“掩模台”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果1757088个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]掩模板-CN201220227176.7有效
发明人：于航;张锋 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2012-05-18 - 公布日： 2012-11-28 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种掩模板，为解决现有技术中光刻工艺中玻璃基台和挡板的移动次数比较多的技术问题而设计。所述掩模板包括：掩模板曝光区域和与所述掩模板曝光区域相邻设置的掩模板非曝光区域；还包括：与所述掩模板曝光区域对应设置的使照射到所述掩模板曝光区域的光发散的光路补偿结构。本实用新型能够增加曝光后形成的图案的面积，从而减少在光刻工艺中玻璃基台和挡板的移动次数。
模板

[发明专利]焊球印刷机及焊球印刷方法-CN201410055214.9有效
发明人：五十岚章雄;栗原弘邦;水鸟量介 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2014-02-19 - 公布日： 2014-09-17 - 主分类号： B23K3/00 文献下载
摘要：本发明提供焊球印刷机及焊球印刷方法，保持基板的平面精度，并且高精度地保持掩模与基板的间隙，不产生焊球的错位地将焊球可靠且高精度地装载于基板上的焊盘（电极部）。焊球印刷机（20）使用填充辊（3）向形成于掩模（1）的多个开口（1a）嵌入焊球（18），在形成于与掩模相对的基板（2）的表面的多个电极部（19）印刷焊球。焊球印刷机具备：装载基板并在背面侧形成多个孔部（4a）的基板载置桌台（6）；装载有该基板载置桌台的印刷桌台（12）；能够将印刷桌台在水平面内驱动的XYθ载置台（13）以及能够上下移动驱动的印刷桌台用气缸（14）；具有能嵌合于基板装载桌台的构件的掩模吸附部（11）；能使该掩模吸附部上下移动驱动的掩模吸附用气缸（10）。
印刷机印刷方法

[发明专利]图案绘制装置-CN200410031310.6无效
发明人：小八木康幸 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2004-03-26 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种图案绘制装置(1)，具有保持基板(9)的台(32)；将台(32)移动的台移动机构(2)；向基板(9)射出光的光射出部(51)；掩模部(52)，该掩模部(52)具有形成多个开口的第1掩模(53)和第2掩模(54)；光学组件(58)，该光学组件(58)对照射有通过掩模部(52)的光的基板(9)上的光照射区域进行放大、缩小。在该图案绘制装置(1)中，通过改变第1掩模(53)和第2掩模(54)的开口的重合部分、以及光学组件(58)的倍率，可容易改变所绘制的图案的宽度和间距，可以较高分辨率在基板(9)上的感光材料上高速地绘制条带状的图案
图案绘制装置

[实用新型]一种蒸镀用模块化金属掩模板-CN202123364178.9有效
发明人：潘旭;张辉;叶加久;汪子涵 -专利权人：中国科学院合肥物质科学研究院
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种蒸镀用模块化金属掩模板，包括框架和多个掩模板本体，所述框架上设置有用于与多个所述掩模板本体相适配的开口，所述开口的内侧壁上设置有第一台阶，多个所述掩模板上分别设置有与所述第一台阶配合的第二台阶本实用新型通过设置框架，并设置多个掩模板本体，框架能够对掩模板本体进行限位固定，保证蒸镀工序的正常进行，并且能够在一次蒸镀的过程中进行多个掩模板本体的蒸镀工序，有效提高了蒸镀的效率。
一种蒸镀用模块化金属模板

[实用新型]一种用于曝光的掩模台-CN201420227106.0有效
发明人：李高荣;刘洋 -专利权人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2014-05-06 - 公布日： 2014-09-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于曝光工艺的掩模台，所述掩模台至少包括结构：底座；设置于所述底座上且用来支撑定位光掩模X方向的第一定位件；设置于所述底座上且用来支撑定位光掩模Y方向的第二定位件；所述第一定位件为真空夹具，所述真空夹具设置于所述光掩模两侧的下表面；所述第二夹持件为设置在光掩模Y方向上两侧的若干对机械夹具。本实用新型通过在光掩模Y方向上设置若干对机械夹具对所述光掩模进行限制，避免光掩模沿Y方向发生热膨胀导致图形叠加错误。
一种用于曝光掩模台

