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[发明专利]一种曝光装置及方法-CN201610617029.3有效
发明人：陈勇辉;蓝科;陈文枢;戈亚萍 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-07-29 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光装置及方法，该装置包括柔性基底和用于传输和固定所述柔性基底的卷对卷传输系统，还包括关于所述柔性基底轴向对称的正面曝光系统和背面曝光系统、分别与所述柔性基底的正面和背面对应的测量系统、以及分别与所述卷对卷传输系统、正面曝光系统、背面曝光系统、测量系统连接的主控制系统。通过设置正面曝光系统和背面曝光系统分别对柔性基底中的正面和背面分别进行曝光，不仅提了曝光效率，同时在正面曝光系统和背面曝光系统中分别设置两个不同的曝光系统实现对柔性基底上不同的曝光图形的粗曝光和修正曝光，可适应不同的形变量，大大提高曝光精度。
一种曝光装置方法

[发明专利]曝光系统和曝光系统的剂量控制方法-CN202111681338.4在审
发明人：吴卫军;湛宾洲;郁健;李运锋 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种曝光系统的剂量控制方法，所述曝光系统具有至少两个分曝光系统，包括：根据每个分曝光系统设定的曝光剂量、设定的基准照度以及有效视场宽度计算每个分曝光系统的最大扫描速度；比较每个分曝光系统的最大扫描速度和工件台支持的最大扫描速度并选择最低值作为工件台的扫描速度；根据所述工件台的扫描速度计算每个分曝光系统中的连续可变衰减器的透过率；根据用户下发的扫描场长度和所述工件台的扫描速度计算扫描时间，并根据所述扫描时间触发同步信号控制指定曝光系统的快门开关进行扫描曝光。解决了多个独立曝光系统的光刻机，无法实现指定的曝光系统独立曝光和不同剂量的曝光的问题。
曝光系统剂量控制方法

[发明专利]一种双面曝光系统的校正方法和曝光方法-CN202011312520.8在审
发明人：刘栋;李伟成;张雷 -专利权人：苏州源卓光电科技有限公司
申请日： 2020-11-20 - 公布日： 2022-05-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种双面曝光系统的校正方法及曝光方法，所述双面曝光系统包括校正对位系统包括至少两个对位相机，设定所述校正对位系统的一对位相机为基准相机，获取以基准相机为基准的世界坐标系；其余对位相机均统一至基准相机的世界坐标系；第一曝光系统和第二曝光系统分别曝光第一图形标记和第二图形标记至运动平台上设置的标尺；通过对位相机获取第一图形标记和第二图形标记的世界坐标，得到所述第一曝光系统和第二曝光系统的世界坐标。根据所述第一曝光系统和所述第二曝光系统的世界坐标，计算所述第一曝光系统和第二曝光系统的图形数据位置坐标信息。将各个部件的坐标系统一至同一坐标系，校正上下曝光出现的位置偏差，提升曝光精度。
一种双面曝光系统校正方法

[实用新型]一种应用于柔性印刷电路板的光刻装置-CN201922403879.5有效
发明人：张雷;刘栋 -专利权人：苏州源卓光电科技有限公司
申请日： 2019-12-27 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种应用于柔性印刷电路板的光刻装置，其包括底座，其还包括置于所述底座上的放卷装置、第一曝光系统、第二曝光系统、收卷装置，所述柔性印刷电路板自所述放卷装置，依次通过所述第一曝光系统和所述第二曝光系统，从所述收卷装置收起，所述第一曝光系统和所述第二曝光系统均包括吸附台面，对应所述吸附台面的对位装置和曝光装置，所述第一曝光系统和第二曝光系统顺序排列，方向相对。所述光刻装置不需要复杂的折返结构即完成了柔性印刷电路板的双面曝光。
一种应用于柔性印刷电路板光刻装置

[发明专利]光刻机控制系统以及控制方法-CN202110344764.2在审
发明人：马鹏川;吴卫军;杨元培 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-03-29 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻机控制系统以及控制方法，其中，所述光刻机控制系统包括：整机控制系统、曝光系统、移动台系统以及剂量曝光控制单元触发系统，所述整机控制系统规划曝光队列，并将曝光队列的参数信息下发至曝光系统和移动台系统；所述移动台系统根据曝光队列的参数信息移动到指定位置，并输出曝光信号至曝光系统；所述曝光系统根据曝光队列的参数信息完成曝光，并输出移动信号至移动台系统；所述剂量曝光控制单元触发系统用于曝光系统和移动台系统之间的信息交互采用所述光刻机控制系统能够实现曝光系统和移动台系统之间的信息直连互通，减少通讯时间，降低曝光的消耗时间，提高光刻机控制系统的产率，同时提高光刻机控制系统的可靠性。
光刻控制系统以及控制方法

