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[发明专利]判断哪个光刻工序造成以曝光面积为单位的低良率的方法-CN200810044106.6有效
发明人：董英毅;洪雪辉;邵红光 -专利权人：上海华虹NEC电子有限公司
申请日： 2008-12-16 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种判断哪个光刻工序造成以曝光面积为单位的低良率的方法，包括：1)取试验硅片，选取任一个低良率的曝光面积为对象，进行其中一个具体光刻工序的试验，在进行光刻曝光之前，使原曝光面积向任意方向偏移整数个芯片的位置形成新的曝光面积，形成与原曝光面积的一个布局差；2)在相同条件下对所述新的曝光面积进行曝光显影，之后并进行良率测定；3)比较新曝光面积的良率和原曝光面积的良率损失的一致性，如两个良率的损失是一致的，则判定为由该特定光刻工序造成的低良率
判断哪个光刻工序造成曝光面积单位低良率方法

[发明专利]治具及工件制造方法-CN201610806449.6在审
发明人：李静;吉斌;杨光明 -专利权人：广东欧珀移动通信有限公司
申请日： 2016-09-06 - 公布日： 2016-12-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：治具包括：承载面，承载面适于承载被加工工件，工件具有曝光面；和反光面，反光面适于将光反射到曝光面上。根据本发明的治具，通过在治具上设置反光面，并利用反光面对光线的反射作用，将曝光光源的光线反射到工件的被遮挡的曝光面上，从而可以对工件的曝光面进行曝光。
工件制造方法

[实用新型]治具-CN201621040525.9有效
发明人：李静;吉斌;杨光明 -专利权人：广东欧珀移动通信有限公司
申请日： 2016-09-06 - 公布日： 2017-04-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：治具包括承载面，承载面适于承载被加工工件，工件具有曝光面；和反光面，反光面适于将光反射到曝光面上。根据本实用新型的治具，通过在治具上设置反光面，并利用反光面对光线的反射作用，将曝光光源的光线反射到工件的被遮挡的曝光面上，从而可以对工件的曝光面进行曝光。
治具

[实用新型]一种带有铜板的曝光尺-CN201922468602.0有效
发明人：叶钢华;吴永强 -专利权人：惠州市永隆电路有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-08-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种带有铜板的曝光尺，涉及线路板生产领域，包括透明菲林片、窗口压片和基板，所述基板为铜板，所述基板一侧边，所述基板上表面和下表面均设有曝光面和环绕曝光面设置的非曝光面，所述曝光面粘贴有干膜，所述基板上表面和下表面均设有窗口压片，所述窗口压片上对应曝光面设有透明菲林，所述窗口压片上对应透明菲林开设有透光口，所述透明菲林上对应曝光面设有曝光尺。通过采用铜板替代生产板，减少生产板返工退洗次数，降低生产板退洗率，有效的避免带有曝光尺的板流至下一工序。
一种带有铜板曝光

[实用新型]基于自发光图像调制的曝光机-CN202120286227.2有效
发明人：马建立;王东 -专利权人：深圳光韵达光电科技股份有限公司
申请日： 2021-01-29 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开一种基于自发光图像调制的曝光机，包括量子点LED屏；所述量子点LED屏具有可图像调制的发光面；所述发光面用于直接与曝光面贴合；或者，还包括设置在所述发光面与曝光面之间的透明介质，所述透明介质的一面与所述发光面贴合，所述透明介质的另一面与所述曝光面贴合；所述量子点LED屏包括：基底；设置在所述基底上的电极；设置在所述电极上且能被所述电极驱动发光的颗粒。本实用新型能提高曝光的质量。
基于发光图像调制曝光

[发明专利]立体光掩模及其制造方法以及立体表面图案化制作方法-CN201210158514.0无效
发明人：许馨卉;张胜杰;黄宝毅 -专利权人：启碁科技股份有限公司
申请日： 2012-05-21 - 公布日： 2013-12-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：立体光掩模供对物件曝光时使用。其中，物件具有立体曝光面。立体光掩模包含立体图案面以及图案单元。立体图案面具有固定以立体曝光面互补的立体形状，并可与立体曝光面相嵌合。图案单元形成于立体图案面。立体表面图案化制作工艺方法包含：提供具有立体曝光面的物件，立体曝光面覆盖有光致抗蚀剂层；提供上述立体光掩模；将立体光掩模设置于光致抗蚀剂层上，且使立体图案面与立体曝光面相嵌合；以及使用立体光掩模，对光致抗蚀剂层进行曝光
立体光掩模及其制造方法以及表面图案制作方法