[发明专利]EUV光刻装置及其曝光方法-CN201480078178.6有效
发明人：郑乐平;许琦欣;王帆;吴飞 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2014-08-26 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：所述装置的掩模台(300)承载多个反射式掩模(400a，400b)，处于曝光位的反射式掩模(400a)在曝光的同时，处于测量位的另一块反射式掩模(400b)可同时进行面型和位置测量。掩模台(300)也可承载多个相同的反射式掩模，通过切换掩模的方式交替使用进行硅片曝光，通过不断切换反射式掩模可避免在高真空环境中散热困难导致反射式掩模在一段时间曝光后的受热形变导致像质受损的情况发生。
反射式掩模曝光位置测量掩模台硅片面型承载高真空环境交替使用受热形变散热产率像质掩模测量受损节约

[发明专利]同轴双面位置对准系统及位置对准方法-CN200810201820.1有效
发明人：吕晓薇;徐兵;蔡巍 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2008-10-27 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提出的同轴双面位置对准系统，用于双面投影曝光装置中，包括：设于掩模版上方的双面位置对准装置；设置于掩模版上的掩模标记；设置于承片台上的曝光对象；设于曝光对象上的曝光对象标记；其中，所述的双面位置对准装置通过分别检测所述的正面对准时和背面对准时掩模标记和曝光对象标记的位置信息并传送给承版台和承片台运动控制单元，以控制承版台和承片台的运动来调整掩模版和曝光对象的位置，从而实现曝光对象上正反两面的曝光场和掩模版上电路图案之间位置的精确对准；其中，反面对准采用近红外光路同轴成像实现曝光场和掩模版上图案的对准。
同轴双面位置对准系统方法

[发明专利]掩模对准装置和掩模对准方法-CN201910935426.9有效
发明人：陈雪影;李运锋 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2019-09-29 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模对准装置和掩模对准方法。此掩模对准装置包括：探测单元、照明单元和工件台单元；照明单元包括背光光源、同轴光源和环形光源；背光光源位于工件台单元背离探测单元的一侧；工件台单元背离背光光源的一侧表面用于承载待对位掩模；同轴光源的光轴、环形光源的光轴以及探测单元的中心轴均同轴设置，且同轴光源、环形光源和探测单元均位于工件台单元的同一侧；待对位掩模包括定位标记，定位标记包括通孔和/或凹槽；背光光源用于在定位通孔时提供照明，同轴光源和环形光源用于在定位凹槽时提供照明本发明的技术方案可提高掩模中的定位标记的测量准确度，从而提高掩模与框架的对准精度。
对准装置方法

[发明专利]处理装置及电子发射元件和有机EL显示器的生产方法-CN200880102563.4无效
发明人：井上雅人;松井绅;姬路俊明 -专利权人：佳能安内华股份有限公司
申请日： 2008-12-26 - 公布日： 2011-02-09 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：对于因应对处理对象物宽幅化的要求而成为大重量从而有可能降低图案的对位精度的掩模，也能够高精度地一起进行图案成膜。固定处理对象物(300)及掩模(200)进行处理的处理装置(1)包括用于载置处理对象物(300)及掩模(200)的基台(400)。并且，该装置还包括：第2固定部件(101)，其包括用于将掩模(200)的掩模框(200a)固定在基台(400)上的永久磁铁；第1固定部件(102)，其包括用于将掩模(200)的掩模膜状平面(200b)固定于基台第2固定部件(101)及第1固定部件(102a、102b)为各永久磁铁能够在基台(400)上沿垂直方向移动的机构。
处理装置电子发射元件有机 el 显示器生产方法

[发明专利]一种掩模板及其制作方法、显示基板-CN201810058877.4在审
发明人：潘晟恺;熊腾青;乔永康 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
申请日： 2018-01-22 - 公布日： 2018-07-13 - 主分类号： C25D1/10 文献下载
摘要：本发明公开一种掩模板及其制作方法、显示基板，涉及显示技术领域，为解决现有的形成掩模板的制作方法不仅生产工艺复杂，良率较低，而且需要较高的制作成本的问题。所述掩模板的制作方法包括：形成一模版，所述模版包括底板和位于所述底板上的多个独立的凸台，所述凸台具有绝缘性；通过电铸工艺在所述模版除所述凸台之外的区域形成金属层；将所述模版与所述金属层分离，形成具有多个通孔的掩模板本发明提供的掩模板的制作方法用于制作掩模板。
掩模板制作模版凸台底板金属层电铸工艺区域形成显示基板绝缘性生产工艺良率通孔

