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[实用新型]利用多棱镜扫描技术进行曝光的PCB曝光设备-CN201620060014.7有效
发明人：赵华;张伟;徐巍;王翰文;马汝治 -专利权人：江苏影速光电技术有限公司
申请日： 2016-01-22 - 公布日： 2016-08-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种利用多棱镜扫描技术进行曝光的PCB曝光设备，包括工件传输定位系统、多棱镜曝光系统、设备基础底座，所述的工件传输定位系统与设备基础底座之间放置被曝光工件，被曝光工件倾斜放置于设备基础底座并且垂直于工件传输定位系统，被曝光工件两侧对称布置有多棱镜曝光系统，所述的被曝光工件为PCB板。本实用新型在工件传输定位系统与设备基础底座之间放置被曝光工件，被曝光工件两侧对称布置有多棱镜曝光系统，被曝光工件为PCB板，这样的对称布置在PCB板两侧，被曝光工件与设备基础底座具有倾斜角度，PCB板沿倾斜角度方向运动，对PCB板进行双面曝光，而且可以对多个PCB板进行双面曝光。
利用多棱镜扫描技术进行曝光 pcb 设备

[实用新型]基于多棱镜扫描技术的垂直曝光设备-CN201620060015.1有效
发明人：赵华;张伟;徐巍;王翰文;马汝治 -专利权人：江苏影速光电技术有限公司
申请日： 2016-01-22 - 公布日： 2016-08-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基于多棱镜扫描技术的垂直曝光设备，包括工件传输定位系统、多棱镜曝光系统、设备基础底座，所述的工件传输定位系统与设备基础底座之间放置被曝光工件，被曝光工件两侧对称布置有多棱镜曝光系统，所述的被曝光工件为PCB板。本实用新型在工件传输定位系统与设备基础底座之间放置被曝光工件，被曝光工件两侧对称布置有多棱镜曝光系统，被曝光工件为PCB板，这样的对称布置在PCB板两侧，可同时PCB板进行双面曝光，而且可以对多个PCB板进行双面曝光。
基于多棱镜扫描技术垂直曝光设备

[发明专利]一种循环式扫描曝光机-CN201910530688.7在审
发明人：蔡志国;张米好;江俊龙;农远峰 -专利权人：深圳凯世光研股份有限公司
申请日： 2019-06-19 - 公布日： 2019-09-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种循环式扫描曝光机。本发明涉及光学设备领域，解决现有工件曝光设备曝光效率低的问题。包括有底座，设置在底座上的曝光台，以及曝光装置，曝光台上分别设有两组用于工件供料的左供料机构和右供料机构，曝光装置支架上设有驱动一排以上的曝光装置移动的曝光装置驱动机构；底座上设有驱动曝光装置支架垂直曝光装置支架移动的曝光装置支架驱动机构左供料机构和右供料机构可以同时把工件托起准备曝光，当左边的工件曝光完毕，曝光装置移动到右边的工件直接进行曝光，同时左边的供料机构把曝光的工件传送出料，再把左边支撑柱组件上未曝光的工件传送托起准备曝光，依次循环；传感器用于检测工件是否弯曲，从而剔除不合格的工件；从而曝光效率高，不需要有上料等待时间。
曝光装置供料机构曝光底座扫描曝光机工件传送曝光效率循环式托起支架支架驱动机构支撑柱组件驱动光学设备检测工件曝光设备驱动机构支架移动传感器曝光台移动出料供料两组上料剔除垂直

