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[发明专利]束流发射度均衡方法-CN200910077726.4无效
发明人：唐靖宇;方守贤;关遐令 -专利权人：中国科学院高能物理研究所
申请日： 2009-02-13 - 公布日： 2009-08-26 - 主分类号： G21K1/093 文献下载
摘要：本发明公开了一种束流发射度均衡方法，该方法包括：根据束流类型和能量的高低，选择普通螺线管、超导螺线管和束流旋转器中的一种作为发射度均衡单元；在束流传输线上安排该发射度均衡单元的安装空间；在发射度均衡单元和旋转机驾的入口分别进行TWISS参数的匹配，使得水平相空间和垂直相空间中的TWISS参数相等；对发射度均衡单元设置要求的束流旋转角度；进行正常的束斑尺寸匹配，并进行束流截面的实空间X-Y相平面中束流倾角的匹配；在改变治疗束流的能量时，束流发射度均衡单元的磁场设置与整个束流传输系统同步地调整。利用本发明，可对水平和垂直方向的束流发射度进行均衡处理，使束流光学在旋转机驾中保持不变。
发射均衡方法

[发明专利]一种可同时测量束流强度和发射度的装置及方法-CN201810680210.8有效
发明人：王忠明;王敏文;屈二渊;王迪;陈伟;邱孟通 -专利权人：西北核技术研究所
申请日： 2018-06-27 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： G01T1/29 文献下载
摘要：本发明涉及一种可同时测量束流强度和发射度的装置及方法，装置主要包括：水平方向和垂直方向的位置采样缝板、水平方向和垂直方向的角度采样缝板以及一套真空系统。进行流强测量时，通过位置采样缝板处的法拉第筒、角度采样缝板及其后的法拉第筒接收到的电流之和得到入射粒子束的流强；测量束流发射度时，在电机驱动下实现对束流的位置采样和散角采样，通过测量两个缝板的位置及角度采样缝接收的电流信号来实现束流发射度的测量本发明结构紧凑，操作简单，易于小型化，既能测量束流水平和垂直两个方向上的发射度，同时还可测量束流的流强，非常适合低能强流质子束的束流参数测量。
采样束流测量缝板发射度束流发射度法拉第筒粒子束参数测量低能强流电机驱动电流信号真空系统可测量质子束入射垂直

[发明专利]一种离子源束流诊断用发射度仪及发射度探测方法-CN201610906978.3有效
发明人：曹进文;任秀艳;吴灵美;屠锐 -专利权人：中国原子能科学研究院
申请日： 2016-10-18 - 公布日： 2018-05-22 - 主分类号： G01T1/29 文献下载
摘要：本发明属于同位素电磁分离器技术领域，具体涉及一种离子源束流诊断用发射度仪及发射度探测方法，设置在同位素电磁分离器上，同位素电磁分离器包括设置在真空室内、设有引出电极的离子源，离子源从引出电极的引出缝中射出离子束，其中，离子源束流诊断用发射度仪包括设置有探头的运动支撑机构，运动支撑机构能够使探头在真空室内的引出缝附近做往复直线运动，探头能够测量离子束的电流信号；还包括连接探头的扫描电源；还包括控制动支撑机构、扫描电源采用本发明的发射度仪及发射度探测方法能够精确测量低能强流弧放电离子源的发射度、测量束流功率达到1.5kW，测量束流张角达到±14.5°。
一种离子源诊断发射探测方法

[发明专利]一种具有高传输效率可快速连续调节能量的降能器-CN201710035426.4有效
发明人：秦斌;梁志开;刘开锋;陈炜;刘旭 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2017-01-17 - 公布日： 2018-03-20 - 主分类号： H05H7/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有高传输效率可快速连续调节能量的降能器，包括碳化硼能量粗调单元、石墨能量精调单元、束流准直器组、运动控制模块、真空模块；碳化硼能量粗调单元实现能量的初级步进调节，提高了束流传输效率；石墨能量精调单元可实现束流能量的连续精准调节；准直器组可对束流发射度进行有效抑制，通过改变孔径实现了发射度的选择；运动控制模块可分别对碳化硼和石墨能量调节单元进行快速运动控制，保证了能量的快速调节；真空模块创造并维持了真空环境。本发明的降能器可以实现束流能量的高传输效率、快速、连续调节，并且对输出发射度进行有效抑制和选择，保证了良好的治疗用途束流品质。
一种具有传输效率快速连续调节能量降能器

