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[发明专利]曝光对位装置和曝光对位方法-CN201610007168.4有效
发明人：江俊波;魏小丹;朴松鹰;董小龙;张昭;王军才;韦永强 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-01-06 - 公布日： 2017-08-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种曝光对位装置，包括掩膜版，在掩膜版上设置有干扰标识；对位模块，判断基板上是否存在干扰标识，若存在，则发出提示信息，否则将掩膜版与基板进行对位；曝光模块，用于通过掩膜版对基板进行曝光，以在基板上形成目标图形以及干扰标识根据本发明的技术方案，通过在掩膜版上设置干扰标识，在对基板曝光时，可以在基板上形成干扰标识，在后续工艺中，当基板再次进入曝光工艺时，在曝光前的将基板与掩膜版的对位过程中即可识别出基板上的干扰标识，从而判定基板已经过一次曝光工艺，进而避免基板被重复曝光。
曝光对位装置方法

[实用新型]用于PCB图形转移的曝光系统及PCB图形转移系统-CN201821083088.8有效
发明人：蔡志国;朱俊伟;魏亚菲;王志 -专利权人：苏州微影激光技术有限公司
申请日： 2018-07-09 - 公布日： 2019-05-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于PCB图形转移的曝光系统及PCB图形转移系统，该曝光系统包括对位机构和曝光机构，所述对位机构的出料端设置于所述曝光机构的进料端，待曝光的PCB板依次通过所述对位机构及曝光机构并完成对位及曝光本实用新型将对位机构与曝光机构分开独立设置并且对位机构的出料端设置于所述曝光机构的进料端；使待曝光的PCB板由对位机构的进料端传入并在对位机构上传送的同时完成对位工作，进而使PCB板被搬运到曝光机构时，因PCB板已在前段运输过程中完成对位，曝光机构只需对PCB进行曝光即可，提高了工作效率。
对位机构曝光机构图形转移曝光系统进料端对位曝光本实用新型出料端独立设置工作效率运输过程搬运传送

[实用新型]一种自动对位双面曝光设备-CN201921812085.8有效
发明人：陈志特;王华;何增灿;黄海浩 -专利权人：东莞科视自动化科技有限公司
申请日： 2019-10-26 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种自动对位双面曝光设备，包括对位曝光装置和翻板装置，所述翻板装置设置在两个所述对位曝光装置之间，所述对位曝光装置和翻板装置通过一送料模组连接；其中，所述对位曝光装置包括光源模组、对位模组、第一曝光工位、第二曝光工位和进出料工位，所述第一曝光工位和第二曝光工位分别设置在所述进出料工位的两侧；所述第一曝光工位、第二曝光工位和进出料工位上均设有一工作框模组，三个所述工作框模组分别与一导向模组连接本实用新型可同时进行对位曝光和进/出料，或同时进行对位、曝光以及进/出料，大大提高了该自动对位双面曝光设备的产能；在两个曝光装置中设置翻板装置，使该自动对位双面曝光设备可实现双面曝光。
一种自动对位双面曝光设备

[发明专利]曝光机标靶影像对位装置及使用该装置的曝光机-CN201110127162.8无效
发明人：张鸿明 -专利权人：川宝科技股份有限公司
申请日： 2011-05-17 - 公布日： 2012-11-21 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种曝光机标靶影像对位装置及使用该装置的曝光机，曝光机标靶影像对位装置，将一对以上的摄影镜头及对位光源设于一平移移载单元，借平移移载单元往复移载摄影镜头及对位光源至停驻于对位装置上方的曝光框上方；使用平移式标靶影像对位装置的曝光机，包括：对位装置；曝光装置；上、下曝光框相对对位装置与曝光装置交替移位停驻；顶升装置将停驻状态的下曝光框顶升至与上曝光框同一高度；及一标靶影像对位装置，将一对以上的摄影镜头及对位光源设于一平移移载单元，借平移移载单元往复移载该摄影镜头及对位光源至停驻于对位装置上方的曝光框上方。本发明具有摄影镜头及对位光源于移动过程不晃动及令两个曝光框接受相同强度曝光能量的功效。
曝光机标靶影像对位装置使用

[实用新型]多功能高速线3D曲面玻璃曝光机-CN201820912651.1有效
发明人：蔡志雄 -专利权人：深圳市启华自动化设备有限公司
申请日： 2018-06-12 - 公布日： 2019-02-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及多功能高速线3D曲面玻璃曝光机，包括有机座、曝光机控制系统，机座上设有校正系统、对位平台、对位系统及曝光系统，校正系统给予待曝光玻璃置放于对位平台之前预对准校正；曝光系统包括有菲林平台、曝光灯部分及菲林相机，菲林相机获取菲林平台上的菲林图像并传送给曝光机控制系统；对位系统获取对位平台上的待曝光玻璃影像并传送给曝光机控制系统，曝光机控制系统依据待曝光玻璃影像与曝光系统中的菲林图形重合对位信息驱动对位平台调整待曝光玻璃，随后进行曝光作业。实现多重对位，满足对3D曲面玻璃不规则形状多曲度的变异量的数据演算，以中心对位重合校正，提升曝光精度及质量，满足大尺寸车载3D玻璃曝光工艺。
曝光机菲林对位平台控制系统曝光玻璃曝光系统对位系统校正系统高速线重合玻璃校正影像相机本实用新型不规则形状对位信息菲林图形曝光工艺中心对位曝光变异量多曲度曝光灯有机座预对准演算对位机座置放图像驱动

