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[发明专利]用于激光直写曝光机的光源控制方法及系统-CN202310838421.0在审
发明人：李显杰;何先福;吴长江;刘世林 -专利权人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-07-10 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了用于激光直写曝光机的光源控制方法及系统，属于曝光设备领域。所述系统包括：光源控制模块和光源模块，所述光源模块包括多个光源驱动器和对应的光源，光源控制命令和光源同步命令输入光源控制板，所述光源控制板接收命令后，通过板卡内的处理芯片进行命令解析，经过数据解析后产生多组固定时延的同步信号，输出的同步控制信号分别用于控制所述光源驱动器，并进行脉冲控制信号和恒流源控制信号的切换；本发明的用于激光直写曝光设备的光源控制方式，可以有效地解决光源同步，提升了设备的光源使用率，降低光源寿命成本，提升了解析能力和图形边框毛刺降低了补偿难度和报废率。
用于激光曝光光源控制方法系统

[发明专利]一种无掩膜曝光方法及曝光装置-CN202310814692.2在审
发明人：李显杰;钱文欢;袁征;钱聪 -专利权人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-07-04 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种无掩膜曝光方法及曝光装置，属于曝光技术领域。该方法通过识别曝光图档中的数据，当曝光图形存在很多纵向空白时，直接跳过这些空白，只进行有效图形的扫描曝光，从而有效节省扫描行程，提升产能，根据待曝光图形的复杂程度，能够提升产能10％～50％。
一种无掩膜曝光方法装置

[实用新型]一种曝光机多平台实时气压监测系统-CN202321323013.3有效
发明人：何基奎;王翀;刘世林 -专利权人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-05-29 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G01L11/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光机多平台实时气压监测系统，包括主控机、PLC、气压数据采集装置和气压传感器，若干个气压传感器与气压数据采集装置连接，气压数据采集装置与PLC连接，所述PLC与主控机连接；所述气压传感器用于将气压强度值转换为模拟电流值传入气压数据采集装置，所述气压数据采集装置用于将若干个气压模拟电流值直接传入PLC，所述PLC用于将模拟电流值传入主控机，完成若干个气压传感器采集点位的气压实时监测。本实用新型采用全新的数据传输模式能够实现实时不间断多点位采集气压信号并反馈至PLC端，极大提高整体工作效率，并保证能够及时发现平台吸盘气压的变化情况。而且，从站可脱离主站完成数据数据传输，提高曝光机整体系统工作效率。
一种曝光平台实时气压监测系统

[发明专利]一种针对晶圆的曝光方法及曝光装置-CN202310872926.9在审
发明人：李显杰;钱文欢;袁征;钱聪 -专利权人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-07-14 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种针对晶圆的曝光方法及曝光装置，属于半导体领域。所述方法通过利用多边形交叠算法计算出待曝光的晶圆图形同每个条带相交的最高点和最低点，进而确定每个条带需曝光的块的个数，进而使得聚焦位置能够沿着圆形边缘移动，只对需曝光的部分进行曝光，针对晶圆图形的曝光产能将提升20～30％。
一种针对曝光方法装置

[实用新型]一种用于激光器的大电流缓启动开关电路-CN202320907800.6有效
发明人：何基奎;王汉;路建军 -专利权人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-04-21 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： H02M1/36 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于激光器的大电流缓启动开关电路，包括：供电单元、控制单元、信号单元、驱动单元和输出单元；本实用新型提供的缓启动开关电路，通过MOS管缓慢启动开关电路，使输出电压逐渐升高直至与输入电压一致，避免了传统激光器的开关电路闭合瞬间变跳至最高电压，大大减轻了冲击电流的干扰，减弱了因开关瞬间产生抖动、毛刺等干扰对后级电路的影响，提升了电路的安全性。
一种用于激光器电流启动开关电路

