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[发明专利]光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法-CN202011350050.4在审
发明人：訾安仁;张庆裕 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-11-26 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法。所述用于形成光致抗蚀剂图案的方法包括在基板上形成包含光致抗蚀剂组合物的光致抗蚀剂层。所述光致抗蚀剂组合物包括金属粒子和附接到所述金属粒子的热稳定配体。所述热稳定配体包含支链或非支链、环状或非环状的C1‑C7烷基或C1‑C7氟代烷基。使所述光致抗蚀剂层选择性地曝光于光化辐射，并且使所述光致抗蚀剂层显影以在所述光致抗蚀剂层中形成图案。在一个实施方式中，所述方法包括在使所述光致抗蚀剂层选择性地曝光于光化辐射之前加热所述光致抗蚀剂层。
光致抗蚀剂组合形成图案方法

[发明专利]防止光致抗蚀剂显影剂蚀刻的缓冲层-CN201680089255.7有效
发明人： A.E.梅格兰特 -专利权人：谷歌有限责任公司
申请日： 2016-09-13 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：一种方法，包括：提供具有第一层和第二层的器件，所述第二层与所述第一层的表面接触，其中所述第二层包括第一超导体材料；在第二层上形成缓冲材料以形成蚀刻缓冲层，其中在暴露于光致抗蚀剂显影剂时缓冲材料相对于第二层的蚀刻速率选择性使得在缓冲层暴露于光致抗蚀剂显影剂期间不会蚀刻下面的第二层；沉积和去除抗蚀剂层的选定部分以露出蚀刻缓冲层的第一部分，其中去除抗蚀剂层的选定部分包括将光致抗蚀剂显影剂施加到抗蚀剂层的选定部分。
防止光致抗蚀剂显影剂蚀刻缓冲

[发明专利]一种金属网格触控传感器和盖板玻璃集成方法-CN202110569443.2有效
发明人：谢才兴;罗伯特·佩科维奇;麦克·默里恩 -专利权人：江苏软讯科技有限公司
申请日： 2021-05-25 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：一种触摸屏，包括：显示装置以及通过光学清澈粘合剂粘附到所述显示装置的触摸传感器；其中所述触摸传感器包括：透明基底；催化剂光致抗蚀剂组合物的催化剂光致抗蚀剂图案层，所述催化剂光致抗蚀剂组合物包含光致抗蚀剂和催化剂纳米粒子；在所述催化剂光致抗蚀剂图案层上方具有导电图案的金属导电层；位于所述金属层上方的金属钝化层；以及所述金属钝化层上方的具有交联结构的透明保护层。
一种金属网格传感器盖板玻璃集成方法

[发明专利]用于制造透明印刷电路的方法和用于制造透明触摸板的方法-CN201180022940.5有效
发明人：岩濑雅之;尾崎和行 -专利权人：日本梅克特隆株式会社
申请日： 2011-12-19 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：为了在不破坏涂覆有抗蚀剂的透明导电层的情况下容易地且可靠地剥落抗蚀剂。在本发明的一个实施例中一种用于制造透明印刷电路的方法包括：提供具有透明基底材料1和形成在透明基底材料1上的透明导电层2的透明导电薄板3；在透明导电层2上形成具有指定图案的抗蚀剂4；利用抗蚀剂4作为掩模来蚀刻透明导电层2；在抗蚀剂4上以及在通过透明导电层2的蚀刻而暴露出的透明基底材料1上形成剥落膜5，以便覆盖形成抗蚀剂4的区域；以及将剥落膜5与抗蚀剂4一起剥落。
用于制造透明印刷电路方法触摸

