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[发明专利]油品工艺管道的处理方法-CN202011213973.5有效
发明人：刘丰 -专利权人：中化珠海石化储运有限公司
申请日： 2020-11-04 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： B08B9/057 文献下载
摘要：本发明公开了一种油品工艺管道的处理方法，包括步骤一，首次通球：利用通球工序初步清除工艺管道内的大部分油品；步骤二，蒸汽蒸洗：向工艺管道注入蒸汽，使剩余油品流至工艺管道底部并与蒸汽凝液混合；步骤三，至少两次通球：利用通球工序清除所述步骤二的剩余油品；步骤四，轻油清洗：向工艺管道注入轻油，工艺管道中的油品可物理溶于轻油，再利用通球工序顶着轻油在工艺管道的管壁上行进，对管壁进行擦洗；步骤五，注水清洗：向工艺管道注入清水，减少工艺管道内的可燃气体含量；步骤六，气体吹扫：向工艺管道通入惰性气体，并检验排出气体中的可燃气体含量是否达标。本方法便于工艺管道更换其他油品，也便于工艺管道进行维修改造。
油品工艺管道处理方法

[发明专利]具有旁路和混合器的废热锅炉-CN201280073077.0有效
发明人： S.海恩伊森;M.博伊 -专利权人：赫多特普索化工设备公司
申请日： 2012-05-09 - 公布日： 2015-01-14 - 主分类号： F28D7/16 文献下载
摘要：一种废热锅炉，具有用于相对较热的工艺气体和冷却介质的间接热交换的热交换管道，以及用于使一部分工艺气体旁通的旁通管道；涡旋混合器，其确保离开热交换管道和旁通管道的冷却的工艺气体和相对较热的工艺气体的混合。
具有旁路混合器锅炉

[实用新型]一种工艺气体分配装置及半导体等离子体刻蚀设备-CN202220712413.2有效
发明人：张朋兵;陈世名 -专利权人：上海谙邦半导体设备有限公司
申请日： 2022-03-25 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型提供一种工艺气体分配装置及半导体等离子体刻蚀设备，其中，工艺气体分配装置，包括连接工艺气体源的第一管道和第二管道，第一管道的另一端连接第一气体分配部件，第二管道的另一端连接第二气体分配部件；第一阀门设置于第一管道，第二阀门设置于第二管道；第一气体分配部件设置于反应腔上部空间的中部区域，第二气体分配部件设置于反应腔上部空间的中部区域外的边缘区域，均用于向下喷淋工艺气体；通过控制阀门打开和关断的脉冲占空比，来调节管道间的气体分配比例，从而控制反应腔中的工艺气体分布情况，实现工艺气体在反应腔中分布的一致性和均匀性，并且，该气体分配装置结构简单，易于生产制造且生产成本合理。
一种工艺气体分配装置半导体等离子体刻蚀设备

[发明专利]用于输送工艺气体至基板的方法和设备-CN201380038184.4有效
发明人：约瑟夫·M·拉内什 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2013-07-11 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本文中提供用于输送工艺气体至基板的方法和设备。在一些实施方式中，一种用于处理基板的设备可以包括位于处理腔室的处理空间中、基板支座上方的气体分配管道，当该基板位于该基板支座上时，该气体分配管道分配工艺气体至该基板的处理表面；和耦接至该气体分配管道的致动器，以相对于该基板支座移动该气体分配管道。在一些实施方式中，一种处理基板的方法可以包括通过气体分配管道引导工艺气体至处理腔室，该气体分配管道位于基板上方，该基板具有处理表面；和在该处理腔室内相对于该基板移动该气体分配管道，以将该工艺气体分配至该基板的整个处理表面
气体分配管道基板工艺气体处理表面基板支座方法和设备处理基板处理腔室处理空间基板移动处理腔致动器分配耦接室内移动

[发明专利]基板处理装置-CN201580006895.2在审
发明人：金倞民;李明振;李龙炫;崔宰旭 -专利权人：周星工程股份有限公司
申请日： 2015-01-29 - 公布日： 2016-09-14 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置，包括：工艺腔室；多个气体供给管道，用于提供气体或等离子体活性物质至工艺腔室内部；远程等离子体产生单元，其连接到多个气体供给管道当中的一个气体供给管道；和打开/关闭阀门，将其提供至远程等离子体产生单元和工艺腔室之间的该一个气体供给管道，用于选择性切断该一个气体供给管道。
处理装置

