专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]激光切割器件、激光插缝合系统及方法、激光雷达-CN202110167661.3有效
  • 蔡磊 - 西安炬光科技股份有限公司
  • 2021-02-05 - 2023-06-06 - G02B27/09
  • 本申请公开了一种激光切割器件、激光插缝合系统及方法、激光雷达,涉及激光整形输出技术领域。包括激光光源,以及设置在激光光源的出光侧的切割组,激光光源出射的激光束经切割组分割为平行出射的两激光束,两激光束分别通过第一匀化阵列整形并定向出射。完成激光束的空间切割和重排,在接收面得到相应的光斑,光斑的形状可根据切割组予以调整,形成不同图案的光斑。设置切割组和第一匀化阵列,通过分的方式得到变化的光斑,使得器件结构紧凑,成本可控,对于的调节方式多样,且光斑效果好,可适应多种应用场景。
  • 激光切割器件缝合系统方法激光雷达
  • [发明专利]双通道横向剪切干涉仪-CN201110415587.9无效
  • 相里斌;付强;吕群波 - 中国科学院光电研究院
  • 2011-12-13 - 2012-06-27 - G01J9/02
  • 本发明公开了一种双通道横向剪切干涉仪,包括:两个膜和两组反射组,所述两个膜中心对称设置;所述两组反射组中心对称设置,所述两组反射组的中心对称点到每组反射组中两个反射的臂的长度不相等,第一个膜将入射平行光分为透射和反射两路光束;每组反射组中的两个反射的夹角为45度,所述两组反射组将从所述膜分出的透射和反射两路光束分别折转反射90度后,进入另一个膜;所述另一个膜将入射的两路光束分别透射和反射后,形成两个通道输出,该两个通道输出的为剪切量完全相等的两光。
  • 双通道横向剪切干涉仪
  • [实用新型]一种基于LED光源的全息检测装置-CN201420213801.1有效
  • 杨达;张永安;员昭 - 昆明理工大学
  • 2014-04-29 - 2014-09-03 - G01N21/17
  • 本实用新型LED光源发出的光通过分Ⅰ形成物光与参考光两光:物光通过扩Ⅰ扩和准直透镜Ⅰ准直并被全反Ⅰ反射后照射到被测物体上,被测物体透过的光再经过分Ⅱ后照射在CCD摄像机上;参考光通过扩Ⅱ扩和准直透镜Ⅱ准直并被全反Ⅱ反射后直接照射到Ⅱ上,调节Ⅱ,使得物光与参考光的夹角小于3度,经Ⅱ反射后在CCD摄像机处与物光的光束形成干涉,再由CCD摄像机记录干涉条纹,最后干涉条纹传输至计算机
  • 一种基于led光源全息检测装置
  • [发明专利]红外光谱干涉仪和采用该干涉仪的红外光谱仪-CN201110285531.6有效
  • 曾立波;张新民;吴琼水 - 北京华夏科创仪器技术有限公司
  • 2011-09-23 - 2012-02-22 - G01J3/45
  • 本发明提出了一种红外光谱干涉仪,包括发出平行光线的光源,在平行光线的前进方向上设置有,在的透射光路上依次设置有补偿、动立体角和第一平面;在的反射光路上依次设置有定立体角和第二平面;其中的的镀有膜的面平行于所述第二平面和第一平面构成的夹角的角平分线,第二平面垂直于定立体角的光轴,第一平面垂直于动立体角的光轴。该干涉仪的独特的光路设计,使其既不受立体角的角度偏移的影响同时也不受立体角顶点的位置平移的影响,因此抗环境干扰能力强。
  • 红外光谱干涉仪采用光谱仪
  • [实用新型]红外光谱干涉仪和采用该干涉仪的红外光谱仪-CN201120359795.7有效
  • 曾立波;张新民;吴琼水 - 北京华夏科创仪器技术有限公司
  • 2011-09-23 - 2012-05-23 - G01J3/45
  • 本实用新型提出了一种红外光谱干涉仪,包括发出平行光线的光源,在平行光线的前进方向上设置有,在的透射光路上依次设置有补偿、动立体角和第一平面;在的反射光路上依次设置有定立体角和第二平面;其中的的镀有膜的面平行于所述第二平面和第一平面构成的夹角的角平分线,第二平面垂直于定立体角的光轴,第一平面垂直于动立体角的光轴。该干涉仪的独特的光路设计,使其既不受立体角的角度偏移的影响同时也不受立体角顶点的位置平移的影响,因此抗环境干扰能力强。
  • 红外光谱干涉仪采用光谱仪
  • [发明专利]保持折反射光刻系统以无翻转(非镜面)像的器光学设计-CN200310118749.8无效
  • 哈里·体厄尔 - ASML控股股份有限公司
  • 2003-12-02 - 2004-06-16 - G03F7/20
  • 一种折反射系统,具有划板光学组,器,非球面反射,遮光板,折叠反射和半导体晶片光学组。光通过分划板上的图案被器反射到非球面反射。后者将光向回反射通过分器到达折叠反射。折叠反射将光反射回器。器将光反射到半导体晶片光学组。可将多个四之一波片设置在光学元件之间的光路中,以改变入射光的偏振。光在通过半导体晶片光学组之前通过遮光板,遮光板可防止器中内反射产生的背景散射光进入半导体晶片光学组。在另一实施例中,将一隔离板插入器中,以在划板光学组光轴与半导体晶片光学组光轴之间产生偏移。这可以减少从划板光学组直接透过到达半导体晶片光学组的光。
  • 保持反射光刻系统翻转非镜面分束器光学设计

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