专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种拼接型陶瓷-CN202023303456.5有效
  • 周其刚;李宪民;侯金明 - 南京欧美达应用材料科技有限公司
  • 2020-12-30 - 2021-10-22 - C23C14/34
  • 本实用新型公开了一种拼接型陶瓷,包括多个固定在背板上的陶瓷片,两片相邻的陶瓷片的接触面上设有形状相吻合从而能将两片相邻的陶瓷拼接在一起的拼接边;两个相邻陶瓷片中的其中一个陶瓷片的拼接边倒置,另一陶瓷片的拼接边向上设置在向下设置的拼接边的下方,从而使所述两个相邻的陶瓷片贴合在一起;所述拼接边包括第一拼接边,所述第一拼接边的形状为中心对称的倒S形,所述第一拼接边上设有相适应的凹槽和凸起本实用新型的陶瓷片采用拼接拼接,与现有技术的拼接相比不存在贯穿的缝隙,有利于提高产品质量。
  • 一种拼接陶瓷
  • [实用新型]一种拼接装置-CN201921015854.1有效
  • 常洪兴;徐胜 - 杰莱特(苏州)精密仪器有限公司
  • 2019-06-29 - 2020-06-30 - C23C14/34
  • 本实用新型涉及到离子溅射靶技术领域,尤其涉及一种拼接装置。该拼接装置的中心通过中心固定螺钉固定在水冷背板的中心,中心的四周与外围紧密贴合在一起,外围通过外围固定螺钉固定在水冷背板上,这样当中心消耗殆尽,需要更换时,只需要更换中心,外围无需更换,这就节省了的成本;此外,水冷背板由黄铜材料制备而成,这样就增加了水冷背板的散热效率,提高了拼接装置的工作效率。总之,该拼接装置结构简单,散热效率高,使用成本低,适合推广使用。
  • 一种拼接式靶材装置
  • [发明专利]拼接形成方法-CN200910212187.0有效
  • 姚力军;潘杰;王学泽;陈勇军;刘庆 - 宁波江丰电子材料有限公司
  • 2009-11-11 - 2010-06-16 - B23K1/00
  • 一种拼接形成方法,包括:提供焊接材料,所述焊接材料包括:两块或者两块以上的坯料籽块和背板;将两块或者两块以上的坯料籽块进行拼接,形成坯料;在坯料的焊接面采用高温胶带密封坯料籽块拼接处的缝隙;在所述背板的焊接面添加钎料;对所述添加钎料的背板和具有高温胶带的坯料的焊接面进行焊接,形成。本发明提供的拼接形成方法能够降低大尺寸的制造成本。
  • 拼接形成方法
  • [发明专利]一种旋转的装配方法-CN202010344521.4有效
  • 姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;祝龙飞 - 宁波江丰电子材料股份有限公司
  • 2020-04-27 - 2022-01-11 - B23K31/02
  • 本发明提供了一种旋转的装配方法。所述方法包括:将至少两个旋转套在背管上进行拼接,相邻两个旋转之间形成拼接缝隙,在每个所述拼接缝隙中设置多个第一支撑件;每个所述第一支撑件均一部分位于拼接缝隙一侧的旋转与背管之间,另一部分位于拼接缝隙另一侧的旋转与背管之间;在每个所述拼接缝隙中设置第二支撑件,所述第二支撑件为环状,套在所述背管上,将形成旋转的两个旋转隔开;用密封件将对每个所述拼接缝隙进行密封,得到装配后的旋转。本发明提供的旋转的装配方法可以使得到的装配后的旋转在焊接时焊接结合率高,成品率高,拼接缝隙均匀,相邻旋转表面高度一致性良好,表面无台阶。
  • 一种旋转装配方法
  • [发明专利]拼接式磁控溅射平面及其使用方法-CN202211046105.1在审
  • 闫晓晖 - 上海积塔半导体有限公司
  • 2022-08-30 - 2022-11-15 - C23C14/35