[发明专利]效果广告的反作弊的计费方法、装置及存储介质-CN202110590235.0有效
发明人：张沛然 -专利权人：北京奇艺世纪科技有限公司
申请日： 2021-05-28 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G06Q30/0273 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种效果广告的反作弊的计费方法、装置及存储介质，所述方法包括：接收目标广告的广告曝光跟踪请求，广告曝光跟踪请求中携带有所述目标广告的第一曝光区域；根据所述第一曝光区域确定所述目标广告的曝光面积，并判断所述曝光面积是否满足面积约束；若所述曝光面积满足面积约束，确定所述目标广告的曝光为非作弊曝光，并将所述目标广告的曝光量加1。如此通过广告曝光跟踪请求中携带的目标广告的第一曝光区域，可以确定目标广告的曝光为非作弊曝光，避免媒体应用广告曝光的作弊行为，且在目标广告的曝光面积满足面积约束的情况下，将目标广告的曝光量加1，可以提升目标广告的曝光量统计的准确性
效果广告作弊计费方法装置存储介质

[发明专利]取向膜曝光装置用的测定机构以及取向膜曝光装置的调整方法-CN202180063149.2在审
发明人：井上智彦;山下健一;松本弘;池田富彦 -专利权人：凤凰电机公司
申请日： 2021-09-30 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G01B11/26 文献下载
摘要：本发明提供一种用于高效地实施取向膜曝光装置的照度测定、偏振元件的调整的测定机构。由配置于曝光面(A)的照度计(110)构成用于具备接受来自光源(12)的光并使透过的光照射到载置于曝光面(A)的工件(X)的偏振元件(14)的取向膜曝光装置(10)的测定机构(100)，利用该照度计(110)来测定曝光面(A)上的曝光面照度、消光比、偏振元件(14)中的偏振轴的偏移以及照射角。
取向曝光装置测定机构以及调整方法

[发明专利]一种弧形工件激光直写曝光方法-CN201910137676.8在审
发明人：陈国军;宁震坤;吴景舟;马迪 -专利权人：钧迪智能装备科技（苏州）有限公司
申请日： 2019-02-25 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种弧形工件激光直写曝光方法，其包括以下步骤：S1、将弧形工件固定在一个可摆动的座体上，将DMD曝光镜头安装在X滑座上；S2、位置初始化；S3、座体带动弧形工件摆动，在摆动的过程中DMD曝光镜头曝光在待曝光面上形成一条曝光带；S4、X滑座移动一个曝光带的宽度；S5、座体带动弧形工件摆动，在摆动的过程中DMD曝光镜头曝光在待曝光面上再次形成一条曝光带；S6、X滑座移动一个曝光带的宽度；S7、重复步骤S3至S6，直至弧形工件的待曝光面全部完成曝光该激光直写曝光方法可以对弧形工件的内凹的圆柱面状的待曝光面进行曝光，使曝光图像清晰，曝光动作可靠。
曝光弧形工件摆动激光直写曝光镜头滑座座体曝光面位置初始化曝光动作曝光图像圆柱面状可摆动移动内凹清晰重复

[发明专利]校准系统及描画装置-CN201980072514.9在审
发明人：菅原雅史 -专利权人：英视股份有限公司
申请日： 2019-09-26 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：校准系统包括：曝光头支承部，以曝光时曝光用的光束入射至基板上的预定的曝光区域的方式支承曝光头；传感器单元，包括光传感器；传感器单元支承部，曝光时，以光传感器的受光面与上述曝光区域中的曝光面平行的方式支承传感器单元，并相对于曝光头支承部能够滑动地安装；移动机构，使曝光头支承部及传感器单元支承部移动；以及控制部，控制部通过在校准时使曝光头支承部及传感器单元支承部移动，将光传感器的受光面配置在与从曝光头射出的光束曝光时入射的曝光面对应的位置
校准系统描画装置

