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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]可防止绕镀的基板载具-CN200820006107.7无效
发明人：黄泳钊;郑博仁 -专利权人：北儒精密股份有限公司
申请日： 2008-02-03 - 公布日： 2008-12-03 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种可防止绕镀的基板载具，可供至少一片基板架设，包括：一个承载板，以及至少一个将基板架设在承载板上的架设单元，该承载板包括一个供基板架设的基板架设部。本实用新型的特征在于：该承载板还包括：两个自基板架设部往相反侧突出的防绕部，前述防绕部并可在基板载具沿着一行进方向移送时，和另一块基板载具上相邻的防绕部重叠。借此可在基板载具载运基板进入溅镀室时，防止镀膜材料由两块基板载具间的间隙绕到基板背面并附着在背面上，以达到提高载运基板溅镀品质的目的。
可防止基板载具

[发明专利]安装装置及安装方法-CN202110709043.7在审
发明人：冨樫徳和 -专利权人：芝浦机械电子装置株式会社
申请日： 2021-06-25 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明包括：基板载台，载置基板；载台移动机构，使基板载台移动；第一检测部，在将电子零件安装于基板的安装位置，对安装前的电子零件的位置及基板的安装预定区域的位置进行检测；接合头，在安装位置将电子零件的位置与基板的安装预定区域的位置对位，并安装于基板；第二检测部，在与安装位置隔离的检查位置，对安装之后的电子零件进行检测；以及控制装置，控制装置包括偏移量检测部，所述偏移量检测部基于由第一检测部检测出的基板的安装预定区域的位置，对安装有电子零件的基板的安装预定区域的位置与由第二检测部检测出的电子零件的位置的位置偏移量进行检测
安装装置方法

[发明专利]基板载置台以及具备其的基板处理装置-CN201380045572.5有效
发明人：原田吉典 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2013-08-22 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：基板载置台(10)包括：载置基板(S)的载置面(13)；设置于载置面(13)，用于吸附基板(S)的吸附槽(15)；和在载置面(13)的至少一部分随机地设置的多个微小的凹凸(16)。
基板载置台以及具备处理装置

[发明专利]具有基板加热功能的基板载放机构-CN200610065006.2有效
发明人：小松智仁 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2006-03-15 - 公布日： 2006-09-20 - 主分类号： H05B3/20 文献下载
摘要：本发明提供一种设置在基板处理装置的处理容器内的基板载放机构，其特征在于包括：载放台，具有将基板载放在其上面的基体、用于对载放在该基体上的基板进行加热的发热体、和给该发热体供电用的供电端子部；固定在所述处理容器的底座上且支承所述载放台的中空支承部件
具有加热功能基板载放机构

[发明专利]等离子体处理装置及其气体排气方法-CN200880109010.1无效
发明人：山下润 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-09-25 - 公布日： 2010-09-15 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：本发明提供一种对被处理基板进行等离子体处理的等离子体处理装置。该装置包括：形成有处理空间(15)的处理容器(2)；设置在处理空间(15)内、用于载置被处理基板(W)的基板载置台(3)；处理空间形成部件(16)，设置在内部空间(15)内，具有比该内部空间(15)的内径(a15)小的内径(a1)，并在基板载置台(3)的上方划分有进行等离子体处理的处理空间(1)；排气口(6)，设置在处理空间形成部件(16)的上端部(16a)与内部空间(15)的内壁(15a)之间，从处理空间
等离子体处理装置及其气体排气方法

[发明专利]包括磁性门密封件的基板载体门组件、基板载体和方法-CN201680028525.3在审
发明人：约翰·J·马佐科;尼尔·玛利 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-04-15 - 公布日： 2018-01-26 - 主分类号： E05C19/16 文献下载
摘要：一种基板载体门组件，包括可被调变的相对高的密封力。基板载体门组件包括配置为密封至载体主体的载体门、该载体主体上的第一吸引构件和该载体门上的第二吸引构件。吸引构件选自以下组磁性材料和永久磁铁。基板载体门组件包括磁场产生器，该磁场产生器可通电以减少该吸引构件之间的吸引力，使得该载体门相对容易移除，还在未通电时提供强化的密封。提供了包括基板载体门组件的基板载体和处理基板的方法。还公开包括端口和磁性端口密封件的基板载体，该端口配置为允许气体被注射进载体腔室或从该载体腔室移除，还公开许多其他态样。
包括磁性密封件载体组件方法

[发明专利]基板载体系统及使用它的方法-CN201580017984.7有效
发明人：王作乾;J·M·怀特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-03-20 - 公布日： 2019-01-15 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：提供一种基板载体系统。该基板载体系统包括基板载体主体、电极组件、支撑基底及控制器。该基板载体主体具有基板支撑表面，且电极组件设置于该基板载体主体中。该电极组件包括多个横向间隔开的电极组。该支撑基底支撑该基板载体主体。
载体系统使用方法