[实用新型]一种维持隔膜压缩机压力平衡系统-CN201320104316.6有效
发明人：朱宝毅;邓新贵;李俊;陈惟勤;刘芳 -专利权人：江西景德半导体新材料有限公司
申请日： 2013-03-07 - 公布日： 2013-10-02 - 主分类号： F04B49/08 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种维持隔膜压缩机压力平衡系统，包括压缩机前缓冲罐（1）、压缩机后缓冲罐（2）、压缩机（3）、低压工艺气体导入管道（4）、高压工艺气体补充管道（5）、工艺气体导出管道（6）、工艺气体压力平衡连接管道（10），所述工艺气体压力平衡连接管道（10）上设置有阀门（9）和自动调节阀（7），所述阀门（9）和自动调节阀（7）之间设置有惰性气体导入管道（8），本实用新型利用补充惰性气体的方法，避免开启压缩机自身平衡系统，既保证了系统的输出，又防止了因补充高压工艺气体携带微量杂质，而导致压缩机的膜片损坏的情况发生，该系统既简化了生产工艺，又提高了生产效率，因此该系统具有广阔的市场前景。
一种维持隔膜压缩机压力平衡系统

[发明专利]一种金刚石生长设备的气路控制系统及方法-CN202310925857.3在审
发明人：顾亚骏;全峰;蒋礼 -专利权人：深圳优普莱等离子体技术有限公司
申请日： 2023-07-26 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C23C16/27 文献下载
摘要：本发明公开了一种金刚石生长设备的气路控制系统及方法，所述方法包括：工艺进气管道模块、反应腔体模块以及抽气管道模块依次连接；工艺进气管道模块用于输出反应气体和清洗气体对内部管道进行清洗，并将反应气体和清洗气体输出至反应腔体模块；反应腔体模块用于接收反应气体和清洗气体，并将反应腔体模块腔体内的混合气体输出至抽气管道模块；抽气管道模块用于抽出反应腔体模块腔体内的混合气体，并配合工艺进气管道模块输出的反应气体对反应腔体模块进行清洗本发明通过设置工艺进气管道模块和抽气管道模块对金刚石设备的输气管道和反应腔体进行了清洗，使金刚石培育过程中充入的生长培育气体更加纯净，保证了金刚石高效且稳定的生长。
一种金刚石生长设备控制系统方法

[发明专利]一种长晶炉热能再利用的管道系统-CN202210040858.5在审
发明人：李辉;杨茜;王守琛;苏闻峰 -专利权人：南京晶升装备股份有限公司
申请日： 2022-01-14 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： C30B35/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种长晶炉热能再利用的管道系统，包括用于通入工艺气体的气体管道和用于排出废气的抽空管道，抽空管道套设于气体管道外侧，且气体管道的进气口和出气口均位于抽空管道外。通过抽空管道中的废气对气体管道中的工艺气体进行预热，预热后的工艺气体对炉膛温度的影响更小，避免了充入冷气造成局部过冷，增加了晶体生长的良率，使得热场温度更可控，结果更接近模拟的结果。排出炉膛的废气在经过与冷工艺气体的换热后，在一定程度上降低了温度，再将废气排放减少了对大气的温室效应的不良影响。从结构上看，抽空管道和气体管道为一体式结构，不同于常规分体结构，减少了设备开孔数量，使设备结构更为紧凑。
一种长晶炉热能再利用管道系统

[发明专利]沉积系统及方法-CN202111511883.9在审
发明人：田云龙;李晶;野沢俊久 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2021-12-07 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：在本申请的一个实施例中，沉积系统包括：工艺腔；喷淋头，其位于所述工艺腔内；以及气箱，其通过气体管道连接到所述喷淋头且包括切换装置；其中所述气箱包含第一源气体和第二源气体，所述切换装置可操作以在所述工艺腔中执行第一沉积工艺期间将所述第一源气体提供至所述气体管道，并在所述工艺腔中执行第二沉积工艺期间将所述第二源气体提供至所述气体管道，所述第二沉积工艺与所述第一沉积工艺不同。
沉积系统方法

[实用新型]一种碳化硅化学气相沉积设备-CN201420532828.7有效
发明人：戴煜;胡祥龙;周岳兵 -专利权人：湖南顶立科技有限公司
申请日： 2014-09-17 - 公布日： 2015-01-14 - 主分类号： C23C16/32 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种碳化硅化学气相沉积设备，包括：化学气相沉积室；与所述化学气相沉积室相通的惰性气体进气管道；与所述化学气相沉积室相通的工艺气体进气管道，所述工艺气体进气管道包括：与所述化学气相沉积室相通的混合装置，分别与所述混合装置相连通的第一、第二、第三和第四工艺气体进气管道；每一路工艺气体进气管道上都依次设置有控制阀门、体积流量计和质量流量控制器。本实用新型首先采用体积流量计对每一路工艺气体的流量实现初步控制，再采用质量流量控制器对各路工艺气体的流量实现精确控制，从而实现了碳化硅化学气相沉积工艺的高精度控制。
一种碳化硅化学沉积设备

