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[发明专利]曝光及显影设备以及曝光及显影方法-CN201310534987.0在审
发明人：黄昱嘉;杨靖哲 -专利权人：上海和辉光电有限公司
申请日： 2013-10-31 - 公布日： 2015-05-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开提供一种曝光及显影设备以及曝光及显影方法。该曝光及显影设备包括：边缘曝光装置，用于对基板的边缘进行曝光；显影装置，用于对曝光后的基板进行显影，该边缘曝光装置位于该显影装置的入口处；其中，该基板在被输送至该显影装置的过程中，被该边缘曝光装置进行边缘曝光由于在显影装置的入口处设置边缘曝光装置，基板在进入显影装置的过程中即可同时完成边缘曝光，因此不必多次搬送基板，可缩短工序，大幅提高加工效率。
曝光显影设备以及方法

[发明专利]一种显影均匀性检测方法-CN201610764846.1有效
发明人：周兵兵 -专利权人：苏州同冠微电子有限公司
申请日： 2016-08-30 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种显影均匀性检测方法，包括以下步骤：曝光模式预设：根据承印晶圆的规格，在光刻机上进行多个曝光阵列位置的设定，所述曝光阵列由多个曝光单元格整齐排列而成，多个曝光阵列均采用相同的曝光能量设定进行曝光；承印晶圆涂胶、曝光并显影：将承印晶圆涂覆光刻胶后，置于光刻机内，采用预设的曝光模式进行曝光后进行显影处理；显影均匀性判定：根据每个曝光阵列中白色曝光单元格的数量，计算每个曝光阵列的中间显影能力值，中间显影能力值等于白色曝光单元格对应的曝光能量值的平均值，比对不同位置曝光阵列的中间显影能力值，即可完成显影均匀性判断。本发明操作简单，有效提高了显影均匀性检测的效率。
一种显影均匀检测方法

[实用新型]一种曝光显影机-CN201822109917.1有效
发明人：张宇;张岩;江克明;刘均林;朱方德;陈宇凡 -专利权人：广州金鹏源康精密电路股份有限公司
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2019-08-27 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光显影机，曝光装置包括传送装置以及真空曝光室，传送装置安装在曝光室内，曝光室内设有用于曝光的LED灯，LED灯安装在传送装置的两侧。显影装置与曝光装置相连接，显影装置包括装有有机溶液的显影单元，在显影单元的一端设有第一感应装置，另一端装有第二感应装置。通过在显影装置进出口上设置感应装置，操作人员可以知晓板件何时传出显影装置，操作方便，能够提高生产效率。同时在真空曝光室内安装有LED灯，显影单元内设有有机显影溶液，能够保证曝光能量的稳定性和均匀性，并且显影出平直、成像清洗的线路，能提高产品的生产质量。
显影装置曝光传送装置感应装置显影单元曝光装置显影机室内本实用新型曝光能量生产效率室内安装显影溶液有机溶液均匀性曝光室板件平直显影成像清洗进出口保证生产

[发明专利]PCB板电路图形显影曝光方法-CN201310360247.X有效
发明人：石学权 -专利权人：四川海英电子科技有限公司
申请日： 2013-08-19 - 公布日： 2013-12-18 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种PCB板电路图形显影曝光方法，包括以下步骤：（1）准备菲林；（2）对位曝光；（3）显影；（4）清洗并干燥。本发明的有益效果：曝光过程中，先进行曝光能量测试，确定曝光时间，保证了曝光度，而且在真空中进行曝光，菲林和PCB板贴合完全，保证了曝光效果；本发明的显影过程，严格控制显影参数，保证了显影效果，而且采用喷淋显影，加快了显影速度，然后压力水洗、热风烘干，保证了PCB板清洗和干燥速度，非常适合流水线生产。
pcb 电路图形显影曝光方法

[实用新型]LED曝光显影机-CN201620776587.X有效
发明人：南景照;郭家义;李波;周建兴;李雪梅;李美元;冯红波 -专利权人：惠州威尔高电子有限公司
申请日： 2016-07-21 - 公布日： 2016-12-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开LED曝光显影机，属于PCB板加工设备技术领域，其包括曝光装置，所述曝光装置连接有显影装置，曝光装置内设有辊筒构成的曝光传送装置和曝光室，曝光传送装置穿过曝光室且延伸至所述显影装置的收集盘，曝光室在曝光传送装置上下两侧的安装有LED灯以及在曝光传送装置的一侧安装有光电传感器，所述收集盘的上端设有吸取装置和光电传感器，收集盘的两侧分别设有输出装置和显影槽，所述显影槽的侧壁上安装有超声振动器该实用新型通过改进曝光显影机的构造来节约能源、增强显影效果，提高绿油板的生产质量。
led 曝光显影

