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[发明专利]一种具有多掩模的光刻机硅片台系统-CN200910172951.6有效
发明人：朱煜;张鸣;汪劲松;田丽;徐登峰;尹文生;段广洪;胡金春;许岩 -专利权人：清华大学
申请日： 2009-09-11 - 公布日： 2010-04-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种具有多掩模的光刻机硅片台系统，该系统含有基台，至少一个硅片台，一组光学透镜和掩模台系统。掩模台系统包括掩模台基座、掩模运动台和掩模承载台，所述的掩模台基座的长边为Y方向，短边为X方向；掩模运动台在掩模台基座上沿Y方向作直线运动，掩模承载台在掩模运动台上沿X方向作直线运动；在所述的掩模承载台上沿X方向至少设置两个掩模版安装槽和两个掩模版，每个掩模版安装槽内放置一个掩模版。本发明对现有光刻机掩模台系统改进后，更换掩模后可以减少一次对准的时间，此外，在曝光过程中还节省了一次步进的时间，降低了成本，进而提高了光刻机的曝光效率。
一种具有多掩模光刻硅片系统

[实用新型]具有多掩模的光刻机硅片台系统-CN200920173484.4无效
发明人：朱煜;张鸣;汪劲松;田丽;徐登峰;尹文生;段广洪;胡金春;许岩 -专利权人：清华大学
申请日： 2009-09-11 - 公布日： 2010-09-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：具有多掩模的光刻机硅片台系统，该系统含有基台，至少一个硅片台，一组光学透镜和掩模台系统。掩模台系统包括掩模台基座、掩模运动台和掩模承载台，所述的掩模台基座的长边为Y方向，短边为X方向；掩模运动台在掩模台基座上沿Y方向作直线运动，掩模承载台在掩模运动台上沿X方向作直线运动；在所述的掩模承载台上沿X方向至少设置两个掩模版安装槽和两个掩模版，每个掩模版安装槽内放置一个掩模版。本实用新型对现有光刻机掩模台系统改进后，更换掩模后可以减少一次对准的时间，此外，在曝光过程中还节省了一次步进的时间，降低了成本，进而提高了光刻机的曝光效率。
具有多掩模光刻硅片系统

[发明专利]一种呈阵列布置的多掩模光刻机硅片台系统-CN200910172953.5有效
发明人：朱煜;张鸣;汪劲松;田丽;徐登峰;尹文生;段广洪;胡金春;许岩 -专利权人：清华大学
申请日： 2009-09-11 - 公布日： 2010-04-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种呈阵列布置的多掩模光刻机硅片台系统，该系统含有基台，至少一个硅片台，一组光学透镜和掩模台系统，所述的掩模台系统包括掩模台基座、掩模运动台和掩模承载台，所述的掩模台基座的长边为Y方向，短边为X方向，掩模运动台在掩模台基座上沿Y方向作直线运动，掩模承载台在掩模运动台上沿X方向作直线运动；在掩模承载台上设有多个掩模版安装槽，多个掩模版安装槽呈阵列布置，每个掩模版安装槽内放置一块掩模版。本发明与现有技术相比，一是在扫描曝光时可以减少多次步进的时间；二是多块掩模版一次安装，节省对准的时间，从而显著提高了工作效率。
一种阵列布置多掩模光刻硅片系统

[实用新型]呈阵列布置的多掩模光刻机硅片台系统-CN200920173486.3无效
发明人：朱煜;张鸣;汪劲松;田丽;徐登峰;尹文生;段广洪;胡金春;许岩 -专利权人：清华大学
申请日： 2009-09-11 - 公布日： 2010-06-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：呈阵列布置的多掩模光刻机硅片台系统，该系统含有基台，至少一个硅片台，一组光学透镜和掩模台系统，所述的掩模台系统包括掩模台基座、掩模运动台和掩模承载台，所述的掩模台基座的长边为Y方向，短边为X方向，掩模运动台在掩模台基座上沿Y方向作直线运动，掩模承载台在掩模运动台上沿X方向作直线运动；在掩模承载台上设有多个掩模版安装槽，多个掩模版安装槽呈阵列布置，每个掩模版安装槽内放置一块掩模版。本实用新型与现有技术相比，一是在扫描曝光时可以减少多次步进的时间；二是多块掩模版一次安装，节省对准的时间，从而显著提高了工作效率。
阵列布置多掩模光刻硅片系统