[实用新型]一种离子源束流诊断用发射度仪-CN201621128267.X有效
发明人：曹进文;任秀艳;吴灵美;屠锐 -专利权人：中国原子能科学研究院
申请日： 2016-10-18 - 公布日： 2017-05-03 - 主分类号： G01T1/29 文献下载
摘要：本实用新型属于同位素电磁分离器技术领域，具体涉及一种离子源束流诊断用发射度仪，设置在同位素电磁分离器上，同位素电磁分离器包括设置在真空室内、设有引出电极的离子源，离子源从引出电极的引出缝中射出离子束，其中，离子源束流诊断用发射度仪包括设置有探头的运动支撑机构，运动支撑机构能够使探头在真空室内的引出缝附近做往复直线运动，探头能够测量离子束的电流信号；还包括连接探头的扫描电源；还包括控制动支撑机构、扫描电源采用本实用新型的发射度仪能够精确测量低能强流弧放电离子源的发射度、测量束流功率达到1.5kW，测量束流张角达到±14.5°。
一种离子源诊断发射

[发明专利]一种质子治疗装置束流诊断系统-CN202010130484.7有效
发明人：郑金星;宋云涛;张海燕;王成;沈俊松;朱雷;黄发领;张午权 -专利权人：合肥中科离子医学技术装备有限公司
申请日： 2020-02-28 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： G01T1/29 文献下载
摘要：本发明公开了一种质子治疗装置束流诊断系统，包括束流轮廓监测器、束流位置监测器、准直器和束流流强监测器，沿质子传输方向，依次放置。相对于现有技术中，单独对质子束流的流强、截面尺寸和形状、质心轨迹位置、发射度进行测量，每进行一项测量均需要对测量设备进行摆放、安装、校准的技术方案而言，本发明的束流诊断系统是一体化的，可同时读取三种束流监测器的返回信号，实时对质子束流的流强、截面尺寸和形状、质心轨迹位置、发射度进行测量，具有测量过程简单、操作方便、实时性高等特点。此外，该系统可检测束晕信息，提供包含束晕在内的整个束流尺寸，避免粒子对真空管壁碰撞，减小束流损失。
一种质子治疗装置诊断系统

[发明专利]一种场发射电子源电子束发射性能评测装置及其评测方法-CN201410158183.X有效
发明人：徐军;刘亚琪;王朋博;袁明艺;饶先拓;陈莉;朱瑞 -专利权人：北京大学
申请日： 2014-04-18 - 公布日： 2014-11-05 - 主分类号： H01J37/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种场发射电子源电子束发射性能评测装置及其评测方法。本发明的评测装置包括：真空腔室、真空抽气系统、真空度测量系统、电子枪组件、电源系统、电子束成像系统、电子束偏转系统和探测与采集系统。本发明在电子束的路径上安装两个垂直方向的偏转磁场，控制电子束从边缘至中心依次扫描通过荧光屏上的小孔，从而获得电子束束斑形状、电子束束斑中心束束流强度、束流密度、角电流密度等、电子束发射稳定度等重要的场发射电子源电子束发射性能定量参数，获得上述电子源电子发射的定量化参数，为评价场发射电子源性能，优化场发射电子源制备工艺，完善场发射电子源制备平台提供定量依据。
一种发射电子电子束性能评测装置及其方法

