专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]装置、方法以及存储介质-CN201810206185.X有效
  • 藤川诚;新纳礼二;桥本浩幸;山口达也;野泽秀二 - 东京毅力科创株式会社
  • 2018-03-13 - 2023-04-18 - H01L21/67
  • 本发明涉及装置、方法以及存储介质。能够在纵型的反应容器内对被棚架状地保持的多个基板进行处理时分别控制基板的中心部的厚和周缘部的厚。具备:气体喷出部,设置在反应容器内的基板的保持区域的后方,用于喷出所述气体;排气口,设置在基板的保持区域的前方,用于排出气体;旋转机构,用于使基板保持器具绕纵轴进行旋转;以及加热部,将反应容器内加热至比从气体喷出部喷出的气体的温度低的温度在气体喷出部中,第一喷出口和第二喷出口各自朝向不同的方向开口,使得从第一喷出口喷出的气体与反应容器内的气体降温构件碰撞而降温,从第二喷出口喷出的气体不与气体降温构件碰撞。
  • 装置方法以及存储介质
  • [发明专利]一种装置、方法及-CN201710192899.5有效
  • 田宁;赵云;张为苍;李建华;杨辅 - 信利半导体有限公司
  • 2017-03-28 - 2019-06-04 - C23C14/24
  • 本发明公开了一种装置、方法及源。该装置包括具有成室、源,源包括加热坩埚、和至少两个缓冲件以及驱动件;其中,加热坩埚包括用于收容材料的坩埚以及用于加热所述坩埚内的材料的加热件;每一缓冲件包括恒温容器、位于恒温容器底部的下阀门本装置控制厚时,无需要知道具体的材料蒸气压与温度之间的对应关系,只需要了解恒温容器的压力与厚之间的简单关系,简化工作难度,提高生产效率以及良品率。
  • 一种装置方法成膜源
  • [发明专利]基板、基板的制造方法及装置-CN201110055790.X无效
  • 岩田宽 - 住友重机械工业株式会社
  • 2011-03-08 - 2011-10-05 - H01L31/04
  • 本发明提供一种基板、基板的制造方法及装置,其谋求降低厚的同时不需要蚀刻工序且谋求低成本化,并且具有凹凸结构的薄膜层于被基板表面。基板(1)为具有凹凸结构的薄膜层(3)于被基板(2)表面的平坦部的基板,其凹凸结构通过含氧化铟的薄膜层(3)而形成。另外,基板(1)的制造方法为制造具有凹凸结构的薄膜层(3)于被基板(2)表面的平坦部的基板(1)的方法,该制造方法具有薄膜工序,所述薄膜工序为如下工序:在被基板(2)表面含氧化铟的薄膜层(3),并通过进行该形成凹凸结构。由此,不需要用于形成凹凸结构的蚀刻工序,且谋求低成本化,并通过设成含氧化铟的透明导电(3)来降低厚。
  • 成膜基板制造方法装置

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