“曝光单元”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果1618639个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]晶圆曝光方法和系统-CN202310185221.X在审
发明人：郁发新;张立星;莫炯炯;开翠红 -专利权人：浙江大学
申请日： 2023-03-01 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种晶圆曝光方法和系统。晶圆曝光方法包括如下步骤：在晶圆表面划分多个曝光单元，包括位于晶圆内部区域的完整曝光单元以及位于晶圆边缘区域的不完整曝光单元；获取待曝光光刻层的焦距能量矩阵表；获取经初始曝光条件曝光后的各完整曝光单元的图形形貌和线宽；根据焦距能量矩阵表修正各完整曝光单元的曝光条件，使其图形形貌和线宽符合规格；根据不完整曝光单元邻近的完整曝光单元修正后的曝光条件修正不完整曝光单元的曝光条件。本申请通过根据完整曝光单元的图形形貌和线宽对其曝光条件进行修正，并通过不完整曝光单元邻近的完整曝光单元的曝光条件修正不完整曝光单元曝光条件，可极大改善晶圆面内图形形貌和线宽均匀性。
曝光方法系统

[发明专利]曝光装置、曝光方法、半导体器件及其制造方法-CN201810910079.X在审
发明人：陈勇辉;张俊 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-08-10 - 公布日： 2019-09-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光装置、曝光方法、半导体器件及其制造方法。该曝光装置包括：进料检测单元、传输单元和曝光单元；进料检测单元用于对基底进行检测，并判定基底为合格基底或待处理基底；传输单元用于将合格基底传输至曝光单元；曝光单元用于对合格基底进行曝光。该技术方案可仅允许检测合格的基底传输至曝光单元进行曝光，减少了对检测不合格的基底传输至曝光单元进行曝光时带来的损耗，从而减少了曝光工艺的成本，同时提高了曝光产率，从而提高了产能。
基底曝光单元曝光曝光装置半导体器件传输单元进料检测传输检测曝光工艺产率产能判定制造

[实用新型]一种曝光装置-CN201821289573.0有效
发明人：陈勇辉;张俊 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-08-10 - 公布日： 2019-01-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光装置。该曝光装置包括：进料检测单元、传输单元和曝光单元；进料检测单元用于对基底进行检测，并判定基底为合格基底或待处理基底；传输单元用于将合格基底传输至曝光单元；曝光单元用于对合格基底进行曝光。该技术方案可仅允许检测合格的基底传输至曝光单元进行曝光，减少了对检测不合格的基底传输至曝光单元进行曝光时带来的损耗，从而减少了曝光工艺的成本，同时提高了曝光产率，从而提高了产能。
基底曝光单元曝光装置曝光传输单元进料检测传输检测本实用新型曝光工艺产率产能判定

[发明专利]曝光位置的确定方法-CN202310194205.7在审
发明人：陆影;许世峰 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本公开实施例涉及半导体领域，提供一种曝光位置的确定方法，包括：根据芯片的尺寸获取曝光单元的尺寸，曝光单元包括至少一个子曝光单元，子曝光单元的尺寸与芯片的尺寸相同；根据曝光单元的尺寸获取曝光单元在晶圆上的初始排布位置，初始排布位置包括沿第一方向和第二方向阵列排布的多个曝光单元；以沿第一方向排列的多个曝光单元作为一行，将多行曝光单元分别沿第一方向移动，并获取每一行曝光单元的移动距离；根据每一行曝光单元的移动距离，获取曝光单元在晶圆上的目标排布位置，目标排布位置中的有效曝光单元的数量小于初始排布位置中的有效曝光单元的数量。本公开实施例提供的曝光位置的确定方法至少有利于提高半导体结构的制造效益。
曝光位置确定方法

[发明专利]双面激光扩印机一次曝光装置及双面激光扩印机-CN201811295338.9在审
发明人：张威东;卫孝;袁永仁;张文杰;兰振利;胡艳华;杨芳 -专利权人：郑州易邦微光电科技有限公司
申请日： 2018-11-01 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： G03B27/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种双面激光扩印机一次曝光装置及双面激光扩印机，双面激光扩印机一次曝光装置，包括走纸单元、第一曝光激光单元、第二曝光激光单元，走纸单元包括用于传送双面印相纸的传送辊，第一曝光激光单元、第二曝光激光单元分别对所述双面印相纸的正面和反面进行曝光，第一曝光激光单元、第二曝光激光单元对称设置在走纸单元的曝光区的两侧。本发明的一次曝光装置结构简单，维护方便，可同时对相纸两面进行曝光处理，提高处理效率，加快出片速度。
曝光激光扩印机一次曝光激光走纸单元印相纸处理效率对称设置曝光处理维护方便装置结构传送辊曝光区出片相纸传送曝光