[发明专利]EUV光刻装置及其曝光方法-CN201410189147.X有效
发明人：郑乐平;许琦欣;王帆;吴飞 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2014-05-06 - 公布日： 2017-08-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出了一种EUV光刻装置及其曝光方法，由于掩模台承载多个反射式掩模，处于曝光位的反射式掩模在曝光的同时，处于测量位的另一块反射式掩模可同时进行面型和位置测量，多批次硅片曝光时，能够节约面型和位置测量时间，利用已测得的反射式掩模的面型和位置数据进行掩模高度的前馈控制，在保证套刻精度的情况下，减少曝光反馈调整时间，所以可以提高产率；多掩模载台的反射式掩模可以通过切换掩模的方式，快速地在另一块同样的反射式掩模上继续进行硅片曝光，通过不断切换反射式掩模可避免在高真空环境中散热困难导致反射式掩模在一段时间曝光后的受热形变导致像质受损的情况发生。
euv 光刻装置及其曝光方法

[发明专利]光刻掩模基板,光刻掩模,曝光掩模,光刻掩模基板制造方法,以及半导体装置制造方法-CN201010180900.0有效
发明人：田边胜;川口厚;赤川裕之;河原明宏 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2005-09-29 - 公布日： 2010-08-25 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：一种被曝光系统的掩模台吸附的光刻掩模基板，在光刻掩模基板的主表面上除了从外部外围端部表面向内2mm的区域，平面测量区域的平整度为0.6μm或者更小，光刻掩模基板主表面的一边被掩模台吸附，以及平面测量区域的四个角部分中的至少三个具有朝向外部外围边缘上升的形状
光刻掩模基板曝光制造方法以及半导体装置

[发明专利]光刻掩模基板,光刻掩模,曝光掩模,光刻掩模基板制造方法,以及半导体装置制造方法-CN200510107561.2有效
发明人：田边胜;川口厚;赤川裕之;河原明宏 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2005-09-29 - 公布日： 2006-04-05 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：一种被曝光系统的掩模台吸附的光刻掩模基板，在光刻掩模基板的主表面上除了从外部外围端部表面向内2mm的区域，平面测量区域的平整度为0.6μm或者更小，光刻掩模基板主表面的一边被掩模台吸附，以及平面测量区域的四个角部分中的至少三个具有朝向外部外围边缘上升的形状
光刻掩模基板曝光制造方法以及半导体装置

[发明专利]器件制造方法、光刻设备和计算机程序-CN200880008283.7有效
发明人： A·奥德斯霍恩;R·布洛克;E·R·洛普斯卓;L·M·莱瓦西尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2008-03-14 - 公布日： 2010-02-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种器件制造方法，包括用由安装在可位移的掩模版台上的掩模版形成的图案化辐射束曝光衬底，其中所述方法包括步骤：确定用于相对于所述掩模版台逼近掩模版表面的高度和倾斜形状的非线性函数；在衬底曝光过程中，根据非线性函数控制所述掩模版台的位移。
器件制造方法光刻设备计算机程序

[发明专利]一种二维扫描精密激光曝光系统-CN200610012094.X无效
发明人：赵立新;王肇志;胡松;唐小萍;严伟;邢薇 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2006-06-02 - 公布日： 2006-10-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种二维扫描精密激光曝光系统，由圆刻机工作台、被刻码盘、激光器、掩模、摆动扫描系统、精密激光步进台、掩模抬起机构及计算机控制系统组成，激光器作为光源，光束整形后投射到摆动扫描系统上，计算机控制系统经过控制摆动扫描系统和精密激光步进台的运动完成二维扫描照明掩模，将掩模上的图形复制被刻码盘上完成一个区域的光刻，圆刻机工作台带动码盘旋转选择被光刻的区域，掩模抬起机构在码盘旋转时将掩模抬起，曝光时落下。
一种二维扫描精密激光曝光系统