[发明专利]一种用于先进封装的微米级光刻机及应用-CN202310702772.9在审
发明人：李显杰;徐彦文;徐广峰;陈海巍;王方江 -专利权人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-06-14 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于先进封装的微米级光刻机及应用，属于曝光技术领域。本发明提供一种用于先进封装的微米级光刻机，包括安装在大理石底座上的运动控制平台和龙门、安装在所述运动控制平台上的吸附装置、安装在所述龙门的精对准系统和粗对准系统以及光路系统。本发明设置有粗对准系统和精对准系统组合，虽然对准时间变长，但是能够达到较高的微米级对准精度；利用位移传感器进行实时聚焦对准，能够确保得到准确的焦面，为后续曝光提供良好的效果；能够同时对两个工位的晶圆进行曝光，有效提高了产能效率；利用压电螺钉调节DMD的平面度和倾斜度，进一步减小了手动调节的误差。
一种用于先进封装微米光刻应用

[发明专利]一种LDI曝光机及其定位精度自动校准方法-CN202310699307.4在审
发明人：何基奎;徐广峰;徐彦文;陈海巍;王方江 -专利权人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-06-14 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种LDI曝光机及其定位精度自动校准方法，属于曝光设备技术领域。所述平台包括：底座、直线导轨、对准相机A、对准相机B、对准相机C、吸盘、X轴光栅尺、Y轴光栅尺、X轴标定尺、Y轴标定尺、成像光路、上位机、运动控制器；本发明使用多排对准相机拼接标定尺的方式，使标定尺可校准远超过自身量程的运动范围；本发明无需专业人员携带贵重仪器到现场执行校准，在对准标定中就能发现并校准定位精度，无需客户端停机就能实现校准，极大地缩减了设备成本和人力成本，提升了设备生产的效率，减少了停机损失，且依靠算法计算得到的补偿值更准确，提高了产品的生产质量，可广泛应用于LDI平台的校准。
一种 ldi 曝光及其定位精度自动校准方法

[发明专利]一种LDI多波段照明装置-CN202310537956.4在审
发明人：李显杰;刘学;李世光;吴长江 -专利权人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-05-12 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种LDI多波段照明装置，属于LDI的照明装置领域。本发明提供一种LDI多波段照明装置，包括LED照明组件及其内部的第一光源组、LD照明组件及其内部的第二光源组、安装有耦合透镜的耦合连接组件和数字微镜组件，所述LED照明组件由所述耦合连接组件与所述LD照明组件连接，所述LED照明组件、所述耦合连接组件和所述LD照明组件内部连通。本发明利用耦合透镜将LED光源和LD光源耦合到一起透射，节省了工艺步骤；同时LED光源和LD光源可根据实际需要自由搭配组合更广泛的波段，不在拘泥于单一波段的局限性，满足了低成本工艺覆盖的需求；同时设置有复眼、光棒、透镜组等多个光线整形设置，能够确保LED光源和LD光源的光路形态达到所需的标准和精度。
一种 ldi 波段照明装置

[发明专利]一种DMD数字光刻曝光系统及其装调检测方法-CN202310573144.5在审
发明人：王寅;李世光;曾海峰;戢逸云 -专利权人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-05-19 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种DMD数字光刻曝光系统及其装调检测方法，该系统包括依次设置的光源、照明系统、DMD、投影系统、后置透镜和数码相机，数码相机安装在后置透镜的后焦面；光源发出的光经照明系统匀光准直整形照射物面DMD，DMD与像面共轭成像，DMD的图形经投影系统成像在像面。本发明通过观察频谱面能量分布、形状和大小来检查曝光系统装调优劣，通过曝光系统数值孔径以及焦距合理选择后置透镜通光孔径和焦距，曝光系统频谱面成像到后置透镜焦面并通过数码相机观察；曝光系统焦距未知只能观察频谱面部分图形时，通过移动数码相机对图形进行拼接，结构简单，设计便利，频谱面更多地体现曝光细节，更能表现曝光系统装调过程照明系统和投影系统匹配问题。
一种 dmd 数字光刻曝光系统及其检测方法

[发明专利]一种晶圆对位标记的快速检测系统及方法-CN202310616172.0在审
发明人：李显杰;窦志前;袁征 -专利权人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-05-29 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆对位标记的快速检测系统及方法，属于曝光设备技术领域。本发明采用多种定位方式协同定位，依次为粗定位，精定位，考虑到图像变形等问题采用重心定位，在多种定位方式协同后，彻底摆脱缺陷、杂点、涂胶等情况对图像造成的影响，同时采用三次处理模块的重心校正法，避免图像在光刻中的变形对定位造成影响，有效地提升了定位精度；此外，采用方向矩阵进行图像相似判定，图像的方向矩阵更加不容易受到光线、杂点等情况的干扰，有效地提升了抗干扰能力；本发明对硬件设备的要求不高，可以降低成本，且相比于基于深度学习的检测方法，本发明无需进行复杂的训练和重复学习的过程，计算速度较快，因此检测效率较高。
一种对位标记快速检测系统方法