[发明专利]一种离子束流自动测量系统及测量方法-CN201210313386.2有效
发明人：陈学勇;宋逢泉;祝庆军;廖燕飞;宋钢 -专利权人：中国科学院合肥物质科学研究院
申请日： 2012-08-29 - 公布日： 2012-12-12 - 主分类号： G01T1/29 文献下载
摘要：一种离子束流自动测量系统及测量方法，将离子束流的四个参数（束流强度、发射度、能散度、单原子离子比）的测量探头有机集成在一个真空室中，用来测量离子束流的束流强度、发射度、能散度和单原子离子比。本发明的优点在于：（1）可以在离子源稳定运行不停机的状态下完成对离子束流所有参数的测量；（2）减少了各个参数测量装置的安装与拆卸工序，降低对离子源和各参数测量装置的损坏，同时使测量过程方便、快速；（3）
一种离子束自动测量系统测量方法

[发明专利]一种异质斜齿光栅的制备方法和结构-CN202111495781.2在审
发明人：王鸿超;蒋中原;李佳鹤;彭泰彦;许开东 -专利权人：江苏鲁汶仪器股份有限公司
申请日： 2021-12-08 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本申请提供了一种异质斜齿光栅的制备方法和结构，该方法包括：采用等离子束发射器发射第一等离子束以第一能量和第一束流以第一角度在掩膜版的遮掩下刻蚀基体得到粗刻斜齿光栅，采用等离子束发射器发射第二等离子束以第二能量和第二束流以第一角度在掩膜版的遮掩下刻蚀粗刻斜齿光栅得到最终斜齿光栅即先用较高能量和束流的等离子束进行刻蚀，以快速刻蚀出粗刻斜齿光栅，再用较低能量和束流的等离子束进行刻蚀，修饰光栅底部两侧，从而可以得到平直的底部，得到最终斜齿光栅，避免了过刻蚀或刻蚀量不够的问题，从而提高了产品的良率
一种异质斜齿光栅制备方法结构

[发明专利]一种月球辐射环境模拟装置及试验方法-CN202310125923.9在审
发明人：张峥;郭刚;陈启明;孙浩瀚;赵树勇;刘建成 -专利权人：中国原子能科学研究院
申请日： 2023-02-01 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： B64G7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种月球辐射环境模拟装置及试验方法，属于探月工程技术领域，该装置包括离子束流发射系统、束流控制系统、束流品质测量系统、束流监督系统、温度控制系统、样品板运动控制系统、束流管道和真空辐照靶室，待辐照器件放置在温度控制系统的温度试验箱内，温度试验箱底部固定在多自由度样品平台上，它们整体处在真空辐照靶室中，离子束流发射系统发射的离子束流进入束流管道中传输，经束流控制系统的参数调节后辐照到器件上；试验过程中通过束流品质测量系统保证束流品质，通过束流监督系统监测离子注量，保证辐照到器件上的离子注量达到相应的规定值。
一种月球辐射环境模拟装置试验方法

[发明专利]一种粒子注入系统及环形粒子加速器-CN201710286949.6有效
发明人：王相綦;王琳;刘刚文;刘晓宇 -专利权人：中国科学技术大学
申请日： 2017-04-27 - 公布日： 2019-04-05 - 主分类号： H05H7/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种粒子注入系统及环形粒子加速器，其中，粒子注入系统利用跳变磁铁为注入束流提供预设周期的脉冲磁场，以使注入束流经过跳变磁铁的入射间隙时，传输速度方向发生跳变，也就是使注入束流的发射度相椭圆发生跳变，从而使得注入束流的发射度相椭圆落入环形粒子加速器接受度相椭圆内，进而完成注入束流的注入过程。并且由于跳变磁铁提供的脉冲磁场的脉冲宽度与环形粒子加速器的储存束流的回旋周期之比小于设定值，从而使得注入束流在进入环形粒子加速器后可以借助横向振荡振幅阻尼振荡衰减过程，被环形粒子加速器的射频加速电场捕获，同样由于脉冲磁场的脉冲宽度较小这一特点，使得该脉冲磁场不会对环形粒子加速器的储存束流产生扰动。
一种粒子注入系统环形加速器

