体(Ga)向板状玻璃的一方的主表面供给的供气通道(17);对处理气体(Ga)实施除害处理的除害装置(18);将供给到一方的主表面的处理气体(Ga)向除害装置(18)导入的排气通道(19);以及向供气通道(17)导入无害气体(Gb)的无害气体导入通道(20)。能够向供气通道(17)的比无害气体导入通道(20)与供气通道(17)的汇合位置(P1)靠下游侧的位置导入无害气体(Gb)和处理气体(Ga)中的任一方。
- 玻璃制造装置方法
- [实用新型]碳化装置-CN202222971213.1有效
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刈田哲也;杉山玲树
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本田技研工业株式会社
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2022-11-08
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2023-05-02
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C10B7/00
- 碳化装置具备:碳化室,收容待处理有机物;盖部,覆盖碳化室;加热装置,将碳化室内的待处理有机物加热;气体通道,设置在盖部的内侧,将碳化室内的气体向外部排出;空气导入通道,沿着气体通道设置,导入外部的空气;至少两个以上催化剂,串接配置在气体通道内,且互不相同;热交换器,在空气导入通道内配置在沿着位于气体通道内的最下游侧的最下游侧催化剂的位置;及,空气出口部,在空气导入通道内配置在沿着位于气体通道内的最上游侧的最上游侧催化剂的位置;并且,空气导入通道的下游侧端部以在比最下游侧催化剂更靠近下游侧与气体通道汇合的方式连接。
- 碳化装置
- [发明专利]气体输入装置-CN94194310.0无效
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维尔弗里德·奥特
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里察·奥特
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1994-12-10
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1996-11-20
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B01F3/04
- 一种将气体输入液体的气体输入装置,至少包括一个气体供给分配器(10)和多个气体导入体(12),所述导入体(12)的自由端是开放的。所述导入体(12)由穿孔管状薄膜包覆,每个所述导入体(12)上的气体通道终止于所述薄膜附近,每个导入体包括由中心体伸出的两个支撑体(46,48),所述中心体上有一凸缘以使其固定在所述气体供给分配器上。气体通道从所述气体供给分配器的孔,通过所述中心孔(26)和所述由中心体伸出的支路通道(28),一直到所述薄膜附近的长槽。所述中心孔和支路通道位于所述中心体上。所述气体导入体是一个包括所述中心体和所述薄膜支撑体的整体结构。
- 气体输入装置
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