专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]原子层沉积设备和使用该设备的原子层沉积方法-CN202310136594.8在审
  • 张喆旼;许明洙;金定坤;朴民奎;郑檭 - 三星显示有限公司
  • 2023-02-20 - 2023-08-25 - C23C16/455
  • 公开原子层沉积设备和使用该设备的原子层沉积方法。所述原子层沉积设备包括:支撑基板的基板支撑部;在基板支撑部上的工艺模块;将第一气体供应到工艺模块的第一气体管道;将第二气体供应到工艺模块的第二气体管道;以及排放供应到工艺模块的第一气体和第二气体的排放部。工艺模块包括:连接到第一气体管道的第一气体供应流路部分;在第一气体供应流路部分下面并且连接到第二气体管道的第二气体供应流路部分;以及连接到排放部的气体排放流路部分。气体排放流路部分与第一气体供应流路部分和第二气体供应流路部分间隔开,基板介于气体排放流路部分与第一气体供应流路部分和第二气体供应流路部分之间,并且第一气体和第二气体以层流穿过工艺区域。
  • 原子沉积设备使用方法
  • [发明专利]等离子体喷嘴部以及包括其的蒸镀装置-CN202211684458.4在审
  • 张喆旼;金定坤;许明洙 - 三星显示有限公司
  • 2022-12-27 - 2023-07-04 - C23C16/50
  • 本发明公开一种等离子体喷嘴部以及包括其的蒸镀装置,可以是,根据实施例的等离子体蒸镀装置包括沿着第一方向配置的多个等离子体喷嘴部和多个气体供应喷嘴部。可以是,所述等离子体喷嘴部的每一个包括:上壁和喷嘴壁,界定气体供应通道;中央壁,位于所述上壁之下,并在所述第一方向上与所述喷嘴壁的一部分相对而界定气体供应管,所述中央壁为绝缘体;等离子体电极,位于所述中央壁之下,并在第一方向上与所述喷嘴壁的一部分相对,并且连接于等离子体电源;以及侧壁,位于所述喷嘴壁的侧面,并与所述喷嘴壁一起界定气体排出管。
  • 等离子体喷嘴以及包括装置
  • [发明专利]基板处理装置-CN202211363195.7在审
  • 金定坤;张喆旼;许明洙 - 三星显示有限公司
  • 2022-11-02 - 2023-06-27 - H01J37/32
  • 提供了一种基板处理装置。所述基板处理装置可以包括:腔室,提供执行针对基板的工艺的空间;第一喷嘴单元,布置于腔室的内部;第二喷嘴单元,布置于腔室的内部,与第一喷嘴单元相邻;远程等离子体发生器,布置于腔室的外部,将清洗气体转换为等离子体状态;公共配管,布置于腔室的外部,与远程等离子体发生器连接,从远程等离子体发生器流入等离子体状态的清洗气体;第一连接管,连接公共配管和第一喷嘴单元;第二连接管,连接公共配管和第二喷嘴单元;源气体供应管,在腔室的外部与第一连接管连接,向所述第一连接管供应源气体;以及反应气体供应管,在腔室的外部与第二连接管连接,向第二连接管供应反应气体。
  • 处理装置
  • [发明专利]沉积装置-CN202210330040.7在审
  • 张喆旼;金定坤;李熙龙;全东杓;郑檭 - 三星显示有限公司
  • 2022-03-28 - 2022-10-18 - C23C16/44
  • 沉积装置可以包括:气体喷射单元,包括沿着第一方向平行地布置的多个线性喷嘴部;基板移送单元,在气体喷射单元的下方沿着第一方向往复移送基板;以及沉积腔室,容纳气体喷射单元和基板移送单元。线性喷嘴部中的每一个可以包括:气体供应部,供应工艺气体;电极,在与第一方向垂直的第二方向上延伸,并且通过形成在内部的喷嘴将从气体供应部接收的工艺气体喷射到基板。电极的中央部与基板之间的距离可以不同于电极的长度方向的两个侧部与基板之间的距离。
  • 沉积装置
  • [实用新型]沉积装置-CN202220728145.3有效
  • 张喆旼;金定坤;李熙龙;全东杓;郑檭 - 三星显示有限公司
  • 2022-03-28 - 2022-09-20 - C23C16/44
  • 沉积装置可以包括:气体喷射单元,包括沿着第一方向平行地布置的多个线性喷嘴部;以及基板移送单元,在气体喷射单元的下方沿着第一方向往复移送基板。线性喷嘴部中的每一个可以包括:气体供应部,供应工艺气体;电极,在与第一方向垂直的第二方向上延伸,并且通过形成在内部的喷嘴将从气体供应部接收的工艺气体喷射到基板。电极的中央部与基板之间的距离可以不同于电极的长度方向的两个侧部与基板之间的距离。
  • 沉积装置
  • [发明专利]沉积装置、其清洁方法以及使用其形成薄膜的方法-CN202111085159.4在审
  • 张喆旼;金定坤;许明洙;全东杓;郑檭 - 三星显示有限公司
  • 2021-09-16 - 2022-03-29 - C23C16/455
  • 公开了一种沉积装置、沉积装置的清洁方法以及使用沉积装置形成薄膜的方法。根据本发明一实施例的沉积装置包括:腔室;衬底固定器,布置在所述腔室内,包括衬底部以及布置在所述衬底部的两侧的第一缓冲部和第二缓冲部,并且沿第一方向往复移动;第一喷射部和第二喷射部,布置在所述腔室内,沿所述第一方向并排布置,并且向所述衬底固定器喷射气体,其中,所述第一喷射部包括分开喷射多种第一气体的多个第一喷射喷嘴,并且连接到多个第一排气部,所述多个第一排气部分别排放所述多种第一气体,以及所述第二喷射部包括向所述衬底固定器喷射第二气体的多个第二喷射喷嘴,并连接到排放所述第二气体的一个第二排气部。
  • 沉积装置清洁方法以及使用形成薄膜
  • [发明专利]显示装置的制造装置-CN202110356769.7在审
  • 张喆旼;许明洙;奇圣勳;金定坤;全东杓;郑檭 - 三星显示有限公司
  • 2021-04-01 - 2021-10-12 - H01L21/67
  • 本发明的一实施例公开一种显示装置的制造装置,包括:第一喷嘴部,包括放出第一源气体的第一喷嘴单元以及布置于所述第一喷嘴单元的外侧并排出所述第一源气体的第一排气部;以及第二喷嘴部,沿第一方向与所述第一喷嘴部并排排列,并且包括放出第二源气体的第二喷嘴单元以及布置于所述第二喷嘴单元的外侧并排出所述第二源气体的第二排气部,其中,所述第一排气部以及所述第二排气部中的至少一个放出清洗气体。
  • 显示装置制造装置

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