[实用新型]一种循环式扫描曝光机-CN201920922491.3有效
发明人：蔡志国;张米好;江俊龙;农远峰 -专利权人：深圳凯世光研股份有限公司
申请日： 2019-06-19 - 公布日： 2020-01-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及光学设备领域，解决现有工件曝光设备曝光效率低的问题。本申请公开了一种循环式扫描曝光机，包括有底座，设置在底座上的曝光台，以及曝光装置，曝光台上分别设有两组用于工件供料的左供料机构和右供料机构，曝光装置支架上设有驱动一排以上的曝光装置移动的曝光装置驱动机构；底座上设有驱动曝光装置支架垂直曝光装置支架移动的曝光装置支架驱动机构。左供料机构和右供料机构可以同时把工件托起准备曝光，当左边的工件曝光完毕，曝光装置移动到右边的工件直接进行曝光，同时左边的供料机构把曝光的工件传送出料，再把左边支撑柱组件上未曝光的工件传送托起准备曝光，依次循环；传感器用于检测工件是否弯曲，从而剔除不合格的工件；从而曝光效率高，不需要有上料等待时间。
曝光装置供料机构曝光底座工件传送曝光效率托起支架支架驱动机构本实用新型扫描曝光机支撑柱组件驱动光学设备检测工件曝光设备驱动机构支架移动传感器曝光台循环式移动出料供料两组上料剔除垂直申请

[发明专利]一种多工件台协作直写光刻方法-CN201410539501.7在审
发明人：曹旸;李阳 -专利权人：江苏影速光电技术有限公司
申请日： 2014-10-13 - 公布日： 2015-02-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种多工件台协作直写光刻方法，采用并行曝光控制技术，属于直写式光刻机曝光技术领域。首先对A工件台进行上板、对准操作，后将A工件台移动至曝光起始位置进行扫描曝光；同时对B工件台进行上板、对准操作，后将B工件台移动至曝光起始位置，等待扫描曝光；A工件台完成扫描曝光后，退出A工件台，并对A工件台进行下板、上新板、对准的扫描曝光准备工作，同时开始对B工件台进行扫描曝光流程。本发明大幅降低了结构的复杂性，多个工件台在各自的工作区域内互不干扰，使原本按顺序串行进行的曝光流程变为并行的曝光流程，极大地缩短了曝光时间。此外本发明提高了曝光品质及生产良率，在保证光刻精度的同时，不会增加任何耗时。
一种工件协作光刻方法

[发明专利]两面曝光装置-CN201010250677.2有效
发明人：佐藤善彦;友永竹彦 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2010-08-10 - 公布日： 2011-04-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种具有掩模库的两面曝光装置，缩短工件的曝光处理所需要的整体时间，防止生产能力的降低。将被搬运至工件搬入搬出部(20)的工件(W)搬运至工件平台(4)，将形成于从掩模库(6)所取出的第1面(表面)曝光用掩模的图案对工件(W)进行曝光。并且，在反转平台部(30)反转(翻转)工件(W)，并将工件(W)保管在工件保管部(40)。这样，曝光1批量的所有工件的第1面(表面)。之后，将掩模更换成第2面(背面)曝光用的掩模，从工件保管部(40)取出第1面曝光结束的工件，曝光工件的第2面(背面)。完成背面的曝光的工件(W)，利用第1工件搬运机构(50b)，被搬运到工件搬入搬出部(20)。
两面曝光装置

[实用新型]双工件台垂直曝光装置-CN201620208339.5有效
发明人：平洁 -专利权人：江苏影速光电技术有限公司
申请日： 2016-03-18 - 公布日： 2016-08-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双工件台垂直曝光装置，包括至少一组曝光单元、分光镜（3）、反射镜（4），以及两个用于固定工件的垂直工件台Ⅰ（5）和工件台Ⅱ（6）；所述曝光单元包括DMD微反射镜阵列（1）和成像透镜组（2）；所述分光镜（3）置于曝光单元之后、工件台之前；所述反射镜（4）置于分光镜（3）正下方。本双工件台垂直曝光装置取消了单工件台水平曝光的方式，取而代之的是垂直曝光双工件台，在不改变照明光路和曝光单元的基础上，加入分光镜及反光镜，增加工件台数量。本双工件台垂直曝光装置在节约成本的同时大幅度提高了曝光效率。
双工垂直曝光装置