[发明专利]一种对位曝光方法-CN201510249494.1有效
发明人：余学权;吴斌;李坤;任立志;沈文俊;高亚东 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-05-15 - 公布日： 2017-07-18 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开一种对位曝光方法，涉及显示面板制造技术领域，为解决使用现有的对位曝光方法无法实现对大于掩膜板尺寸的透明基板进行曝光的问题。所述对位曝光方法，包括一次对位曝光过程和二次对位曝光过程，一次对位曝光过程中在透明基板的至少一侧边缘形成多对对位标记，二次对位曝光过程中使用的掩膜板的至少一侧边缘上设有一对标记孔；在二次对位曝光过程的多次掩膜板对位过程中，使掩膜板上的一对标记孔逐一与透明基板上对应侧的各对对位标记对正。本发明提供的对位曝光方法用于对大于掩膜板尺寸的透明基板进行多次拼接的二次曝光。所述对位曝光方法用于显示基板的制作。
一种对位曝光方法

[发明专利]一种应用于直写曝光机制作内层无孔对位板的方法-CN201710054131.1在审
发明人：蔡志国;朱俊伟;吴斌;罗宜清;张显峰;张兴旺 -专利权人：苏州微影激光技术有限公司
申请日： 2017-01-24 - 公布日： 2017-06-27 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明是一种应用于直写曝光机制作内层无孔对位板的方法，方法包括，步骤一，使用直写曝光机在内层板上的第一面曝光图形，同时使用背面曝光标定装置对第二面曝光对位标记，曝光的对位标记至少包括二组；步骤二，第一面完成图形曝光后，翻转内层板，使用对位采集装置对对位标记进行采集、并计算对位标记的坐标，然后根据计算结果在第二面上曝光图形。内层板上的图形采用直写曝光机直接曝光，而对位标记采用专门的背面标定曝光装置对背面进行对位标记的曝光，在生产工艺中，能够做到对不同型号的PCB的内层板进行标准化曝光。
一种应用于曝光机制内层对位方法

[发明专利]一种双面曝光机及其曝光方法-CN201810196408.9在审
发明人：倪沁心;梁添贵;李剑锋;陈建明 -专利权人：广东华恒智能科技有限公司
申请日： 2018-03-09 - 公布日： 2018-07-06 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明涉及菲林设备技术领域，具体涉及一种双面曝光机及其曝光方法，包括第一曝光机构、第二曝光机构和翻转机构，所述第一曝光机构包括第一曝光装置和滑动设置于第一曝光装置下方的第一曝光平台，所述第一曝光平台设置有第一摄像对位装置，所述第二曝光机构包括第二曝光装置和滑动设置于第二曝光装置下方的第二曝光平台，所述第二曝光平台设置有第二摄像对位装置。本发明一种双面曝光机采用摄像对位装置对待曝光材料进行曝光，相对于传统的手动进行对位，对位更精确，同时采用两次式对位方法更快更准确，而且能够增加曝光速率。
曝光机构曝光平台曝光装置双面曝光机对位装置对位摄像曝光滑动设置设备技术领域翻转机构曝光材料传统的菲林

[实用新型]一种半自动曝光生产线-CN201620634672.2有效
发明人：倪沁心;梁添贵;陈建明 -专利权人：广东华恒智能科技有限公司
申请日： 2016-06-24 - 公布日： 2017-04-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及柔性线路板曝光技术领域，尤其涉及一种半自动曝光生产线，包括对位装置和曝光装置，所述对位装置包括对位平台，所述对位平台设置有CCD对位机构，所述对位平台的下端设置驱动对位平台进行XY轴调整的XY调整机构，所述曝光装置包括曝光平台，该生产线还包括将对位平台移动至曝光平台下方的传动机构，本实用新型能够实现基材的精确定位，并自动移动至曝光装置处曝光，无需人工操作，效率高，降低成本。
一种半自动曝光生产线

[实用新型]一种全自动一体曝光生产线-CN201620634210.0有效
发明人：倪沁心;梁添贵;陈建明 -专利权人：广东华恒智能科技有限公司
申请日： 2016-06-24 - 公布日： 2017-04-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及柔性线路板曝光技术领域，尤其涉及一种全自动一体曝光生产线，包括第一单面曝光装置和第二单面曝光装置，所述第一单面曝光装置和第二单面曝光装置之间设置有翻转机构，所述第一单面曝光装置包括对位机构和曝光机构，所述对位机构包括对位平台，所述对位平台设置有CCD对位机构，所述对位平台的下端设置驱动对位平台进行XY轴调整的XY调整机构，所述曝光机构包括曝光平台，所述第一单面曝光装置还包括将对位平台移动至曝光平台下方的传动机构，本实用新型能够实现基材的精确定位，并自动移动至曝光机构处曝光、当基材一面曝光好后，自动对基材翻转，并传至另一单面曝光装置上，对另一面进行曝光处理，无需人工操作，效率高，降低成本。
一种全自动一体曝光生产线