[实用新型]一种双面曝光数字激光直写设备-CN201821604570.1有效
发明人：朱道龙;刘金武;张雷 -专利权人：苏州源卓光电科技有限公司
申请日： 2018-09-29 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双面曝光数字激光直写设备，包括曝光系统A、曝光系统B、待曝光工件和设备平台，设备平台上左右两侧分别设有曝光系统A和曝光系统B，曝光系统A和曝光系统B中间位置处设有待曝光工件，本实用新型的一种双面曝光数字激光直写设备，曝光对位组件A和曝光对位组件B在各自运动轴的带动下移动，当待曝光工件需要双面曝光时，可同时从两侧完成对位曝光任务，由于曝光过程仅需一次装夹和对位，生产效率明显提高，解决了现有技术的曝光机只能单次单面曝光的现存缺陷和无法完成的任务，在双面曝光上存在明显优势。
曝光系统双面曝光曝光工件数字激光直写设备本实用新型曝光对位设备平台对位单面曝光曝光过程生产效率左右两侧曝光机运动轴曝光移动

[发明专利]一种直写光刻机的光刻系统-CN201910714857.2在审
发明人：张柯;张雷;李伟成 -专利权人：苏州源卓光电科技有限公司
申请日： 2019-08-05 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻系统，包括曝光系统、运动平台系统，所述曝光系统用于对待曝光的基板进行投影，所述运动平台系统用于根据所述曝光系统的曝光操作带动待曝光的基板移动，所述曝光系统的光源为红外光源。本发明采用红外波段的光源取代或者部分取代紫外波段的光源，大幅度提高光源的能量，缩短曝光的时间，提高曝光的效率。
一种光刻系统

[发明专利]模块化曝光系统-CN200710073347.9有效
发明人：高云峰;孙海翔;苏振庆 -专利权人：深圳市大族激光科技股份有限公司
申请日： 2007-02-12 - 公布日： 2008-08-20 - 主分类号： B41B21/16 文献下载
摘要：本发明涉及一种模块化曝光系统，该曝光系统包括：用于对具有光敏介质层的曝光基体进行曝光的曝光机构；用于使曝光基体与曝光机构进行相对运动的传动机构，其中曝光机构包括多个曝光模块，该曝光系统进一步包括用于对曝光机构中的曝光模块进行检测的故障检测机构以及用于根据故障检测机构的检测结果替换故障曝光模块或故障曝光模块的可替换元件的替换机构通过采用上述结构，对曝光系统的曝光机构实现可替换模块化设计，并利用实时在线检测以及替换式修复保证整个曝光系统的可靠应用。
模块化曝光系统

[发明专利]曝光系统及其控制方法-CN200810125995.9有效
发明人：金乙泰;李成进;朴相玄;裴祥佑 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2008-06-19 - 公布日： 2009-04-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光系统及其控制方法，该曝光系统能够降低扫描时间和扫描距离。具有了这种曝光系统及其控制方法，可以实现低的生产成本和提高的曝光准确度。此外，可以实现具有不同尺寸的曝光区域的基底的快速曝光。该曝光系统包括多个光学模块组件，所述多个光学模块组件用于将有图案的光照射到彼此位于不同位置的曝光区域，所述光学模块组件被布置成允许调节彼此之间的间隔距离。所述曝光系统的控制方法包括以下步骤：确定曝光模式是否改变；如果曝光模式被改变，则根据改变后的曝光模式调节多个光学模块组件之间的间隔距离。
曝光系统及其控制方法

[发明专利]曝光系统的控制方法和曝光系统-CN202011428844.8有效
发明人：卞洪飞;董帅;高利军 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2020-12-09 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出了一种曝光系统的控制方法和曝光系统，该方法包括：获取曝光系统的感光材料的曝光剂量输入值，其中，曝光剂量输入值小于曝光剂量阈值；根据曝光剂量输入值控制激光器的输出功率；根据曝光剂量输入值确定运动平台的扫描步长；根据扫描步长控制空间光调制器或激光器，以及，根据扫描步长获得空间光调制器的显示时长或激光器打开时长；在每个扫描步长内，检测到曝光时长达到显示时长或打开时长，控制空间光调制器或激光器关闭。本发明实施例的曝光系统的控制方法可以最大化利用激光器功率，提高曝光系统的产能，并解决扫描步长增大造成的曝光拖影问题，提高曝光质量。
曝光系统控制方法