[发明专利]接近型曝光装置-CN200510132967.6有效
发明人：李千洙;车相焕;申铉长 -专利权人： LG.菲利浦LCD株式会社
申请日： 2005-12-29 - 公布日： 2006-09-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：讨论了一种用于对准基板与掩模的装置和方法。在本发明的一个方面，所述装置包括：掩模台，其中该掩模台包括被构造成固定地支撑掩模的掩模固定台和支撑该掩模固定台的基台；以及布置在基台中的至少一个引导单元，其与掩模固定台耦合，并且被构造成移动掩模固定台，以沿预定方向移动掩模。
接近曝光装置

[发明专利]一种电磁弹射启动式掩模台系统-CN201410306905.1有效
发明人：张鸣;朱煜;成荣;杨开明;支凡;张金;陈安林;张利;赵彦坡;胡清平;田丽;徐登峰;尹文生;穆海华;胡金春 -专利权人：清华大学;北京华卓精科科技有限公司
申请日： 2014-06-30 - 公布日： 2014-09-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种电磁弹射启动式掩模台系统，用于光刻机系统中，所述掩模台系统包含底座、平衡块组件、掩模台动台和测量系统。所述平衡块组件包括平衡块、掩模台YZ向电机线圈和掩模台X向电机线圈；所述掩模台动台包括掩模台动台基底、掩模台YZ向电机磁钢阵列和掩模台X向电机磁钢阵列；所述电磁弹射启动式掩模台系统还包括弹射结构，所述弹射结构包括弹射结构定子磁钢阵列、弹射结构动子磁钢阵列、弹射台、弹射台电机动子、弹射台电机定子和导轨。本发明采用弹射结构，提高了光刻机掩模台的启动和停止阶段的加速度，减小了加速时间，降低了能耗和对驱动器的要求。
一种电磁弹射启动式掩模台系统

[发明专利]一种多掩模的光刻机硅片台系统-CN200910172952.0有效
发明人：朱煜;张鸣;汪劲松;田丽;徐登峰;尹文生;段广洪;胡金春;许岩 -专利权人：清华大学
申请日： 2009-09-11 - 公布日： 2010-04-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种多掩模的光刻机硅片台系统，该系统含有基台，至少一个硅片台，一组光学透镜和掩模台系统。所述的掩模台系统包括掩模台基座和掩模承载台；掩模台基座长边为Y方向，短边为X方向，所述的掩模承载台在掩模台基座上沿Y方向作直线运动，掩模承载台上沿Y方向至少设置两个掩模版安装槽和两个掩模版，每个掩模版安装槽内放置一个掩模版本发明避免了现有光刻机技术的不足，在更换掩模版后需要再次对准的高精度要求等缺陷，只是在现有结构上延长了掩模台导轨行程，其系统结构复杂程度并无太大变化，与使用一台现有的光刻机相比，使整个光刻效率有一定的提高
一种多掩模光刻硅片系统

[实用新型]多掩模的光刻机硅片台系统-CN200920173485.9无效
发明人：朱煜;张鸣;汪劲松;田丽;徐登峰;尹文生;段广洪;胡金春;许岩 -专利权人：清华大学
申请日： 2009-09-11 - 公布日： 2010-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：多掩模的光刻机硅片台系统，该系统含有基台，至少一个硅片台，一组光学透镜和掩模台系统。所述的掩模台系统包括掩模台基座和掩模承载台；掩模台基座长边为Y方向，短边为X方向，所述的掩模承载台在掩模台基座上沿Y方向作直线运动，掩模承载台上沿Y方向至少设置两个掩模版安装槽和两个掩模版，每个掩模版安装槽内放置一个掩模版本实用新型避免了现有光刻机技术的不足，在更换掩模版后需要再次对准的高精度要求等缺陷，只是在现有结构上延长了掩模台导轨行程，其系统结构复杂程度并无太大变化，与使用一台现有的光刻机相比，使整个光刻效率有一定的提高
多掩模光刻硅片系统

