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[发明专利]一种曝光显影装置及方法-CN201710527269.9有效
发明人：谢仁飚 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2017-06-30 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光显影装置及方法，该装置包括曝光系统、显影系统、视觉对准系统以及位于所述曝光系统、显影系统之间的工件传输系统，所述曝光系统设于系统框架上，包括沿光路依次设置的照明单元、掩模台、投影单元和工件台本发明同时集成了曝光系统和显影系统，可一次性从曝光到显影，显影结果检验后可直接送出进行刻蚀，大幅减少人力操作和人工成本；通过视觉对准系统可自动完成所有PSS调试，包括确认焦面、调整拼接参数和调整非正交，
一种曝光显影装置方法

[发明专利]抗蚀膜形成基板的制造方法及其所涉及的工序管理系统-CN201910656946.6在审
发明人：山田将弘;喜田哲也;冈岛弘明 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2020-02-14 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：一种抗蚀膜形成基板的制造方法具有：在基板(10MG)上涂布抗蚀膜(18、19)的涂布工序、选择性地曝光在涂布工序中涂布的抗蚀膜(18、19)的曝光工序、显影在曝光工序中选择性地曝光的抗蚀膜(18、19)的显影工序，所述显影工序基于进行涂布工序之后转移到该显影工序的转移时间调整显影所涉及的处理时间。
抗蚀膜涂布工序显影工序曝光工序基板显影涂布抗蚀膜时间调整曝光图案制造

[发明专利]电路板标记系统及其使用方法-CN201010249854.5无效
发明人：白耀文 -专利权人：富葵精密组件(深圳)有限公司;臻鼎科技股份有限公司
申请日： 2010-08-12 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种电路板标记系统，其包括依次设置的曝光装置、显影装置以及蚀刻装置。曝光装置包括二维码产生单元、液晶显示单元、曝光光源以及外罩。二维码产生单元用于生成二维码。曝光光源用于以液晶显示单元显示的二维码作为曝光图案对电路板表面的光致抗蚀剂层进行曝光。外罩围合在该曝光光源与该液晶显示单元之间，用于使曝光光源发出的光投射至液晶显示单元。显影装置用于对曝光后的电路板进行显影，以在光致抗蚀剂层中形成与曝光图案对应的显影图案。蚀刻装置用于蚀刻显影后的电路板，以在电路板中形成与显影图案相对应的二维码标记。
电路板标记系统及其使用方法

[发明专利]一种通过版图设计灵活控制电子束光刻显影时间的方法-CN200510005742.4无效
发明人：陈杰智;张建宏 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2005-01-25 - 公布日： 2006-08-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及范围是微细加工技术领域，特别是一种版图设计灵活控制电子束光刻显影时间的方法。曝光数据文件由正式曝光版图和测试版图组成；将测试版图在曝光过程中设计一组变剂量，显影时间可以根据测试版图的显影情况而灵活控制。在正式曝光版图中增加设计一组不同剂量的图形，通过观察这些图形的显影情况来确定正确的显影时间。所述的测试图形的版图是根据正式曝光版图来设计的，具有很大的灵活性。这种设计方案简单易行，尽可能的降低了偶然因素对显影结果的影响，使显影后图形与设计图形保持很好的一致性。可广泛用于电子束曝光中的版图设计。
一种通过版图设计灵活控制电子束光刻显影时间方法

[发明专利]一种半导体结构及其制作方法-CN202010047678.0有效
发明人：李天慧;于星;王科;秦俊峰;王凡 -专利权人：芯恩（青岛）集成电路有限公司
申请日： 2020-01-16 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体结构及其制作方法，包括以下步骤：提供一衬底，形成负显影光刻胶层于所述衬底上；进行失焦曝光，使所述负显影光刻胶层的预设区域曝光，其中，所述预设区域的顶部宽度大于底部宽度；进行负显影，去除所述负显影光刻胶层未被曝光的区域，得到上下贯穿所述负显影光刻胶层的开口，所述开口的顶部宽度小于底部宽度。本发明通过失焦曝光和负显影工艺得到顶部宽度小于底部宽度的开口，可以用于光刻胶剥离工艺。本发明通过控制失焦曝光的次数及失焦曝光的失焦程度即可方便控制开口的轮廓，具有很高的灵活性，同时工艺难度不高，有利于提高生产效率并降低生产成本。
一种半导体结构及其制作方法