[发明专利]直写曝光机-CN202010912037.7有效
发明人：项宗齐 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2020-09-02 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种直写曝光机，所述直写曝光机包括：吸附平台系统；运动平台系统，所述运动平台安装于吸附平台系统；对准系统，所述对准系统安装于所述运动平台系统；电控系统，所述电控系统安装于所述运动平台系统，所述电控系统和所述对准系统电连接；曝光系统，所述曝光系统安装于所述运动平台系统，所述曝光系统和所述电控系统电连接，所述曝光系统包括多个曝光单元，相邻曝光单元之间的间距小于每个曝光单元的宽度。根据本发明实施例的直写曝光机能够一次扫描成型，具有生产效率高、产品质量好等优点。
曝光

[发明专利]曝光系统的控制方法和曝光系统-CN202310159619.6在审
发明人：蔡健;张玉喆;孙召召;程建高;叶加良;戴晓霖;陈东 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-02-21 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光系统的控制方法和曝光系统，所述曝光系统的控制方法包括：获取所述曝光系统的工作参数和所述曝光系统的感光材料的曝光剂量输入值；根据所述工作参数和所述曝光剂量输入值获得所述脉冲激光器单脉冲发射能量采用该方法可以通过控制脉冲激光器输出激光脉冲，从而解决了运动平台的扫描速度提升产生的横线线条过粗的问题，有效提升了曝光系统的产能，保证了曝光图形的正确性，并且由于采用脉冲激光器，提高了曝光图形的精度和激光器能量的利用率
曝光系统控制方法

[发明专利]曝光机-CN202310889583.7在审
发明人：程强;项宗齐;汪涛 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-07-19 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光机，包括：壳体、驱动系统、吸附系统、曝光系统和数据处理系统，壳体上设有容纳空间；驱动系统设于容纳空间内；吸附系统用于吸附基板，吸附系统设于驱动系统的自由端；曝光系统与基板相对设置，曝光系统设于驱动系统上；数据处理系统与驱动系统连接，数据处理系统用于控制驱动系统上吸附系统和曝光系统的相对位置以实现对于基板的曝光处理。这样，在曝光机的工作过程中，能够直接通过数据处理系统控制驱动系统的使用以实现对于基板曝光处理，能够在曝光机的结构中节省掩膜板的设置，从而简化曝光机的结构，降低曝光机的生产成本。
曝光

[发明专利]一种DMD数字光刻曝光系统及其装调检测方法-CN202310573144.5在审
发明人：王寅;李世光;曾海峰;戢逸云 -专利权人：江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-05-19 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种DMD数字光刻曝光系统及其装调检测方法，该系统包括依次设置的光源、照明系统、DMD、投影系统、后置透镜和数码相机，数码相机安装在后置透镜的后焦面；光源发出的光经照明系统匀光准直整形照射物面DMD，DMD与像面共轭成像，DMD的图形经投影系统成像在像面。本发明通过观察频谱面能量分布、形状和大小来检查曝光系统装调优劣，通过曝光系统数值孔径以及焦距合理选择后置透镜通光孔径和焦距，曝光系统频谱面成像到后置透镜焦面并通过数码相机观察；曝光系统焦距未知只能观察频谱面部分图形时，通过移动数码相机对图形进行拼接，结构简单，设计便利，频谱面更多地体现曝光细节，更能表现曝光系统装调过程照明系统和投影系统匹配问题。
一种 dmd 数字光刻曝光系统及其检测方法

[发明专利]调平晶圆的方法及图案转印的方法-CN201911280560.6在审
发明人：田笵焕 -专利权人：夏泰鑫半导体（青岛）有限公司
申请日： 2019-12-13 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种在曝光制程中调平晶圆的方法。晶圆包括多个区域。将晶圆装载到曝光系统上。曝光系统包括控制单元和调平模块。曝光系统的控制单元获得标线片的布局信息。曝光系统的控制单元根据标线片的布局信息为晶圆上的多个区域分配关键区域和非关键区域。本发明还提供一种图案转印的方法。
调平晶圆方法图案

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