  • 本发明提供了一种拼接式磁控溅射平面及其使用方法。其中,拼接式磁控溅射平面包括各自独立且相互过盈连接的圆形和若干个环形,圆形位于拼接式磁控溅射平面的中心,环形与圆形同心设置且围绕圆形的外周分布,外圈的环宽根据磁控溅射的磁场强度对应设置通过将磁控溅射平面分为多块同心设置且可以相互分离的独立区域,在磁控溅射沉积过程中,可以方便的更换消耗完毕或接近消耗完毕的结构,无需整体更换整个,提高各区域的利用率,提高经济效益。
  • 拼接磁控溅射平面及其使用方法
  • [实用新型]一种大面积玻璃镀膜用铌平面-CN202022398072.X有效
  • 刘军社 - 宝鸡市佳军金属材料有限公司
  • 2020-10-26 - 2021-06-08 - C23C14/34
  • 本实用新型公开了一种大面积玻璃镀膜用铌平面,包括,所述的两侧分别连接有外框,且外框的内部连接有可将进行更换的更换机构,本实用新型通过增加了更换机构,解决了喷涂大面积玻璃时拼接大面积的时不稳定的问题,实现了拼接大面积时保证了的稳定性,增加了分隔板,保证了大面积拼接时缝隙不会过大或者过小,同时在喷涂玻璃时,可能因为喷涂的面积导致有的先使用完成,可以通过更换机构单独对其中用完的进行更换,在外框附近增加了通风管,可以使在镀膜时可以进行散热,避免拼接口温度过高造成损坏。
  • 一种大面积玻璃镀膜平面
  • [发明专利]一种提高磁控溅射镀膜用使用率的方法-CN201410001386.8有效
  • 姚能健;黄威智;方家芳 - 昆山全亚冠环保科技有限公司
  • 2014-01-02 - 2014-03-26 - C23C14/35
  • 本发明公开了一种提高磁控溅射镀膜用使用率的方法,包括以下几个步骤:(1)根据残的溅射跑道,在所述残的冲蚀曲面内使用线切割机线切割残,得到多片拼接;切割线的选取方法为:选择宽度垂直线,所述切割线与宽度垂直线的夹角在0~30°之间,所述宽度垂直线在残使用最深处且与残的宽度方向垂直;(2)对每个所述拼接进行清洁;(3)将清洁后的拼接拼接在一起,并将拼接后的与背板焊合,焊合后再次装机进行溅射镀膜。本发明将磁控溅射镀膜用的使用率提高至40%,同时,降低了生产成本,减少了资源浪费,本发明尤其适用于贵重金属和氧化物
  • 一种提高磁控溅射镀膜用靶材使用率方法
  • [发明专利]拼接式旋转及其形成方法-CN201410261333.X无效
  • 储培鸣;江昌翰 - 上海和辉光电有限公司
  • 2014-06-12 - 2014-09-10 - C23C14/35
  • 本公开提供一种拼接式旋转及其形成方法。所述拼接式旋转包括内管和与其同轴心的坯料以及设置在所述内管与所述坯料之间的接合层,其特征在于,所述坯料由至少两个坯料段构成,且所述两个坯料段之间的接缝处存在拼接面。通过改变拼接部位的形状,将拼缝在时间上累积的影响分散到更大的面积区域,减小了拼接处的膜质差异,从而减小了器件不良发生的可能性,提高了产品合格率。
  • 拼接旋转及其形成方法
  • [实用新型]一种拼接型金属-CN201922398725.1有效
  • 周其刚;戴慧敏;李宪民 - 南京欧美达应用材料科技有限公司
  • 2019-12-27 - 2020-08-25 - C23C14/34
  • 本实用新型公开了一种拼接型金属,包括若干金属片,每个所述金属片至少设有一个相同的L型边,两个相邻金属片中的其中一个金属片的L型边正放,另一金属片的L型边倒扣在正放的金属片的L优点:本实用新型的金属采用L型拼接,与现有技术的拼接相比不存在贯穿的缝隙,而且通过凹槽和凸起的设置,能够将相邻的片牢牢固定在一起,能够防止片偏移或者位移,进一步避免产生缝隙。
  • 一种拼接金属

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