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[发明专利]用于极紫外光刻抗蚀剂改善的原子层蚀刻及选择性沉积处理-CN202080032750.0在审
发明人：游正义;萨曼塔·S·H·坦;杨柳;梁振伟;鲍里斯·沃洛斯基;理查德·怀斯;潘阳;李达;袁格;安德鲁·梁 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2020-04-14 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： H01L21/033 文献下载
摘要：本发明提供了用于降低EUV抗蚀剂的粗糙度并改善蚀刻特征的方法和系统。所述方法涉及对EUV抗蚀剂除渣、填充EUV抗蚀剂的凹陷、并用帽盖层保护EUV抗蚀剂。所得的EUV抗蚀剂具有更平滑的特征，并增加对下伏层的选择性，从而改善蚀刻特征的质量。在下伏层的蚀刻后，可去除帽盖层。
用于紫外光刻抗蚀剂改善原子蚀刻选择性沉积处理

[发明专利]使用酸扩散制造半导体器件的方法-CN201110212094.5无效
发明人：李炯来;姜律;尹景煥;金亨姬;韩索拉;朴泰會 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2011-07-27 - 公布日： 2012-02-08 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：制造半导体器件的方法包括：在基板上的第一区域上形成抗蚀剂图案；使包括酸源的除渣溶液接触抗蚀剂图案和基板的第二区域；通过使用从除渣溶液中的酸源获得的酸来分解保留在基板的第二区域上的抗蚀剂残留物；以及从基板去除分解的抗蚀剂残留物和除渣溶液
使用扩散制造半导体器件方法

[发明专利]一种铜渣硅酸盐水泥材料及其制备方法-CN201811524497.1在审
发明人：王旭;黄小青;杨义;廖双双;黄丽霖 -专利权人：广西绿色水泥产业工程院有限公司
申请日： 2018-12-13 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： C04B7/19 文献下载
摘要：本发明公开一种铜渣硅酸盐水泥材料及其制备方法，属于建筑材料技术领域。本发明的铜渣硅酸盐水泥材料由以下重量百分比的组分组成：铜渣5‑15％、矿渣5‑15％、氢氧化钙2‑6％，水泥为余量；制备方法为原料的准备、铜渣的处理和原料的混合，得到的铜渣硅酸盐水泥材料的强度和抗蚀性兼优，可以应用于海洋工程等抗蚀性强的大体积混凝土工程中，制备工艺简单，成本低，有较好的发展前景，适合推广应用。
一种硅酸盐水泥材料及其制备方法

[发明专利]光致抗蚀剂显影液及使用该显影液的基板的制造方法-CN200680021234.8有效
发明人：尾前俊吉;东野诚司;大谷俊明;名康隆 -专利权人：株式会社德山
申请日： 2006-06-13 - 公布日： 2008-07-02 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明提供由含有非离子性表面活性剂和铵化合物的碱性水溶液所构成的光致抗蚀剂显影液，其通过含有0.5～10质量％规定的非离子性表面活性剂、0.01～5.0质量％规定的铵化合物，即便在对厚膜抗蚀剂进行显影时也不会发生膜渣
光致抗蚀剂显影液使用制造方法

[实用新型]新型混铁炉-CN200920258310.8无效
发明人：冯周阳;赵建立;白周义;张新生 -专利权人：巩义市益丰耐火材料有限公司
申请日： 2009-11-23 - 公布日： 2010-08-25 - 主分类号： C21C1/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型混铁炉，包括圆形炉体，炉体顶壁设有进铁口，炉体侧壁上设有出铁口，炉体侧壁由内向外包括有工作层、永久层和保温层，工作层中下部设有返平层，工作时与工作层接触的炉内铁水液面形成渣线，返平层之上的工作层向内凸起形成工作层的抗蚀部分，抗蚀部分的顶部不低于渣线的最高点。工作层的抗蚀部分厚度较以往大大增加，使得该处的工作层能够在更长的时间内承受渣线的侵蚀，有效延长了工作层渣线部位的使用寿命，从而消除了混铁炉的寿命瓶颈，在整体上延长了混铁炉的使用寿命。
新型混铁炉

[发明专利]光学校准盘-CN201280068846.8在审
发明人： N·仓高;G·高兹纳;Z·于 -专利权人：希捷科技有限公司
申请日： 2012-12-04 - 公布日： 2014-10-29 - 主分类号： G11B5/855 文献下载
摘要：一种用于光学校准盘的系统和方法包括在衬底的一部分上分配抗蚀剂层。衬底的表面和模板的预定对象的形貌图案化表面接触到一起，其中接触使得衬底部分和模板之间的抗蚀剂层与形貌图案化表面共形，并且抗蚀剂层包括纳米尺度孔隙。纳米尺度孔隙通过更长的扩散时间、更薄的抗蚀剂以及通过使用去渣步骤对残留抗蚀剂层连同孔隙的去除而减少。抗蚀剂层被硬化成形貌图案化表面的负像，其中所述负像包括可用于被光学读取器单独测量的表面。衬底和模板被分离，其中抗蚀剂层附着于衬底的表面。
光学校准