[发明专利]显影液浓度的验证方法-CN201010256594.4无效
发明人：吴小龙 -专利权人：无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2010-08-18 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：一种显影液浓度的验证方法，包括以下步骤：步骤一，将涂覆有光刻胶的圆片的曝光区域划分为多个小块，对每个小块依次使用递增或递减的曝光能量进行曝光，并记录下每个小块的曝光能量值；步骤二，使用被验证的显影液对所述光刻胶进行显影；步骤三，找出与显影液反应充分和不充分的分界处第一个反应充分的小块，并查出对应的曝光能量值；步骤四，将步骤三中查出的曝光能量值与标准值进行对比，从而判定显影液浓度是否达标。本发明的方法成本低、速度快、操作便捷，可以简单、快速的确认显影液的浓度是否异常，因此可以大大降低成本并提高生产效率。
显影液浓度验证方法

[发明专利]防止绿油塞孔的PCB制造方法-CN201610307546.0有效
发明人：黎艺海;蔡伟贤 -专利权人：东莞美维电路有限公司
申请日： 2016-05-09 - 公布日： 2018-06-05 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：一种防止绿油塞孔的PCB制造方法，包括以下步骤：(1)、阻焊前处理；(2)、丝印，在铜层上覆盖一层阻焊油墨；(3)、预烘，进行预加热；(4)、对位曝光，将需要阻焊的区域上所覆盖的阻焊油墨进行选择性紫外线曝光，形成一阻焊层；(5)、显影；(6)、返对位曝光，将PCB板除了功能孔之外的区域进行二次紫外线曝光；(7)、返显影，采用化学药水对功能孔内的阻焊油墨进行再次显影，以彻底清除功能孔内所残留的阻焊油墨；(8)、检板；(9)、后烘；(10)、对PCB板再次进行阻焊前处理、丝印、预烘、对位曝光、显影、返对位曝光、返显影、检板、后烘的工艺处理。本发明引进返曝光、返显影流程，有效解决绿油塞孔的问题。
显影阻焊油墨对位曝光功能孔绿油塞孔阻焊紫外线曝光前处理后烘检板丝印预烘工艺处理化学药水显影流程有效解决预加热阻焊层覆盖铜层残留

[发明专利]一种制作曲面浮雕轮廓器件的掩模版图案优化设计方法-CN202111616388.4有效
发明人：刘志祥;徐富超;贾辛;谢强 -专利权人：中国科学院光电技术研究所;成都同力精密光电仪器制造有限公司
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本发明公开了一种制作曲面浮雕轮廓器件的掩模版图案优化设计方法，根据曝光光强分布与光刻胶不同成分的吸收系数、光敏系数等参数的关系，建立光刻胶的光敏混合物(PAC)浓度分布对曝光光强的响应模型；根据光刻胶完全曝光的显影速率、光刻胶未曝光的显影速率、光敏物质相对浓度的阈值、显影选择常数等参数建立光刻胶显影模型；通过分层计算光刻胶各点PAC浓度分布和显影速率分布，再结合采用微小单元格去除法，建立起从曝光量到实际显影图形轮廓的仿真流程；根据掩模移动曝光原理建立二元掩模开口函数与曝光量的关系；再通过迭代优化算法，优化设计得到曲面浮雕轮廓器件制作所需的掩模版图案。
一种制作曲面浮雕轮廓器件模版图案优化设计方法

[发明专利]涂敷、显影装置和涂敷、显影方法-CN200610007088.5有效
发明人：林田安;原圭孝 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2006-02-14 - 公布日： 2006-09-13 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：涂敷·显影装置具备：处理块，在晶片上形成抗蚀剂膜后将其运送至曝光装置，并对曝光后的基板进行显影处理；和接口运送机构，设在处理块和曝光装置之间，上述处理块具有涂敷抗蚀剂的涂敷膜形成用单位块、和进行显影处理的显影处理用单位块，并另外设置有涂敷膜形成用单位块运送机构和显影处理用单位块运送机构。另外，调整把曝光后的基板从接口块运送机构交接至交接台后，由显影处理用单位块运送机构接取该基板的时刻，以使从该基板曝光到运入加热单元的时间为预先设定的时间。
涂敷显影装置方法

[发明专利]带预曝光胶片的胶片装置及其制造方法-CN92105371.1无效
发明人： C·L·奥尔森;H·R·帕森斯 -专利权人：宝丽来公司
申请日： 1992-07-08 - 公布日： 1993-04-07 - 主分类号： G03B15/00 文献下载
摘要：在制造胶片单元的过程中，将其一个部分遮盖住，同时将其第二部分曝光，以便形成遮片上的标记的潜影。预曝光的胶片单元附有一个显影液荚，两者一起装入盒中。将片盒插入照相机中，在那里，在将胶片的预曝光部分遮盖住使其不能曝光的同时，将胶片单元上原先未曝光部分在成象光中曝光。令该显影液荚通过一对辊轮以便挤破显影液荚，使显影液撒涂在胶片涂层之间，从而使两个潜影显影在单张照片上。
曝光胶片装置及其制造方法