[发明专利]一种防止工艺炉尾部抽气管道堵塞的结构及方法-CN202211132868.8在审
发明人：陈庆敏;李丙科;张海洋 -专利权人：无锡松煜科技有限公司
申请日： 2022-09-15 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： B01D46/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种防止工艺炉尾部抽气管道堵塞的结构及方法，其中所述防止工艺炉尾部抽气管道堵塞的方法，包括：工艺炉腔、水冷瓶、过滤瓶、真空泵和排废管道通过气体管道连通共同构成工艺炉尾部的抽气管道系统，工艺废气从工艺炉腔内经水冷瓶、过滤瓶由真空泵排入排废管道，在工艺炉腔的排气口的气体管道上还连通设有清洗装置，清洗装置向工艺炉尾部的抽气管道系统中通入清洗气体并对抽气管道内壁进行清洗操作。本发明配置有抽气管道的清洗装置，通过加热形成水汽，同时通入氮气携带水分子的方式，实现对管道和过滤瓶滤芯的周期性清洗。
一种防止工艺尾部管道堵塞结构方法

[发明专利]原子层沉积设备和使用该设备的原子层沉积方法-CN202310136594.8在审
发明人：张喆旼;许明洙;金定坤;朴民奎;郑檭 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2023-02-20 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：所述原子层沉积设备包括：支撑基板的基板支撑部；在基板支撑部上的工艺模块；将第一气体供应到工艺模块的第一气体管道；将第二气体供应到工艺模块的第二气体管道；以及排放供应到工艺模块的第一气体和第二气体的排放部工艺模块包括：连接到第一气体管道的第一气体供应流路部分；在第一气体供应流路部分下面并且连接到第二气体管道的第二气体供应流路部分；以及连接到排放部的气体排放流路部分。气体排放流路部分与第一气体供应流路部分和第二气体供应流路部分间隔开，基板介于气体排放流路部分与第一气体供应流路部分和第二气体供应流路部分之间，并且第一气体和第二气体以层流穿过工艺区域。
原子沉积设备使用方法

[发明专利]反应腔室和具有它的半导体设备-CN201210268184.0有效
发明人：郑友山 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2012-07-30 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明还提出了一种反应腔室，包括：具有工艺腔的腔体，工艺腔内设有沿上下方向间隔开的上电极和下电极；远程等离子体源；清洗气体管道，清洗气体管道的上端与远程等离子体源相连且清洗气体管道的下端伸入工艺腔内；和阀，阀设在清洗气体管道上且邻近清洗气体管道的下端。根据本发明实施例的反应腔室，避免了清洗气体管道内部起辉而产生粉尘，减少了氟离子的损耗。本发明还提出了一种具有上述反应腔室的半导体设备。
反应具有半导体设备

[实用新型]一种新型真空炉供气排气系统-CN202121927635.8有效
发明人：刘洋;姜洪斌;李强 -专利权人：青岛精诚华旗微电子设备有限公司
申请日： 2021-08-17 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： F27B5/16 文献下载
摘要：本实用新型提供一种新型真空炉供气排气系统，包括工艺气体进气管道、工艺气体进气阀、质量流量计、工艺气体出气阀、第一单向阀、第一三通接头、惰性气体进气管道、惰性气体进气阀、压力调节控制器、惰性气体出气阀、气体供气连接管道、真空反应腔、真空管道、真空规管、压力检测传感器、泄压阀、真空机组、气体排气管道、超压排气阀、自动排气阀，本实用新型具有如下的有益效果：能够实现反应腔抽真空后，根据工艺指标需要进行气体流量和压力的设定，
一种新型真空炉供气排气系统

[实用新型]金属粉末注射成形连续脱脂炉的气体循环装置-CN201620844820.3有效
发明人：刘鹏;徐文立;陈可杰 -专利权人：宁波恒普真空技术有限公司
申请日： 2016-08-04 - 公布日： 2017-02-08 - 主分类号： B22F3/22 文献下载
摘要：本实用新型公开一种金属粉末注射成形连续脱脂炉的气体循环装置，所述脱脂炉一侧设有第一横向管道，另一侧设有第二横向管道，所述第一横向管道与所述第二横向管道之间设有若干与所述脱脂炉的马弗通道连通的纵向管道，所述第一横向管道上连通有工艺气体混合装置，所述第一横向管道与所述第二横向管道之间还连通有一循环管道，所述循环管道上设有一循环风机。采用本实用新型气体循环装置工艺气体被充分加热后注入马弗通道，依靠循环风机提供动力，气流从侧面进侧面出或者从侧面进上、下出循环于管道中，使马弗管道内每个位置的工艺气体纯净度一致，且工艺气体经过马弗管道的脱脂行程缩短
金属粉末注射成形连续脱脂气体循环装置

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