[实用新型]大尺寸线路板阻焊区域分步曝光结构-CN202021536856.8有效
发明人：常光烱;唐润光;朱高南;吴祖荣;康敏伟 -专利权人：广东依顿电子科技股份有限公司
申请日： 2020-07-29 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种大尺寸线路板阻焊区域分步曝光结构，包括阻焊曝光菲林，所述阻焊曝光菲林上设有面积大于或等于线路板上的图形线路单元的面积的曝光单元，所述曝光单元上设有与图形线路单元上需要曝光的阻焊层图形相匹配的曝光图形，环绕所述曝光单元周侧设有至少两个曝光对位靶标。所述曝光结构通过阻焊曝光菲林上与图形线路单元对应的曝光单元，将大尺寸线路板图形线路单元上的阻焊层分割成多个小区域进行分步曝光，使得小区域内的线路板的伸长相对于整个线路板的伸长明显变小，曝光机通过该曝光结构将需要曝光的图形线路单元上的阻焊层曝光，避免曝光机曝光时因无法对整块大尺寸线路板自动对位导致的阻焊品质差甚至拒曝的问题。
尺寸线路板区域分步曝光结构

[发明专利]曝光描绘装置及曝光描绘方法-CN201380010638.7有效
发明人：桥口昭浩;菊池浩明;吉川武志 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2013-01-24 - 公布日： 2014-12-10 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种能够确认对各被曝光基板的曝光处理时的曝光装置内的尘埃等级的曝光描绘装置及曝光描绘方法。所述曝光描绘装置具备：曝光单元，通过对被曝光基板进行曝光而描绘电路图案；计数单元，对曝光描绘装置内的微粒的粒子数进行计数；判定单元，判定曝光单元的曝光处理中利用计数单元计数出的粒子数是否是基于与电路图案的图案相关的尺寸而规定的阈值以上；及附加单元，在由判定单元判定为是阈值以上的情况下，对被曝光基板附加预先规定的信息。
曝光描绘装置方法

[实用新型]一种一体式双面曝光设备及生产线-CN202223141791.9有效
发明人：王建勋;张成宣;程彦;王建新 -专利权人：东莞思沃智能装备有限公司
申请日： 2022-11-25 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种一体式双面曝光设备及生产线，具体包括上料设备、曝光设备、移动单元、第一吸取单元、第二吸取单元及翻面单元，曝光设备单次曝光的数量可以设为一片板或二片板或四片板；其先通过第一吸取单元及第二吸取单元板材；接着，移动单元移动至曝光设备，令第一吸取单元上的板材放入曝光设备中进行第一面曝光；随后，翻面单元从曝光设备中取出板材，使板材未曝光的一面朝外设置，通过第一吸取单元吸取板材未曝光的一面，并通过移动单元移动至曝光设备，对板材的第二面进行曝光；随后，第一吸取单元可以通过移动单元将已曝光的板材送出，并重新从上料设备中吸取新的板材，第二吸取单元将其板材放入曝光设备，即实现交替上下料。
一种体式双面曝光设备生产线

[发明专利]曝光控制装置、方法及摄像机-CN201910944747.5有效
发明人：於敏杰;聂鑫鑫;罗丽红 -专利权人：杭州海康威视数字技术股份有限公司
申请日： 2019-09-30 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种曝光控制装置、方法及摄像机，该装置包括图像传感器、曝光控制单元、曝光计算单元；曝光控制单元，用于存储至少两组曝光参数，并依次将各组曝光参数发送至图像传感器；图像传感器，用于依次根据各组曝光参数进行图像采集，生成各路图像信号，并将各路图像信号发送至曝光计算单元，其中，每组曝光参数对应于一路图像信号；曝光计算单元，用于分别对各路图像信号进行曝光计算，得到调整后的各组曝光参数，并将调整后的各组曝光参数发送至曝光控制单元，以更新曝光控制单元中存储的曝光参数。本发明实施例使各组曝光参数相互之间完全独立，可以单独进行调节和控制，进而提升图像质量。
曝光控制装置方法摄像机

[发明专利]曝光装置、曝光方法、半导体器件及其制造方法-CN201810982415.1在审
发明人：陈勇辉;张俊 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-08-27 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光装置、曝光方法、半导体器件及其制造方法。该曝光装置包括：测量单元、曝光单元和中转传输单元；测量单元用于放置基底，并测量基底的位置；测量单元包括可拆卸的载盘子单元，载盘子单元用于吸附基底，且载盘子单元与被吸附的基底同步传输；中转传输单元用于固定和传输基底、载盘子单元、基底以及吸附基底的载盘子单元；中转传输单元用于在曝光单元闲置时将测量后的基底以及吸附基底的载盘子单元同步传输至曝光单元，以及用于在测量单元闲置时将未吸附基底的载盘子单元传输至测量单元；曝光单元用于对测量后的基底进行曝光该技术方案可协调测量时间和曝光时间，提高双台曝光光刻技术的产能。
基底盘子单元测量单元吸附曝光单元传输单元曝光装置曝光半导体器件同步传输测量闲置传输可拆卸的测量基曝光光产能制造协调