[发明专利]一种耐火材料抗渣性试验方法-CN201610018216.X有效
发明人：孙红刚;李红霞;李鹏涛;杜一昊;闫双志;王刚;蔡斌利 -专利权人：中钢集团洛阳耐火材料研究院有限公司
申请日： 2016-01-12 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： G01N17/00 文献下载
摘要：本发明属于耐火材料领域，提出一种耐火材料抗渣性试验方法。提出的一种耐火材料抗渣性试验方法；制备包含多种待测样品材质的试样坩埚；测量并记录试样坩埚侧壁的厚度L_0；向试样坩埚中加入铸铁铁块和铁砂，铺设厚度为坩埚深度的2/3，再将试验渣铺设在铁块和铁砂上；将盛有铸铁和试样渣的试样坩埚放在烘箱中烘干；根据被测试试样的特点和服役环境选取并设定合适的试验气氛；升温和保温进行抗渣试验；降温和停炉；抗渣试样的处理、分析：测量并记录各抗渣样品材质铺面渣线部位的厚度L₁，计算渣蚀量δL=L₀‑L₁。
一种耐火材料抗渣性试验方法

[发明专利]一种基于钢渣-锰渣-赤泥的高抗蚀胶凝材料及其制备方法-CN201811554260.8有效
发明人：陈平;胡成;潘晓娟;汪光风;梁康;赵艳荣;刘荣进 -专利权人：武汉科技大学;武汉江力新建材设计咨询有限公司;桂林理工大学
申请日： 2018-12-18 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： C04B7/153 文献下载
摘要：本发明公开一种基于钢渣‑锰渣‑赤泥的高抗蚀胶凝材料及其制备方法。所述高抗蚀胶凝材料的组分是：高铁低钙水泥熟料为40～50wt％；钢渣微粉为30～40wt％；锰渣微粉为10～18wt％；赤泥微粉为5～10wt％；脱硫石膏微粉为0.5～3wt％。将高铁低钙水泥熟料、钢渣微粉、锰渣微粉、赤泥微粉和脱硫石膏微粉混合5～60分钟，制得基于钢渣‑锰渣‑赤泥的高抗蚀胶凝材料。经检测：7d抗折强度≥5.5MPa，7d抗压强度≥20MPa，28d抗折强度≥7MPa，28d抗压强度≥37MPa，抗蚀系数≥1.10；经90d海水浸泡后的增重≤1.7wt％、抗折强度≥6.5MPa和抗压强度
一种基于钢渣锰渣高抗蚀胶凝材料及其制备方法

[发明专利]正性光致抗蚀剂以及结构体的制造方法-CN200480033386.0无效
发明人：中村雅则;森伸浩 -专利权人：积水化学工业株式会社
申请日： 2004-11-17 - 公布日： 2006-12-13 - 主分类号： G03F7/023 文献下载
摘要：本发明提供可以通过低浓度碱水溶液或中性水显影，并可以容易地通过臭氧水剥离，另外，不易残留残渣，可以减少成本和环境负担的正性光致抗蚀剂以及通过使用该光致抗蚀剂的抗蚀图案形成电路的结构体的制造方法。所述光致抗蚀剂是含有具有结合了2个或2个以上羟基的苯核，且重均分子量为1000～20000的范围的酚醛清漆树脂的正性光致抗蚀剂，所述结构体的制造方法是通过使用该正性光致抗蚀剂的抗蚀图案形成电路的结构体的制造方法，该方法具有以下工序：使用上述正性光致抗蚀剂在基板表面上形成抗蚀膜的工序；对上述抗蚀膜进行曝光、显影的工序；使用显影的抗蚀图案形成电路的工序；除去抗蚀膜的工序。
正性光致抗蚀剂以及结构制造方法

[发明专利]抗蚀剂图案的形成方法以及设备-CN201080012795.8无效
发明人：上原刚;青山哲平 -专利权人：积水化学工业株式会社
申请日： 2010-03-25 - 公布日： 2012-02-22 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种抗蚀剂图案的形成方法及设备。当在光致抗蚀剂等设备上形成抗蚀剂图案时，会提高抗蚀剂表面的湿润性，提高显影的均匀性。在基板(91)上涂敷感光性的抗蚀剂而形成抗蚀剂层(93)(抗蚀剂涂敷工序)。接着，对抗蚀剂层(93)局部地照射光(曝光工序)。然后，使亲液化用处理气体通过压力接近大气压的放电空间(23)而喷出，并与抗蚀剂层(93)接触(大气压远程等离子亲液化工序)。接着，使抗蚀剂层(93)接触显影液(5)(显影工序)。
抗蚀剂图案形成方法以及设备