[实用新型]曝光定位装置-CN201820415945.3有效
发明人：李宏鑫;向菊 -专利权人：扬宣电子(清远)有限公司
申请日： 2018-03-26 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光定位装置，包括曝光机、底部对位板和顶部对位板，曝光机上端设置有曝光台面，曝光台面上固定安装有销钉和定位钉，底部对位板位于曝光台面上方，底部对位板上设有通孔和销钉孔，顶部对位板位于底部对位板上方，顶部对位板上设有与曝光台面上的销钉对应销钉孔，底部对位板和顶部对位板之间设有菲林和电路板，菲林和电路板上设有与曝光台面上的销钉对应销钉孔。本实用新型结构简单使用方便，可以快速方便的对电路板和菲林进行定位曝光，提高了生产效率。
对位板电路板曝光台销钉孔菲林销钉本实用新型曝光台面曝光定位装置生产效率曝光定位钉曝光机通孔

[实用新型]一种曝光机构及其组成的曝光设备-CN202023215705.5有效
发明人：吴康;熊威;孙帆 -专利权人：赤壁市万皇智能设备有限公司
申请日： 2020-12-28 - 公布日： 2021-09-24 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光机构及其组成的曝光设备，所述曝光机构包括曝光机构本体、对位平台和升降件，所述对位平台的上端具有水平设置的驱动板，所述曝光机构本体设置在所述对位平台的上方，且所述曝光机构本体通过多根竖直设置的滑杆与所述驱动板滑动连接，且所述升降件与所述驱动板连接固定，其升降端与所述滑杆传动连接，所述对位平台用以驱动所述曝光机构本体在水平面移动以完成对位，所述升降件用以驱动所述曝光机构本体相对于所述对位平台上下移动，其结构简单，由对位平台利用滑杆带动曝光机构本体在水平面内移动或旋转以实现曝光机构本体的主动对位，另外由升降件来驱动曝光机构本体相对于所述对位平台上下移动以实现曝光机构本体升降。
一种曝光机构及其组成设备

[发明专利]一种曝光方法及曝光设备-CN201811320426.X有效
发明人：李彬 -专利权人：惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司
申请日： 2018-11-07 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请适用于设备控制技术领域，提供了一种曝光方法及曝光设备，所述曝光方法包括：将待曝光样品划分为至少三个子区域，所述待曝光样品中的子区域呈阵列分布，从所述待曝光样品的子区域中选取两个子区域作为所述待曝光样品的两个对位区域，并依次通过所述对位区域对所述待曝光样品进行对位，在通过最后一个对位区域对所述待曝光样品对位完成后，依次对所述待曝光样品中的所有子区域进行曝光，通过本申请可以降低对位和曝光过程的时间，提高生产效率。
一种曝光方法设备

[实用新型]一种双面曝光机-CN201820332055.6有效
发明人：倪沁心;梁添贵;李剑锋;陈建明 -专利权人：广东华恒智能科技有限公司
申请日： 2018-03-09 - 公布日： 2018-09-25 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及菲林设备技术领域，具体涉及一种双面曝光机，包括第一曝光机构、第二曝光机构和翻转机构，所述第一曝光机构包括第一曝光装置和滑动设置于第一曝光装置下方的第一曝光平台，所述第一曝光平台设置有第一摄像对位装置，所述第二曝光机构包括第二曝光装置和滑动设置于第二曝光装置下方的第二曝光平台，所述第二曝光平台设置有第二摄像对位装置。本实用新型一种双面曝光机采用摄像对位装置对待曝光材料进行曝光，相对于传统的手动进行对位，对位更精确。
曝光机构曝光平台曝光装置双面曝光机对位装置摄像本实用新型滑动设置对位设备技术领域翻转机构曝光材料传统的菲林曝光

[发明专利]一种双重曝光的对位方法-CN202110863323.3在审
发明人：王绪胜 -专利权人：苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司
申请日： 2021-07-29 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种双重曝光的对位方法，该方法包括：对目标物进行一次曝光，以在目标物上形成第一曝光图形，第一曝光图形具有第一对位点；对目标物进行二次曝光，二次曝光基于第一对位点，以在目标物上形成第二曝光图形，第二曝光图形与第一曝光图形重合。通过对目标物进行一次曝光以形成第一曝光图形，在第一曝光图形上设置第一对位点，基于该第一对位点对该目标进行二次曝光并形成第二曝光图形，以使得第二曝光图形与第一曝光图形重合。该对位方法快速准确。
一种双重曝光对位方法

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