[发明专利]束流发射度自动测量和粒子束聚集自动调节方法与装置-CN02138043.0无效
发明人：吴瑜;余增亮;王绍虎;胡素华;陈斌;张束清;李军;吴李君 -专利权人：中国科学院等离子体物理研究所
申请日： 2002-07-26 - 公布日： 2004-01-28 - 主分类号： G21K1/00 文献下载
摘要：粒子束发射度测量和聚焦透镜的研究始终伴随着加速器的发展而发展。但以往的研究基本上将粒子束测量与聚焦分立，各自单独进行的。本发明是将束流测量和聚焦结合起来，由计算机(PC机)对测量和聚焦同时进行自动控制。由计算机发出测量指令，读取数据，获得发射度参数，经过计算得出所需要的束斑参数和相应的聚焦参数，再将该聚焦参数传给聚焦装置(透镜)，改善束流品质。束流品质提高了，就可能减少束流与瞄准器的碰撞机会，可使现有的束斑缩小至2－3μm或更小。本发明可用于加速器束线自动进行束流监测和束品质改进，特别适用需要小束斑的装置上，也可广泛用于离子光学、电子光学及粒子加速器等领域。
发射自动测量粒子束聚集调节方法装置

[发明专利]一种射频四极场加速器及其加速方法-CN201910400892.7有效
发明人：窦为平;王志军;何源 -专利权人：中国科学院近代物理研究所
申请日： 2019-05-15 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： H05H7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种射频四极场加速器及其加速方法，该加速器根据基本参数的变化规律划分为径向匹配段、成形段、小能量接受度段和加速段，小能量接受度段用于完成对来自成形段的束流的聚束，在聚束过程中，通过配置小的调制因子并使其缓慢增加实现小的能量接受度，通过小的能量接受度来丢失2％～3％的束流。本发明通过故意丢失一小部分束流(传输效率仍高于95％)，使得这部分束流无法获得能量增益，在较低能量时就被损失，从而显著降低丢失束流对RFQ加速器电极的损伤。本发明中加速段进一步包括增能段和常规加速段，并使成形段获得更小纵向发射度，由此在RFQ加速器出口处获得“干净”的高束流品质束流。
一种射频四极场加速器及其加速方法

[发明专利]一种医用直线加速器中电子枪发射束流的控制方法和系统-CN201010151130.7有效
发明人：柘江;吴建兴;王春波;王小军;高阳;薛小峰;邓勇;王锐 -专利权人：江苏海明医疗器械有限公司
申请日： 2010-04-20 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： H01J29/46 文献下载
摘要：本发明公开了一种医用直线加速器中电子枪发射束流的控制方法和系统，该方法包括：在束流发射过程中，采集当前时刻n发射束流的大小，将发射束流采集值与所需发射束流的大小进行比较，得到束流误差，先根据束流误差在预设的灯丝电压范围内对灯丝电压进行比例积分PI调节，当发射束流稳定在一预设束流门限之内后或当灯丝电压超出预设范围时，根据束流误差对栅极脉冲电压进行PI调节。使用本发明能够控制电子枪注入加速管的电子束流的稳定性。
一种医用直线加速器电子枪发射控制方法系统

[发明专利]一种用于离子Flash治疗的装置及方法-CN202110333478.6有效
发明人：石健;周利荣;马力祯;毛瑞士;王小虎;李朋;张秋宁 -专利权人：兰州科近泰基新技术有限责任公司
申请日： 2021-03-29 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于离子Flash治疗的装置及其应用方法，该装置包括同步加速器，所述同步加速器中还包括：快脉冲磁铁，被配置为使同步加速器束流轨道突然偏转到引出口引出到高能传输线，以达到超高的剂量率及快速的放射治疗，实现束流快引出；DCCT，被配置为实时测量同步加速器内束流强度，通过同步加速器流强计算得出同步加速器内的粒子数；束晕刮削器，被配置为用于调制同步加速器内的粒子数及粒子发射度。本发明通过控制同步加速器引出前的粒子数及粒子发射度来控制终端剂量的准确性及束流的品质，更好把控住QA环节，使治疗更安全有效。
一种用于离子 flash 治疗装置方法

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