[发明专利]掩模组件的制造方法-CN201810089595.0有效
发明人：金桢国;任星淳;黄圭焕;金圣哲;文英慜 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2018-01-30 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本发明涉及能够提升图案精度的掩模组件的制造方法，该方法包括以下步骤：准备载体衬底；在载体衬底上涂覆第一光致抗蚀剂；对第一光致抗蚀剂进行图案化以形成第一光致抗蚀剂图案；在载体衬底和第一光致抗蚀剂上涂覆第二光致抗蚀剂；对第二光致抗蚀剂进行图案化以形成第二光致抗蚀剂图案；在载体衬底上沉积金属层；去除布置在第一光致抗蚀剂图案和第二光致抗蚀剂图案上的金属层；以及将载体衬底与金属层分离以制造分割掩模，其中，第一光致抗蚀剂为正(positive)性光致抗蚀剂，而第二光致抗蚀剂为负(negative)性光致抗蚀剂。
模组制造方法

[发明专利]干膜抗蚀剂及其制备方法-CN202111415164.7在审
发明人：朱薛妍;严晓慧;李伟杰;张浙南 -专利权人：杭州福斯特电子材料有限公司
申请日： 2021-11-25 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明提供了一种干膜抗蚀剂及其制备方法。干膜抗蚀剂包括支撑层和抗蚀剂层，形成抗蚀剂层的原料包括碱溶性树脂、可光聚合单体和光引发剂，其特征在于，抗蚀剂层为预交联层，抗蚀剂层的交联度为2％～15％。将抗蚀剂层设置为预交联层，即在收卷之前其为经过部分交联的结构，经过预交联后抗蚀剂层的流动性得到了有效控制，且通过对抗蚀剂层交联度的控制又保证了其具有足够的追随性。同时，上述交联度为2％～15％的抗蚀剂层，其具有足够的解析度和显影性，不影响其后续图形化使用要求。
干膜抗蚀剂及其制备方法

[发明专利]抗蚀性金属材料的焊接方法以及涡轮叶片-CN201380048562.7有效
发明人：藤谷泰之;奥田刚久;大山宏治;町田元成 -专利权人：三菱日立电力系统株式会社
申请日： 2013-09-20 - 公布日： 2015-06-17 - 主分类号： F01D5/28 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供能够抑制叶片前缘部的抗蚀层的硬度降低的抗蚀性金属材料的焊接方法以及涡轮叶片。本发明的抗蚀性金属材料的焊接方法是向涡轮叶片前缘部(1A)的基体(1)焊接抗蚀性金属材料的方法，具备以下步骤：将施加抗蚀性金属材料的前缘部(1A)的曲面的半径(R)形成为比基体(1)的厚度(t)大的步骤；以及在前缘部(1A)焊接抗蚀性金属材料的步骤。
抗蚀性金属材料焊接方法以及涡轮叶片

[发明专利]以激光为基础的集成电路的修理或重新构型的方法和系统-CN97181218.7有效
发明人：爱德华·J·斯文森;孙云龙;理查德·S·哈里斯 -专利权人：电子科学工业公司
申请日： 1997-10-29 - 公布日： 2003-10-08 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明提供了一种用各自定向的激光脉冲(74，94)从多个靶位置(150)照射在一个或更多集成电路(IC)芯片上的抗蚀剂材料的方法和系统。然后，定位数据指向光敏抗蚀剂材料上的多个位置(150)，指引具有预定参数的每个激光输出脉冲(94)，其中预定参数的选择用来使光敏抗蚀剂材料曝光。由于非烧蚀性加工不产生渣屑，可将一光学元件(148)放在刻蚀保护层(90)的10mm以内，以使激光输出脉冲聚焦成一个小于激光输出(140)的波长的两倍的光斑尺寸。光敏抗蚀剂层(90)被显影后，可接近的刻蚀靶(92)能被刻蚀以修理或再构造IC器件。在另一实施例中，可采用稍高一点的紫外能量激光输出脉冲(74)，来烧蚀刻蚀保护抗蚀层(70)，所以，采用任何类型的刻蚀保护覆盖层，如非光敏性抗蚀剂材料，具有明显的制造和成本效益。
激光基础集成电路修理重新构型方法系统

[发明专利]形成抗蚀图的方法-CN03108318.8无效
发明人：山下正美 -专利权人：日本电气株式会社
申请日： 2003-03-27 - 公布日： 2003-10-08 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种形成抗蚀图的方法，在抗蚀图的再流动过程中，该方法可以有效地控制抗蚀图修正的方式/形式和修正量，即使在再流动过程中抗蚀图的变形量增加，仍然可以以理想的精度实现理想的抗蚀图。第二层形成在第一层之上，并且第一抗蚀图形成在第二层之上。利用第一抗蚀图作为掩模可以有选择性地蚀刻第二层。之后，根据第一抗蚀图调节第二或者第一层的至少部分暴露的面积的可湿性，从而形成调节了可湿性的部分。修正第一抗蚀图，利用有机溶剂使得第一抗蚀图发生再流动以扩展到调节了可湿性的面积上，因此形成了第二抗蚀图，用来有选择地蚀刻第一或第二层。
形成抗蚀图方法

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