[发明专利]一种掩模版传输装置及传输方法-CN201510087602.X有效
发明人：姜晓玉;王长刚 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2015-02-26 - 公布日： 2018-03-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种掩模版传输装置，包括掩模版、掩模台以及机械手，所述机械手用于支撑和传输掩模版并将所述掩模版交接到掩模台上，其特征在于，还包括第一组标记和第二组标记，位于所述掩模版上；预对准部件，与所述掩模台连接，用于在掩模版交接过程中探测所述第一组标记以进行第一次预对准，以及探测所述第二组标记以进行第二次预对准；控制单元，用于根据第一次预对准结果调整掩模版和掩模台的相对位置，避免掩模版和掩模台相撞，以及根据第二次预对准结果调整掩模版和掩模台的相对位置，使得掩模版和掩模台的相对位置在设定范围之内。与现有技术相比较，本发明避免了机械手将掩模版交接到掩模台时使掩模版的薄膜框架与掩模台的承版结构发生碰撞，保护了掩模版，提高了交接精度。
一种模版传输装置方法

[发明专利]连续面形掩模移动光刻曝光装置-CN200510011494.4无效
发明人：杜春雷;陈旭南;邓启凌;罗先刚;李海颖 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2005-03-29 - 公布日： 2005-12-21 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：连续面形掩模移动光刻曝光装置包括主机大基板、掩模移动工作台系统、均匀照明系统、掩模架、掩模、基片、对准观测系统、基片升降承片台系统、照明均匀性检测系统和控制系统，在主机大基板上分别固定有掩模移动工作台系统和照明均匀性检测系统，掩模移动工作台系统由XY手动台和XY掩模移动台组成，XY掩模移动台上支撑有掩模架，掩模架吸附着掩模，基片被吸附于基片升降承片台系统上，均匀照明系统位于掩模架和掩模的上方，对准观测系统连接在均匀照明系统的一侧，工作台系统、均匀照明系统和照明均匀性检测系统的探测输出信号送入至控制系统进行处理，用于闭环控制。本发明具有掩模移动曝光光刻功能，且操作使用方便。
连续面形掩模移动光刻曝光装置

[发明专利]一种掩模台系统及光刻机-CN201710682505.4在审
发明人：文卫朋 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2017-08-10 - 公布日： 2019-02-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模台系统，所述掩模台系统通过吊框安装在光刻机中，包括掩模台、掩模台底座、掩模台驱动单元、运动控制单元以及缓冲机构，所述缓冲机构固定在所述吊框上并与所述掩模台底座连接，用于削弱因掩模台驱动单元驱动掩模台而作用到掩模台底座上的驱动反力本发明通过缓冲机构的机械减振和运动控制单元的系统补偿调控，能够有效降低由于驱动反力引起的掩模台振动，提高了掩模台的运动精度和稳定性，进而提高了光刻机的整机减振性能和动力学性能，维持了光刻装置的套刻和线宽指标
掩模台掩模台系统缓冲机构光刻机运动控制单元驱动单元底座吊框反力动力学性能驱动底座连接光刻装置减振性能驱动掩模系统补偿体积小减振套刻线宽整机削弱调控保证

[发明专利]掩模版传输系统-CN201310049274.5有效
发明人：程永锋;王邵玉 -专利权人：上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2013-02-07 - 公布日： 2014-08-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模版传输系统，用于将掩模版加载至掩模台或自掩模台卸载掩模版，其包括版库、机械手以及预对准装置。版库用于储存掩模版。机械手沿版库储存掩模版的方向取放掩模版，并沿掩模台加载掩模版的方向加载或卸载掩模版。预对准装置设置于机械手的传输路径上，以在机械手自版库取出掩模版后，对掩模版执行预对准，在预对准完成后，机械手将掩模版加载至掩模台。版库储存掩模版的方向与掩模台加载掩模版的方向相同，以实现机械手的直入直出。本发明公开的掩模版传输系统可实现机械手的直入直出，以避免圆弧运动，使得传输路径简化，以降低系统风险。
模版传输系统