[发明专利]摄像设备、照相机系统和照明设备-CN201110303060.7有效
发明人：矢野慎一郎 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2011-09-29 - 公布日： 2012-09-12 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：摄像设备能够使用照明设备进行拍摄，所述摄像设备包括：获取单元，用于获取被摄体亮度信息；计算单元，用于基于获取单元所获取的被摄体亮度信息来计算曝光控制值；曝光控制单元，用于使用计算单元所计算出的曝光控制值来控制曝光；以及曝光固定单元，用于设置将计算单元所计算出的曝光控制值固定为要用于曝光控制的曝光控制值的曝光固定状态，其中，在曝光固定状态下改变照明设备的状态时，曝光固定单元取消曝光固定状态。
摄像设备照相机系统照明设备

[发明专利]可自动调节成像亮度的三维立体视觉系统-CN201610584007.1有效
发明人：王嘉 -专利权人：石家庄爱赛科技有限公司
申请日： 2016-07-22 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：包括：曝光时间设定单元，设定曝光时间序列；曝光时间提取单元，从曝光时间序列中依次选择曝光时间；左摄像机曝光时间设置单元，根据提取的曝光时间设置左摄像机的曝光时间；右摄像机曝光时间调节单元，根据左摄像机的曝光时间对右摄像机的曝光时间进行微调；计算单元，计算视差图像的准确率；记录单元，记录视差图像的准确率的峰值及其对应的左右摄像机的曝光时间；判断单元，判断曝光时间序列中的所有曝光时间参数是否都已被设置完；比较单元，比较各曝光时间对应的准确率峰值，找到最高的峰值所对应的曝光时间作为曝光时间。
自动调节成像亮度三维立体视觉系统

[发明专利]一种摄像方法和装置-CN201810181418.5有效
发明人：罗宁 -专利权人：瑞芯微电子股份有限公司
申请日： 2018-03-06 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本发明提供了一种摄像方法和装置，所述装置包括曝光单元和曝光控制单元；所述曝光单元包括第一像素感光单元阵列与第二像素感光单元阵列，所述第一像素感光单元阵列中的像素感光单元与第二像素感光单元阵列中的像素感光单元互不重叠；所述曝光控制单元包括第一预览曝光控制单元与第二预览曝光控制单元，所述第一预览曝光控制单元与第一像素感光单元阵列相连接，所述第二预览曝光控制单元与第二像素感光单元阵列相连接。在图像预览阶段，可以通过第一像素感光单元阵列和第二像素感光阵列进行不同程度的预览曝光，并根据得到的预览图像数据确定拍摄曝光参数，以便在图像拍摄时直接采用预览阶段确定的拍摄曝光参数进行拍摄，提高了图像拍摄效率
一种摄像方法装置

[发明专利]曝光方法及其装置-CN201110413542.8无效
发明人：石田进;手塚秀和;土井秀明;斋藤佳大;根本亮二 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2011-12-13 - 公布日： 2012-07-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光方法及其装置。为了削减在LED光源中使用的LED元件数，小型并且低成本地提供能够在短时间内获得充分的光量的曝光用光源，而使曝光装置构成为具备：曝光用光源单元，其发出曝光光；台单元，其承载曝光用基板，并能够在平面内移动；控制单元，其控制台单元和曝光用光源单元，曝光用光源单元具备2维排列了多个发光元件的光源部，控制单元在通过曝光用光源单元在预定的时间内以预定的曝光总光量对承载在台单元上的曝光用基板进行曝光时，控制光源部，一边依次改变照射条件，一边使得从该光源部发出多个脉冲光，对曝光用基板进行照射。
曝光方法及其装置

[发明专利]成像设备和控制方法-CN201410137409.8有效
发明人：福田晃 -专利权人：索尼公司
申请日： 2014-04-08 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：一种成像设备，包括：被配置为对被摄物成像的成像单元、测光单元、曝光补偿单元、被配置为控制所拍摄的图像的曝光的曝光控制单元以及被配置为控制所拍摄的图像在显示单元上的显示的显示控制单元。测光单元被配置为基于所述成像单元的输出执行测光，以获得曝光值。曝光补偿单元被配置为如果测光单元的测光不固定，则将已经由测光获得的曝光值补偿为将用于曝光控制的曝光值。曝光控制单元被配置为如果测光单元的测光固定，则允许以在以下范围内的曝光值进行的曝光控制，该范围比在所述测光单元的测光不固定的情况下的可用曝光值范围更大。
成像设备控制方法

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条