[发明专利]金属围坝的曝光显影方法及金属围坝和陶瓷基板-CN202110337255.7在审
发明人：王军;陈文阳;于正国 -专利权人：赛创电气（铜陵）有限公司
申请日： 2021-03-30 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： H01L21/48 文献下载
摘要：本发明公开了金属围坝的曝光显影方法及由此制得的金属围坝和陶瓷基板，将压至少三层膜后的围坝放在曝光机的曝光平台上，曝光平台增加遮光布开始曝光，曝光能量为1000mj/cm2，显影次数为两次，显影速度0.75m/min，垫条高度1.2mm。本发明的有益效果是通过对曝光显影工艺的改进，调整曝光时间、垫条高度、显影次数和显影速度，可以对多层比如六层压膜的围坝进行符合要求的显影效果。
金属曝光显影方法陶瓷

[发明专利]涂胶曝光显影测量一体化装置及涂胶曝光显影测量方法-CN202010073058.4在审
发明人：王维斌;李龙祥;林正忠;陈明志;严成勉 -专利权人：盛合晶微半导体（江阴）有限公司
申请日： 2020-01-22 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种涂胶曝光显影测量一体化装置及基于该装置的涂胶曝光显影测量方法，所述涂胶曝光显影测量一体化装置包括：主腔体，包括涂胶室、曝光室、显影室、测量室；所述涂胶室用于执行涂胶工序，所述曝光室用于执行曝光工序，所述显影室用于执行显影工序，所述测量室用于测量关键尺寸；晶圆卸载台，用于放置加工完成的晶圆，位于所述主腔体的出口处；机械手臂，用于晶圆的夹取与传送；控制单元，控制所述涂胶曝光显影测量一体化装置的运行。本实施例提供的涂胶曝光显影测量一体化装置及基于该装置的涂胶曝光显影测量方法，使曝光机能够和涂胶机、显影机两种有污染气体的设备，有效的结合在一起，提供高效的产出，节约净化厂房空间布局，人力投入，使生产成本大幅降低
涂胶曝光显影测量一体化装置测量方法

[实用新型]一种具有曝光功能的涂胶显影机-CN201420652598.8有效
发明人：蔡家豪;王兵;陈松;吕荣英;段伟 -专利权人：安徽三安光电有限公司
申请日： 2014-11-05 - 公布日： 2015-02-11 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：一种具有曝光功能的涂胶显影机，集涂胶、曝光和显影功能于一体，至少包括涂胶单元、曝光单元、显影单元以及晶片承载装置，所述涂胶单元、曝光单元和显影单元通过具有固定、加热和旋转晶片功能的晶片承载装置作为载体，进行涂胶、曝光和显影的循环操作。所述具有曝光功能的涂胶显影机为一体机，提高了晶片生产的自动化程度，其可同时作业多片晶片，提高了晶片的生产效率。
一种具有曝光功能涂胶显影

[发明专利]一种大马士革工艺方法-CN200810035095.5有效
发明人：王金丽 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2008-03-25 - 公布日： 2009-09-30 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明揭露了一种大马士革工艺方法，其于基底上的沟槽或层间通孔的形成过程中可减少显影与刻蚀的次数，包括如下步骤：(1)连续对多个光阻层进行曝光处理并且于其间不进行显影处理，从而形成一曝光区域；(2)对上述曝光区域进行显影处理，从而得到与曝光区域相应的显影区域；(3)通过上述显影区域对基底或一介质层进行刻蚀，形成所需沟槽或通孔。可见其将多次曝光处理后所得到的曝光区域进行一次显影与刻蚀，得到所需的沟槽或通孔。与传统工艺相比将每次曝光处理后的显影处理集中到一次显影中完成，减少了显影与刻蚀的次数，提高了效率。
一种大马士革工艺方法

[发明专利]监测光刻工艺曝光机的能量偏移的方法-CN200910195404.X无效
发明人：安辉 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-09-09 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种监测光刻工艺曝光机的能量偏移的方法。该方法首先得到曝光机能量正常的情况下曝光能量所对应的曝光并显影后光刻胶膜的厚度；然后在对曝光机的能量进行监测时，以低于曝光阈值的能量对晶圆上形成的光刻胶膜进行曝光，显影，然后测量显影后光刻胶膜的厚度；将显影后光刻胶膜的厚度与曝光机能量正常的情况下该低于曝光阈值的能量所对应的曝光并显影后光刻胶膜的厚度进行比较；然后，根据比较结果判断当前曝光机的能量是否出现偏移。由于曝光并显影后光刻胶膜的厚度对所使用的曝光能量很敏感，因此该方法显著提高了对曝光机能量监测的灵敏度和准确度。
监测光刻工艺曝光能量偏移方法