[发明专利]一种晶圆曝光管理方法、装置、电子设备和系统-CN202211726592.6在审
发明人：姜坤 -专利权人：上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请涉及半导体领域，公开了一种晶圆曝光管理方法，包括以目标光刻机作为晶圆的当前曝光层曝光时所用的光刻机；目标光刻机为参考层曝光时所用的光刻机；确定所述目标光刻机中的目标工件台和其他工件台；目标工件台为参考层曝光时所用的工件台；根据目标光刻机中其他工件台与目标工件台的套刻误差差异值，确定目标光刻机中其他工件台与当前曝光层对应的当前套刻误差下货值；发送当前套刻误差下货值至目标光刻机，以便目标光刻机中其他工件台对当前曝光层进行曝光本申请固定当前曝光层曝光所用的光刻机，但不固定工件台，可使目标光刻机中所有工件台均参与曝光，提升光刻机产能。
一种曝光管理方法装置电子设备系统

[发明专利]曝光方法以及曝光装置-CN201811109442.4有效
发明人：荻原元德 -专利权人：株式会社三丰
申请日： 2018-09-21 - 公布日： 2023-02-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光方法以及曝光装置。提供一种能够实现比曝光装置的曝光位置的定位精度高的曝光位置精度的曝光方法。曝光方法包括以下步骤：(1)根据曝光掩模和工件的相对的位置关系来计算工件上的曝光位置；(2)将即使曝光位置偏离工件上的目标曝光位置也容许图案的投影的范围设定为曝光位置范围；(3)执行如下的曝光控制：在所述曝光位置进入所述曝光位置范围的情况下向曝光掩模照射曝光光，在所述曝光位置偏离曝光位置范围的情况下使曝光光停止，其中，使用曝光光的所述曝光控制来将曝光掩模上的图案投影到工件上。
曝光方法以及装置

[发明专利]一种弧形工件激光直写曝光方法-CN201910137676.8在审
发明人：陈国军;宁震坤;吴景舟;马迪 -专利权人：钧迪智能装备科技（苏州）有限公司
申请日： 2019-02-25 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种弧形工件激光直写曝光方法，其包括以下步骤：S1、将弧形工件固定在一个可摆动的座体上，将DMD曝光镜头安装在X滑座上；S2、位置初始化；S3、座体带动弧形工件摆动，在摆动的过程中DMD曝光镜头曝光在待曝光面上形成一条曝光带；S4、X滑座移动一个曝光带的宽度；S5、座体带动弧形工件摆动，在摆动的过程中DMD曝光镜头曝光在待曝光面上再次形成一条曝光带；S6、X滑座移动一个曝光带的宽度；S7、重复步骤S3至S6，直至弧形工件的待曝光面全部完成曝光该激光直写曝光方法可以对弧形工件的内凹的圆柱面状的待曝光面进行曝光，使曝光图像清晰，曝光动作可靠。
曝光弧形工件摆动激光直写曝光镜头滑座座体曝光面位置初始化曝光动作曝光图像圆柱面状可摆动移动内凹清晰重复

[实用新型]工件批量曝光设备-CN202221668374.7有效
发明人：蔡志国;江俊龙;普丽宏;沈菊英;王志 -专利权人：深圳凯世光研股份有限公司
申请日： 2022-06-29 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种工件批量曝光设备，设计光伏加工技术领域，所提供的工件批量曝光设备能够通过固定相机组同时对批量呈阵列排布的工件进行拍摄和图像检测，基于图像信息检测获得工件边缘轮廓信息后，将工件的偏移信息和偏转角度提供给曝光装置，对曝光图案调整后进行曝光处理。设备适用于表面没有定位标记的工件，能够准确对大批量工件同时进行坐标位置检测和曝光处理，工作效率高的同时工件图案曝光准确率高。
工件批量曝光设备