[发明专利]一种平面电动机驱动的磁悬浮粗微动一体掩模台-CN201410174870.0无效
发明人：张鸣;朱煜;支凡;成荣;杨开明;刘召;张利;秦慧超;赵彦坡;田丽;叶伟楠;张金;尹文生;穆海华;胡金春 -专利权人：清华大学;北京华卓精科科技有限公司
申请日： 2014-04-28 - 公布日： 2014-10-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种平面电动机驱动的磁悬浮粗微动一体掩模台，该粗微动一体掩模台包括粗微动一体掩模台动台、平衡质量、驱动电动机、掩模板、基座、隔振系统及测量系统；隔振系统位于平衡质量与基座之间，掩模板安装在粗微动一体掩模台动台上；掩模台动台的驱动电动机为动铁式平面电动机，该平面电动机动子为安装在粗微动一体掩模台动台顶面的永磁体阵列，平面电动机定子为安装在平衡质量上的线圈阵列。本发明可降低掩模台动台驱动电动机的设计复杂性；与直线电动机相比，平面电动机能够提供更多方向的推力，减少电动机的数量，使粗微动一体掩模台动台结构更加紧凑，提高粗微动一体掩模台动台的固有频率及控制带宽，进而提高控制精度
一种平面电动机驱动磁悬浮微动一体掩模台

[发明专利]一种平面电动机驱动的粗微动一体掩模台-CN201410175360.5无效
发明人：朱煜;张鸣;支凡;刘召;成荣;杨开明;张利;秦慧超;赵彦坡;田丽;叶伟楠;张金;尹文生;穆海华;胡金春 -专利权人：清华大学;北京华卓精科科技有限公司
申请日： 2014-04-28 - 公布日： 2014-07-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种平面电动机驱动的粗微动一体掩模台，该粗微动一体掩模台包括粗微动一体掩模台动台、平衡质量、驱动电动机、掩模板、基座、隔振系统及测量系统；隔振系统位于平衡质量与基座之间，掩模板安装在粗微动一体掩模台动台上；掩模台动台的驱动电动机为动铁式平面电动机，该平面电动机动子为安装在粗微动一体掩模台动台顶面的永磁体阵列，平面电动机定子为安装在平衡质量上的线圈阵列。本发明可降低掩模台动台驱动电动机的设计复杂性；与直线电动机相比，平面电动机能够提供更多方向的推力，减少电动机的数量，使粗微动一体掩模台动台结构更加紧凑，提高粗微动一体掩模台动台的固有频率及控制带宽，进而提高控制精度
一种平面电动机驱动微动一体掩模台

[实用新型]一种平面电动机驱动的磁悬浮粗微动一体掩模台-CN201420212085.5有效
发明人：张鸣;朱煜;支凡;成荣;杨开明;刘召;张利;秦慧超;赵彦坡;田丽;叶伟楠;张金;尹文生;穆海华;胡金春 -专利权人：清华大学;北京华卓精科科技有限公司
申请日： 2014-04-28 - 公布日： 2014-09-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种平面电动机驱动的磁悬浮粗微动一体掩模台，该粗微动一体掩模台包括粗微动一体掩模台动台、平衡质量、驱动电动机、掩模板、基座、隔振系统及测量系统；隔振系统位于平衡质量与基座之间，掩模板安装在粗微动一体掩模台动台上；掩模台动台的驱动电动机为动铁式平面电动机，该平面电动机动子为安装在粗微动一体掩模台动台顶面的永磁体阵列，平面电动机定子为安装在平衡质量上的线圈阵列。本实用新型可降低掩模台动台驱动电动机的设计复杂性；与直线电动机相比，平面电动机能够提供更多方向的推力，减少电动机的数量，使粗微动一体掩模台动台结构更加紧凑，提高粗微动一体掩模台动台的固有频率及控制带宽，
一种平面电动机驱动磁悬浮微动一体掩模台

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