[发明专利]一种曝光方法及系统-CN202011210583.2在审
发明人：朱夏彦;陈国军;吴景舟;马迪 -专利权人：江苏迪盛智能科技有限公司
申请日： 2020-11-03 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明揭示了一种曝光方法及系统，所述方法包括：依照特定的曝光图像对基板进行第一次曝光，之后将基板进行显影，在基板上显影出曝光图像；对显影后的基板进行第二次曝光，用于对基板进行固化；在第二次曝光后，再依次对基板进行镀金及退膜本发明通过在显影步骤后增加二次曝光过程，对基板上的膜进行曝光加固，从而提升曝光机的曝光产能。
一种曝光方法系统

[实用新型]涂胶曝光显影测量一体化装置-CN202020142918.0有效
发明人：王维斌;李龙祥;林正忠;陈明志;严成勉 -专利权人：中芯长电半导体（江阴）有限公司
申请日： 2020-01-22 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型提供一种涂胶曝光显影测量一体化装置，所述涂胶曝光显影测量一体化装置包括：主腔体，包括涂胶室、曝光室、显影室、测量室；所述涂胶室用于执行涂胶工序，所述曝光室用于执行曝光工序，所述显影室用于执行显影工序，所述测量室用于测量关键尺寸；晶圆卸载台，用于放置加工完成的晶圆，位于所述主腔体的出口处；机械手臂，用于晶圆的夹取与传送；控制单元，控制所述涂胶曝光显影测量一体化装置的运行。本实施例提供的涂胶曝光显影测量一体化装置及，使曝光机能够和涂胶机、显影机两种有污染气体的设备，有效的结合在一起，提供高效的产出，节约净化厂房空间布局，人力投入，使生产成本大幅降低。
涂胶曝光显影测量一体化装置

[发明专利]一种电极金属层制作方法-CN202211063491.5在审
发明人：李慧敏;钟伟华;彭足超;李景浩;鲁日彬;蔡武 -专利权人：福建兆元光电有限公司
申请日： 2022-08-31 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： H01L33/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种电极金属层制作方法，在衬底上依次生长缓冲层和外延层，对外延层进行刻蚀后在外延层的P型氮化镓上生长氧化铟锡层；在氧化铟锡层和外延层的N型氮化镓上均使用曝光量90‑150mj、显影温度110‑114℃，对光刻胶进行曝光、显影，并在显影后的位置蒸镀得到电极金属层。在现有技术中通常使用曝光量280mj和显影温度106℃进行光刻胶的曝光显影，且减少曝光量会使得尺寸变大，而本发明中在降低曝光量的同时增加显影温度，此时增加显影温度可使光刻后尺寸变小，选取降低曝光量进行曝光能够节省时间，由此，在降低曝光量的同时增加显影温度能够有效减少电极金属层的面积，减少氧化铟锡层的被阻挡面积，从而提升发光亮度。
一种电极金属制作方法

[发明专利]曝光显影方法和系统、曝光控制系统-CN201410766896.4有效
发明人：余学权;徐先华;刘志;王志强;张伟;成学佩 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2014-12-12 - 公布日： 2015-03-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种曝光显影方法和系统，该方法用于在基板大于掩膜板时对基板的曝光显影，包括：利用所述掩膜板分别对基板多个不同区域进行曝光显影，所述多个不同区域拼接为全部需要曝光显影的区域。采用本发明提供的曝光显影方法，能够使得低世代生产线生产较大尺寸的彩膜基板，从而提高产线利用率，降低生产成本。
曝光显影方法系统控制系统

[发明专利]图象印相机-CN94108869.3无效
发明人：谷端透;石川正纯 -专利权人：诺日士钢机株式会社
申请日： 1994-06-03 - 公布日： 2001-06-06 - 主分类号： G03B27/46 文献下载
摘要：一种图象印相机，包括多个运送装置，用于通过互相平行地设置的多个光敏材料运送通道分别将光敏材料运送至一个显影装置以使其显影；多个投影曝光装置，用于在分别位于所述多个运送装置的多个曝光位置以互不相同的胶片的图象分别对光敏材料进行投影曝光；及，所述显影装置包括一个显影槽，用于对由所述多个投影曝光装置曝光并由所述多个运送装置运送的所有光敏材料共用该显影槽进行显影。
图象相机

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