[发明专利]工件缺陷检测方法、电子装置、装置及可读存储介质-CN202110951924.X在审
发明人：杨超;黄雪峰;胡亘谦;蔡恩祥;朱琦;李勇军 -专利权人：深圳市信润富联数字科技有限公司
申请日： 2021-08-19 - 公布日： 2021-09-17 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提出的一种工件缺陷检测方法、电子装置、装置及可读存储介质，所述方法包括步骤：接收工件检测信号，获取与所述工件检测信号对应检测工件的最佳曝光参数；调整图像采集设备的实际曝光参数为所述最佳曝光参数，并控制所述图像采集设备对所述检测工件进行图像采集，得到检测工件图像；对所述检测工件图像进行缺陷检测操作。通过获取工件的最佳曝光参数，并基于工件的最佳曝光参数获取检测工件图像，使得进行缺陷检测的工件图像能够最大限度地还原工件的细节，避免由于曝光参数影响到工件缺陷检测的准确性。
工件缺陷检测方法电子装置可读存储介质

[发明专利]一种基于DMD技术的可视化曝光机-CN201810460390.9在审
发明人：孙雷;张洪波;张婧姣 -专利权人：联士光电(深圳)有限公司
申请日： 2018-05-15 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于DMD技术的可视化曝光机，包括曝光机光源、对准光源、45度二向光学元件、整形匀光元件、全反射棱镜组、DMD、45度分光元件、投影系统、待曝光工件和相机。对准光源和曝光机光源发出的光经45度二向光学元件、整形匀光元件的整形和匀光、以及全反射棱镜组后入射到DMD上，经DMD反射、全反射棱镜组和45度分光元件进入投影系统再投射到待曝光工件。对准光源的光入射到待曝光工件，实现曝光精确定位；曝光机光源入射到待曝光工件使待曝光工件形成曝光，其中一部分光被待曝光工件反射，经投影系统后被45度分光元件反射到相机，可实时观测待曝光工件并实现对准及套刻
曝光工件光源曝光机全反射棱镜组分光元件投影系统对准整形反射光学元件匀光元件入射相机实时观测曝光光入射可视化投射和匀套刻

[发明专利]一种前后双平台曝光机-CN202210777464.8在审
发明人：蔡志国;吴德和;普丽宏 -专利权人：深圳凯世光研股份有限公司
申请日： 2022-07-04 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种前后双平台曝光机，解决现有技术的工件曝光设备曝光效率低的问题。包括有底座，设置在底座上的曝光台，以及曝光装置，曝光时，第一供料机构从前侧进行上料，第一供料机构沿曝光台滑动将工件送到曝光装置下方进行曝光，同时第二供料机构从后侧进行上料，第二供料机构上料完毕，第一供料机构上的工件曝光完毕，然后第一供料机构返回将工件送出至第一供料机构上料的位置，然后第一供料机构滑动将工件送到曝光装置下方进行曝光，此时第一供料机构进行下料后并进行上料，第二供料机构上的工件曝光完毕，然后第二供料机构返回将工件送出至第二供料机构上料的位置
一种前后平台曝光

[实用新型]一种基于DMD技术的可视化曝光机-CN201820717840.3有效
发明人：孙雷;张洪波;张婧姣 -专利权人：联士光电（深圳）有限公司
申请日： 2018-05-15 - 公布日： 2019-01-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基于DMD技术的可视化曝光机，包括曝光机光源、对准光源、45度二向光学元件、整形匀光元件、全反射棱镜组、DMD、45度分光元件、投影系统、待曝光工件和相机。对准光源和曝光机光源发出的光经45度二向光学元件、整形匀光元件的整形和匀光、以及全反射棱镜组后入射到DMD上，经DMD反射、全反射棱镜组和45度分光元件进入投影系统再投射到待曝光工件。对准光源的光入射到待曝光工件，实现曝光精确定位；曝光机光源入射到待曝光工件使待曝光工件形成曝光，其中一部分光被待曝光工件反射，经投影系统后被45度分光元件反射到相机，可实时观测待曝光工件并实现对准及套刻
曝光工件光源曝光机全反射棱镜组分光元件投影系统对准整形反射光学元件匀光元件可视化入射相机本实用新型实时观测曝光光入射投射和匀套刻

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