[发明专利]光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法-CN202110106359.7在审
发明人：杨立柏;张庆裕 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-01-26 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本文提供光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法。具体地，本文提供一种在光致抗蚀剂层中形成图案的方法包括在基板上形成光致抗蚀剂层；以及使光致抗蚀剂层选择性地曝露于光化辐射以形成潜在图案。通过将显影剂施加至经选择性曝露的光致抗蚀剂层以形成图案，来使潜在图案显影。光致抗蚀剂层包含光致抗蚀剂组合物，光致抗蚀剂组合物包含光活性化合物和聚合物。聚合物具有附接到聚合物的碘或碘代基中的一者或多者，并且聚合物包括一种或多种具有交联剂基团的单体单元，并且具有交联剂基团的单体单元为以下中的一者或多者：或者，光致抗蚀剂组合物包含光活性化合物、含有碘或碘代基的聚合物以及具有两个至六个交联基团的交联剂。
光致抗蚀剂组合形成图案方法

[发明专利]光刻工艺、压模、该压模的使用以及光学数据存储介质-CN200480010708.X无效
发明人： J·H·M·奈泽恩;H·范桑坦 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2004-04-22 - 公布日： 2006-05-24 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：该工艺包含以下步骤：将光致抗蚀剂层(2)涂敷到衬底(1)上，将该光致抗蚀剂层(2)局部曝光于具有适当波长的辐射源，在衬底(1)上提供适当的液体显影剂合成物，用该显影剂合成物溶解光致抗蚀剂层(2)的曝光区域或者未曝光区域，清洗和烘干该光致抗蚀剂层(2)并由此中断所述溶解步骤。衬底(1)具有和光致抗蚀剂层(2)接触的金属表面(1c)，且该光致抗蚀剂层(2)的厚度dr小于100nm。可以获得70度或更大的相对大的光致抗蚀剂壁陡度。
光刻工艺压模使用以及光学数据存储介质

[发明专利]防止晶边区膜层剥落的半导体制造方法与内连线制作方法-CN200510103921.1无效
发明人：陈彦宏;颜文彬;曾素玲 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2005-09-15 - 公布日： 2007-03-21 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种防止晶边区膜层剥落的半导体制造方法，首先，于基底的正面上形成一层介电层。然后，形成一层光致抗蚀剂层，此光致抗蚀剂层覆盖基底的正面与部分背面。之后，仅对基底的背面进行洗边步骤，以去除基底的背面上的光致抗蚀剂层，而保留位于晶边区的光致抗蚀剂层。
防止边区剥落半导体制造方法连线制作方法

[发明专利]具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料及其抗蚀剂成像法-CN200710182370.1有效
发明人：浦野年由;龟山泰弘;藤田理惠子;宫泽隆司;利光惠理子 -专利权人：三菱化学株式会社;日本合成化学工业株式会社
申请日： 2003-08-05 - 公布日： 2008-03-05 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对紫光区激光束高度敏感的紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
具有激光感光性抗蚀剂材料成像及其

[发明专利]具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料及其抗蚀剂成像法-CN03818746.9有效
发明人：浦野年由;龟山泰弘;藤田理惠子;宫泽隆司;利光惠理子 -专利权人：三菱化学株式会社
申请日： 2003-08-05 - 公布日： 2005-09-28 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对紫光区激光束高度敏感的紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
具有激光感光性抗蚀剂材料成像及其

[发明专利]用于改进抗蚀剂模型预测的系统和方法-CN201980014234.2在审
发明人： M·库伊曼 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-02-19 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种方法，该方法涉及计算第一空间图像的第一强度和第二空间图像的第二强度，第一空间图像对应于抗蚀剂层内的第一位置，第二空间图像对应于抗蚀剂层内的第二位置。该方法还包括通过使用抗蚀剂模型的硬件计算机系统执行抗蚀剂层的计算机模拟，以基于第一强度与第二强度之间的差或基于针对第一强度的抗蚀剂模型结果与针对第二强度的抗蚀剂模型结果之间的差来获得用于抗蚀剂层特征的参数的值
用于改进抗蚀剂模型预测系统方法