[发明专利]图像形成设备-CN201410499704.8有效
发明人：森照吾 -专利权人：兄弟工业株式会社
申请日： 2014-09-26 - 公布日： 2020-03-13 - 主分类号： G03G15/08 文献下载
摘要：本发明提供一种图像形成设备，能够抑制从外部进入的光对感光鼓的曝光。所述图像形成设备包括：壳体；感光鼓，配置在所述壳体内；曝光头，面对所述感光鼓的周面，用于对所述周面曝光；显影盒，具有用于将显影剂供给到所述感光鼓的显影辊，被构成为能够相对于所述壳体进行安装和卸下，在所述显影盒安装到所述壳体的状态下，所述显影盒配置在所述曝光头的下方；以及遮光构件，具有第一部分，所述第一部分设置在所述曝光头与所述显影辊之间，与通过所述感光鼓的轴线和所述显影盒的上端的平面交叉。
图像形成设备

[实用新型]一种晒图机-CN201420501325.3有效
发明人：林位书 -专利权人：福建帝傲数码科技有限公司
申请日： 2014-09-02 - 公布日： 2014-12-31 - 主分类号： G03B27/52 文献下载
摘要：本实用新型提供一种晒图机，包括供纸装置、数码曝光装置、显影装置，所述供纸装置具有两个纸卷，所述供纸装置还包含输纸通道，所述输纸通道的两个进口分别置于两个纸卷的一侧，所述输纸通道的出口置于所述数码曝光装置的一侧边上方，所述数码曝光装置用于向上投射曝光图像，所述显影装置具有输纸进口和输纸出口，所述输纸进口置于所述数码曝光装置另一侧边上方，所述显影装置内包含有在上面的上压辊、在下面的显影辊和显影液，所述上压辊和显影辊相接触，所述显影辊的下侧部分浸渍在显影液中。
一种晒图机

[发明专利]一种外层挠性刚挠结合电路板线路图形的制作工艺-CN202210271263.0有效
发明人：陈定成;宋波 -专利权人：信丰迅捷兴电路科技有限公司
申请日： 2022-03-18 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：一种外层挠性刚挠结合电路板线路图形的制作工艺，包括以下步骤：油墨印刷，在挠性基板面弯折镂空区域局部印刷湿膜感光油墨；低温固化印刷后的湿膜感光油墨；对油墨印刷面单面曝光；通过药水显影已曝光的局部区域；基板的双面整面贴干膜；双面整面曝光，湿膜已曝光、显影区域不再重复曝光，便于显影去掉膜；正常双面显影；并最终完成线路图形。本发明通过湿膜加干膜的工艺方法，解决了因半固化片镂空而导致外层挠性基板凹陷从而造成干膜无法压实破裂现象；所述湿墨印刷工艺方法可完全涂满凹陷区域，曝光、显影出线路图形后再贴干膜二次曝光，同时曝光避开湿膜区域
一种外层挠性刚挠结合电路板线路图形制作工艺

[发明专利]图案形成方法、光固化性树脂组合物、层叠体的制造方法及电子器件的制造方法-CN202080080358.3在审
发明人：井上和臣;岛田和人;榎本雄一郎;佐藤直树 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-11-18 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本发明提供一种图案形成方法、上述图案形成方法中所使用的光固化性树脂组合物、包括上述图案形成方法的层叠体的制造方法及包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法或光固化性树脂组合物，所述图案形成方法包括：第1曝光工序，曝光由光固化性树脂组合物形成的光固化性膜的一部分；显影工序，通过显影液对上述曝光后的上述光固化性膜进行显影来获得显影图案；及第2曝光工序，曝光上述显影图案来获得图案，上述光固化性树脂组合物为特定组成。
图案形成方法光固化树脂组合层叠制造电子器件

[发明专利]一种提高正型光刻胶厚膜分辨率的光刻方法-CN202210641171.7在审
发明人：冯云云;贾斌;豆秀丽;常唯淑;王伟;冯培龙;王奇;李涛 -专利权人：明士（北京）新材料开发有限公司
申请日： 2022-06-08 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高正型光刻胶厚膜分辨率的光刻方法，属于光刻胶曝光显影工艺技术领域。该工艺立足于提高厚膜(＞20μm)光刻胶的分辨率，通过在曝光显影过程中，添加阻溶剂，抑制未曝光区的溶解，进而增强曝光区和未曝光区的溶解对比度，再结合多次曝光/多次显影的工艺过程。该方法可以降低曝光时间，减少膜厚损失，提高留膜率及图案分辨率。
一种提高光刻胶厚膜分辨率方法