[发明专利]一种用于LDI设备的自动聚焦方法及系统-CN202310620790.2在审
发明人：李显杰;于鹏;袁征 -专利权人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-05-29 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于LDI设备的自动聚焦方法及系统，属于光刻直写曝光机投影显示及图像处理技术领域。本发明仅需要基于一台工业相机搭建的硬件系统，便可实现聚焦；系统结构简单，易于后期维护保养。本发明设计了一种清晰度评价函数，来反映某一焦距条件下的成像效果的好坏，实现更好的自动聚焦效果。在设备寻找最佳的焦距位置时，本发明对现有搜索方法进行优化改进，实现了快速性和搜索结果的准确性的优化，来达到良好的使用效果；此外，发明中也设计了一种基于识别模型的聚焦窗口自动选择方式，让聚焦更具有针对性，节省计算资源。本发明实现一种快速、精准的LDI自动聚焦方法，达到聚焦结果精度高，聚焦速度快且鲁棒性好的效果。
一种用于 ldi 设备自动聚焦方法系统

[发明专利]一种快速检测LDI设备状态的方法-CN202210304578.0在审
发明人：袁征;吴长江 -专利权人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2022-03-21 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种快速检测LDI设备状态的方法，属于PCB板曝光技术领域。通过软件自带工具曝光一张包含M行*N列的矩阵点的检测图形，用对准相机测试其曝光点的位置与理论位置比对，并自动对测试数据进行分析，检测设备是否存在问题，快速定位问题点，例如光路是否存在问题、工件台的定位精度、水平直线度、YAW等是否存在问题，节省停机检查的时间；进一步的，通过将矩阵点设置为实心圆或者圆环，分别实现对于图形正确性以及图形对准结果的检测。
一种快速检测 ldi 设备状态方法

[实用新型]一种双面一体光刻装置-CN202221522801.0有效
发明人：曾振军;王方江;陈海巍 -专利权人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2022-06-17 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双面一体光刻装置，属于曝光设备技术领域。本实用新型将待光刻的PCB板放置在透明的台面上，随着台面的移动依次通过对准系统、进行上表面光刻的前光学成像系统和进行下表面光刻的后光学成像系统，后光学成像系统的成像图形可以透过透明台面对PCB板的下表面进行光刻；通过可以上下移动的台面，在光刻之前把待光刻的PCB板面调整到光学成像系统的焦面上，有效地解决了因PCB板厚度不一致导致的上下表面对位精度差的问题；相比于现有的双面一次性同时光刻技术，本实用新型简化了光学成像系统的机械结构，缩短了生产周期时间，有效地提升了生产效率。
一种双面一体光刻装置

[外观设计]激光直写曝光设备-CN202230402001.4有效
发明人：徐彦文;陈海巍;王方江 -专利权人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2022-06-28 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：激光直写曝光设备。2.本外观设计产品的用途：适用于PCB印刷电路板的激光直写曝光。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
激光曝光设备

[发明专利]激光直写设备中多路光路校准系统及方法-CN202010573071.6有效
发明人：肖燕青;茆晓华;陈海巍 -专利权人： 江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2020-06-22 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了激光直写设备中多路光路校准系统及方法，属于曝光技术领域。所述方法通过成像转换组件对各光路所投的图像进行转换，像经过成像转换组件透镜组后变成平行光通过校准光路的各光学元件(全反镜+透反镜)，最终经CCD物镜将平行入射的光线成像到CCD靶面相机上。通过成像转换组件将光路用于校准的图形成像到无穷远，从而解决了CCD靶面相机与各光路距离不一样的问题，因为不需要移动载物平台，所以避免了现有多光路校准的方法存在的耗时长且校准精度依赖于可移动平台的精度的问题。
激光设备中多路光路校准系统方法

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