[发明专利]用于微细加工的激光抗蚀剂转移-CN200680036390.1有效
发明人： T·J·崔威尔;L·W·塔特;D·B·凯;洪阳泰;G·T·皮尔斯;S·E·菲利普 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2006-09-15 - 公布日： 2008-10-01 - 主分类号： B41M5/382 文献下载
摘要：一种用于在基板(18)上形成抗蚀剂图案的方法，其包括：将具有热抗蚀剂材料层的供体元件(12)靠近该基板放置。维持一间隙，以使该热抗蚀剂材料层的表面与该基板的表面被多个间隔元件间隔开。依照该抗蚀剂的图案将热能导向供体元件(12)，从而通过烧蚀转移使热抗蚀剂材料的一部分跨越该间隙自供体元件(12)转移并沉积于基板(18)上，形成该抗蚀剂图案。
用于微细加工激光抗蚀剂转移

[发明专利]用于3D抗蚀剂轮廓模拟的光刻模型-CN201310038899.1有效
发明人：刘鹏 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2013-01-31 - 公布日： 2013-08-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于模拟由入射辐射造成的形成在衬底上的抗蚀剂层中的辐射的三维空间强度分布的方法，所述方法包括步骤：计算抗蚀剂层中的前向传播辐射和抗蚀剂层中的后向传播辐射的非相干之和；计算抗蚀剂层中的前向传播辐射与抗蚀剂层中的后向传播辐射的干涉
用于抗蚀剂轮廓模拟光刻模型

[发明专利]制备显示器用阵列板的方法-CN200680003671.7有效
发明人：金炳基;朴世炯;卞达锡;宋锡政;朴钟旼 -专利权人：可隆株式会社
申请日： 2006-02-01 - 公布日： 2008-01-23 - 主分类号： G02F1/136 文献下载
摘要：一种显示器用阵列通过如下步骤形成：将在支持膜上具有正性光致抗蚀剂树脂层的正性干膜抗蚀剂粘附到衬底上，使得光致抗蚀剂树脂层粘附在所述衬底的表面上。然后，将所述支持膜从粘附到所述衬底表面的光致抗蚀剂树脂层上释放；将所述层曝光；以及将在所述正性型光致抗蚀剂树脂层中的曝光区域显影并除去。
制备显示器用阵列方法

[发明专利]液晶显示装置的制造方法-CN200310103059.5有效
发明人：白明基;朴权植 -专利权人： LG.飞利浦LCD有限公司
申请日： 2003-10-29 - 公布日： 2004-06-30 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：一种液晶显示装置的制造方法，该方法包括：提供具有多个凹槽的底板，每个凹槽具有不同的深度和宽度；将抗蚀剂材料填充到多个凹槽中；将凹槽中填充的抗蚀剂转印到印刷辊上，以便沿着印刷辊的圆周形成多个抗蚀剂部分；以及将抗蚀剂部分施加到蚀刻对象层的表面上，其中所施加的抗蚀剂部分沿着蚀刻对象层的表面形成抗蚀剂图形。
液晶显示装置制造方法

[发明专利]树脂、光致抗蚀剂组合物和制造半导体器件的方法-CN202110475544.3在审
发明人：王筱姗;张庆裕;林进祥 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-04-29 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本申请涉及树脂、光致抗蚀剂组合物和制造半导体器件的方法。具体地，本文公开了一种用于制造半导体器件的方法，所述方法包括在基板上形成包含光致抗蚀剂组合物的光致抗蚀剂层。使所述光致抗蚀剂层选择性地暴露于光化辐射以形成潜在图案，并且通过将显影剂施加至所述经选择性暴露的光致抗蚀剂层来使所述潜在图案显影以形成图案化的光致抗蚀剂。所述光致抗蚀剂组合物包含光活性化合物以及包含自由基活性官能团和酸不稳定基团的树脂。
树脂光致抗蚀剂组合制造半导体器件方法

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