[实用新型]用于抛光基板的系统和抛光工作台-CN202122332539.5有效
发明人： C·H-G·李;A·N·伊耶;H·K·特兰;G·张 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-09-26 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本文的实施例总体上涉及用于抛光基板的系统和抛光工作台。在一个实施例中，一种抛光系统包括：基板载体，所述基板载体包括用于在抛光工艺期间包围待处理基板的环形扣环；以及抛光工作台。抛光工作台包括圆柱形金属主体，所述圆柱形金属主体具有垫安装表面。垫安装表面包括多个抛光区，所述多个抛光区包括具有圆形形状或环形形状的第一区、外接第一区的第二区、以及外接第二区的第三区。
用于抛光系统工作台

[发明专利]处理基板的方法及用于保持基板的基板载体-CN201780001311.1有效
发明人：马蒂亚斯·赫曼尼斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-01-31 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本文描述了一种处理基板(10)的方法。所述方法包括使用夹持装置(120)将基板(10)吸引到基板载体(100)的支撑表面(102)；将掩模(20)布置在基板(10)的前面；从支撑表面(102)部分地释放基板(10)；以及在基板(10)上沉积材料根据另一方面，描述了用于在沉积期间保持基板的基板载体(100)。基板载体包括被配置用于将基板(10)朝向基板载体(100)的支撑表面(102)吸引的夹持装置(120)，其中夹持装置(120)被配置用于从所述支撑表面(102)部分地释放基板(10)。
处理方法用于保持载体

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201210337344.2有效
发明人：榎木田卓;中原田雅弘;宫田亮;木山秀和;饭田成昭 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-09-12 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置具有：承载区，其包含左右分开地设置的第1承载件载置部及第2承载件载置部；处理区，其具有将多个层部分上下配置而成的层构造，并且各层部分具有用于输送基板的基板输送机构和用于处理基板的处理组件；塔单元，其含有多个基板载置部，该多个基板载置部配置在可利用多个基板载置部各自所对应的层部分的基板输送机构交接基板的高度位置；第1基板移载机构，其用于在第1承载件载置部上的承载件与塔单元的各基板载置部之间移载基板；第2基板移载机构，其用于在第2承载件载置部上的承载件与塔单元的各基板载置部之间移载基板。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201610811624.0有效
发明人：榎木田卓;中原田雅弘;宫田亮;木山秀和;饭田成昭 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-09-12 - 公布日： 2019-04-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置具有：承载区，其包含左右分开地设置的第1承载件载置部及第2承载件载置部；处理区，其具有将多个层部分上下配置而成的层构造，并且各层部分具有用于输送基板的基板输送机构和用于处理基板的处理组件；塔单元，其含有多个基板载置部，该多个基板载置部配置在可利用多个基板载置部各自所对应的层部分的基板输送机构交接基板的高度位置；第1基板移载机构，其用于在第1承载件载置部上的承载件与塔单元的各基板载置部之间移载基板；第2基板移载机构，其用于在第2承载件载置部上的承载件与塔单元的各基板载置部之间移载基板。
处理装置方法

[发明专利]半导体工艺设备-CN201780045571.9有效
发明人： K·嘉纳基拉曼;H·K·博尼坎帝;J·C·罗查-阿尔瓦雷斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-09-06 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：公开一种基板运输系统，并且所述基板运输系统包括：腔室，所述腔室具有内壁；平面电机，所述平面电机安置在所述内壁上；和基板载体，所述基板载体磁性地耦接到所述平面电机。所述基板载体包括：基部；和基板支撑表面，所述基板支撑表面耦接到以悬臂定向从所述基部延伸的支撑构件。
半导体工艺设备

[发明专利]用于磁介质的批处理的系统-CN201180005377.0有效
发明人：史蒂文·维哈维伯克;乔斯·安东尼奥·马林 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-01-05 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：提供用于同时处理多个基板的方法与设备。每个基板可具有将被处理的两个主活性表面。设备具有基板搬运模块与基板处理模块。基板搬运模块具有负载组件、翻转组件与工厂接口。基板在负载组件处设置在基板载具上。翻转组件是用来在需要两侧处理的情况下翻转基板载具上的所有基板。工厂接口定位固持基板的基板载具以进出基板处理模块。基板处理模块包括负载锁定器、传送腔室与多个处理腔室，多个处理腔室的每一个配置为处理设置在基板载具上的多个基板。
用于介质批处理系统

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN200780049603.9无效
发明人：森井浩二郎 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2007-12-04 - 公布日： 2009-11-18 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本基板处理装置根据载放在基板载放台(1)的载放面上的第一基板的第一标记和第二标记的位置，使将第一标记与第二标记连接的线的方向与台架(2)的能移动的方向一致，使在将第一标记与第二标记连接的线的方向与上述移动方向一致的状态下的第一标记的位置和第三标记的位置存储在存储部中，在基板载放台(1)的载放面上载放第二基板后，针对第二基板，使将第二基板上的第一标记与第三标记连接的线的方向与根据存储部中存储的信息计算得到的将第一基板上的第一标记与第二基板上的第三标记连接的线的方向一致
处理装置方法

[发明专利]具有定心功能的基板载体-CN202210471177.4在审
发明人：赖纳·罗尔曼;斯蒂芬·肯普夫 -专利权人：新格拉斯科技集团
申请日： 2022-04-28 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于容纳和运输基板的基板载体、包括此种基板载体的更换站以及用于处理基板的方法。
具有定心功能载体

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