[发明专利]曝光设备和曝光方法-CN201310210193.9无效
发明人：王灿;于剑伟 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2013-05-30 - 公布日： 2013-09-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种曝光设备和曝光方法，涉及光学领域，能够实现基板上的光刻胶的均匀曝光。该曝光设备，包括光源，还包括：位于所述光源下方的扩散片，所述扩散片靠近所述光源的一面为入光面，与所述入光面相对的一面为出光面；其中，所述光源发出的光自所述入光面进入所述扩散片，在所述扩散片内经过折射，所述光被扩散之后，自所述出光面的各处均匀出射。
曝光设备方法

[发明专利]光刻工艺方法-CN201911053198.9有效
发明人：官锡俊 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2019-10-31 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： H01L21/033 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻工艺方法，包括步骤：提供产品晶圆，测量光刻胶涂布之前的曝光面内的第一表面高度分布；涂布光刻胶，测量曝光面内的第二表面高度分布；将曝光面分成n个曝光子区域并计算各曝光子区域中光刻胶的第三厚度值；提供n片测试晶圆并涂布对应的第三厚度的光刻胶；对各测试晶圆进行曝光；测量各测试曝光图形的线宽得到对应的基准图形线宽并计算各曝光子区域的曝光图形线宽差异；将各曝光图形线宽差异转换为产品掩模板上的设计图形线宽差异；制作产品掩模板，加入设计图形线宽差异进行线宽补正；对产品晶圆涂布光刻胶、曝光和显影。本发明能减少或消除由于晶圆曝光面内表面形貌不平整产生的曝光图形线宽差异，提高产品线宽均匀性。
光刻工艺方法

[发明专利]对准方法及对准系统-CN201610309546.4有效
发明人：张强;郝静安 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2016-05-11 - 公布日： 2019-02-15 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种对准方法及对准系统，其中对准方法包括：提供待曝光晶圆；将待曝光晶圆放置在基准平面上；对曝光面进行对准测量，获得测量距离；进行曝光面与基准平面之间的调平测量，获得调平数据；根据调平数据和测量距离，获得扩张参考值本发明在扩张补偿值的计算中，加入了曝光面的调平数据；在未增加对准标志的前提下，能够获得曝光面内对准标志和基准点之间的实际距离，能够有效的减小晶圆翘曲对曝光对准误差的影响，有效提高所获得曝光补偿值的补偿精度
对准方法系统

[发明专利]描绘方法及装置-CN200680019409.1无效
发明人：角克人;古和田一辉;铃木一诚;福井隆史 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2006-05-24 - 公布日： 2008-07-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光方法及装置，使多个曝光头相对于曝光面沿规定的扫描方向相对地移动，从而在曝光面上曝光图像，其曝光合适的图像而不产生每个曝光头的图像的偏离。使用在各曝光头30₂₁、30₁₂上预先设定的基准微反射镜r₂₁、r₁₂，在曝光面上形成各曝光头30₂₁、30₁₂的基准点rp₂₁、rp₁₂，并且控制基于各曝光头20₂₁、30₁₂的曝光时刻，以使每个曝光头30₁₂、30₁₂的基准点rp₂₁、rp₁₂排列在基准线RL上。
描绘方法装置

[实用新型]胶片曝光装置-CN201220408290.X有效
发明人：金尾正康;佐藤敬行;冨塚吉博 -专利权人：株式会社V技术
申请日： 2012-08-17 - 公布日： 2013-03-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种胶片曝光装置，向胶片状的被曝光体上曝光掩模图形，通过抑制曝光面上产生的褶皱，而在曝光面上形成高精度的图形。确保用于配置对准摄像机的空间。胶片曝光装置(1)包括：胶片运送部(2)；光掩模(3)；掩模保持部(4)，将光掩模(3)保持在被曝光体F的曝光面a上；以及光照射部(5(5A、5B))，向光掩模(3)的掩模图形照射光。光掩模(3)具有沿被曝光体F的运送方向配置的第1掩模图形(31)和第2掩模图形(32)。胶片运送部(2)具有与第1掩模图形(31)和第2掩模图形(32)的位置对应而配置的一对支承辊(21、22)，用一对支承辊(21、22)支持曝光第1掩模图形(31)和第2掩模图形(32)的曝光面a的相反一侧的面
胶片曝光装置

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