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[发明专利]基板支撑装置、包括其的基板处理系统及基板处理方法-CN201711042198.X有效
发明人：金载烈;徐钟锡;金性洙 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2017-10-31 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明构思的实施方式涉及一种用于支撑基板的装置和用于处理基板的方法。基板支撑装置包括：基板支撑构件，所述基板支撑构件包括具有支撑基板的上表面的支撑板；以及加热构件，所述加热构件设置在支撑板中以加热基板，其中，支撑板的区域具有缓冲区域，所述缓冲区域中形成有缓冲空间，用于限制从加热构件向上表面提供的热量的传热递率
支撑装置包括处理系统方法

[实用新型]一种电感器件连接结构-CN202222735599.6有效
发明人：马旭呈 -专利权人：广东伟高智能控制有限公司
申请日： 2022-10-18 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： H01F27/06 文献下载
摘要：本实用新型涉及电感器件技术领域，公开了一种电感器件连接结构，电感器件连接结构包括基板、电感件以及支撑构件；支撑构件的一端与基板固定且电连接，电感件固定于支撑构件的另一端并与支撑构件电连接，电感件通过支撑构件与基板电连接；支撑构件设有与基板间隔设置的支撑板，支撑板与基板之间具有用于容纳电子元件的安置空间，电感件固定于支撑板远离基板的一侧；本实用新型技术方案旨在减少空间占用的同时提高电感件的散热。
一种电感器件连接结构

[发明专利]剥离方法及装置-CN201480063357.2在审
发明人： R·A·贝尔曼;R·G·曼利;A·T·斯蒂芬斯二世 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2014-11-04 - 公布日： 2016-07-06 - 主分类号： B65H41/00 文献下载
摘要：一种剥离装置(100)包括剥离构件(103)，所述剥离构件具有附接构件(115)，所述附接构件包括弓形表面(117)并且配置为相对于弓形表面可释放地安装第一基板(111)。剥离装置进一步包括平移机构(107)，所述平移机构配置为相对于第二基板(113)平移支撑轴线(X)以在剥离构件围绕支撑轴线旋转的同时将剥离构件移离第二基板。在进一步的示例中，方法包括相对于剥离构件的弓形表面可释放地安装第一基板，并且相对于支撑位置(105)可释放地安装第二基板。该方法进一步包括相对于第二基板平移剥离构件的支撑轴线，以将剥离构件移离第二基板，其中在剥离构件围绕支撑轴线旋转时，第一基板从第二基板剥离。
剥离方法装置

[发明专利]光源设备和投影显示设备-CN202080030502.2在审
发明人：西正太;高沢丈晴;石毛正裕 -专利权人：索尼集团公司
申请日： 2020-05-26 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： G03B21/00 文献下载
摘要：根据本公开内容的实施方式的光源设备包括：支撑基板，所述支撑基板包括位于一个表面上的荧光体层；驱动单元，所述驱动单元使支撑基板被旋转驱动；第一支撑构件，所述第一支撑构件与所述支撑基板的所述一个表面相对的另一表面相对；多个第一散热构件，所述多个第一散热构件根据与荧光体层的距离而各自具有彼此不同的散热性能，所述多个第一散热构件同心圆状地设置在所述支撑基板的所述另一表面上；和多个第二散热构件，所述多个第二散热构件同心圆状地设置在第一支撑构件的与支撑基板相对的表面上，所述多个第二散热构件与所述多个第一散热构件交替地设置。
光源设备投影显示

[发明专利]基板支撑设备-CN201880029938.2在审
发明人：千东硕;金正美;金鍾植;郑源宇;千珉镐;黄喆周 -专利权人：周星工程股份有限公司
申请日： 2018-06-25 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：基板支撑设备的一个实施方式包括：用于支撑基板的支撑构件；和温度补偿构件，所述温度补偿构件设置在所述支撑构件的边缘并且补偿所述基板的温度，其中所述支撑构件可由光透射材料形成，所述温度补偿构件可由不透明材料形成，并且所述温度补偿构件的表面可由对清洁气体具有抗腐蚀性的材料制成。
温度补偿构件支撑构件基板支撑设备不透明材料光透射材料清洁气体支撑基板基板

[发明专利]显示面板及显示装置-CN202010959977.1在审
发明人：黄建龙 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2020-09-14 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： G02F1/1339 文献下载
摘要：该显示面板包括第一基板、与该第一基板相对设置的第二基板及位于该第一基板与该第二基板之间的液晶层；该第一基板包括至少一第一支撑构件，该第二基板包括至少一与该第一支撑构件对应的第二支撑构件；至少一该第一支撑构件或至少一该第二支撑构件上设置有第一开口，部分该第一支撑构件与该第二支撑构件通过该第一开口嵌套设置。本申请通过在至少一该第一支撑构件或至少一该第二支撑构件上设置有第一开口，在显示面板受到挤压时，部分该第一支撑构件与该第二支撑构件通过该第一开口嵌套设置，避免了第一支撑构件与第二支撑构件之间的相对移动，减少了对周围液晶的扰动
显示面板显示装置

[发明专利]预固化装置-CN201710910661.1有效
发明人：郝延顺;庞鲁;邢宇 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-09-29 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本发明公开一种预固化装置，用于固化基板上的膜层，包括第一加热基板、第二加热基板以及支撑构件，第一加热基板具有第一加热面；第二加热基板与第一加热基板相对且间隔设置，第二加热基板具有第二加热面，第二加热面朝向第一加热面；支撑构件用于支撑基板，支撑构件设置于第一加热基板和第二加热基板之间，支撑构件可移动地靠近第一加热基板或第二加热基板；支撑构件包括导向件和设置于导向件上的多个支撑件，支撑件可滑动地设置于导向件上。本发明提供的预固化装置包括在预定平面内可滑动的支撑件，因此可以通过调整该支撑件的位置，使其避开基本的显示区域，防止黑斑形成，从而提高产品良率。
固化装置

[发明专利]用于处理基板的设备-CN202211698270.5在审
发明人：金泰信;郑映大;金源根;李智暎;郑智训 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于处理基板的设备，所述设备包括：具有处理空间的室；基板支撑单元，所述基板支撑单元在所述处理空间内支撑和旋转基板；液体供应单元，所述液体供应单元向支撑在基板支撑单元上的基板供应化学液体；激光照射单元，所述激光照射单元将激光照射到支撑在基板支撑单元上的基板的底部；以及激光反射单元，所述激光反射单元联接到所述激光照射单元并将照射并反射的激光反射到基板的底部，其中所述激光反射单元包括反射构件和驱动构件，所述反射构件反射从基板反射的激光，所述驱动构件使所述反射构件以预定的倾斜角倾斜。
用于处理设备

[发明专利]对玻璃基板进行烤焙处理的装置及方法-CN201210226013.1有效
发明人：马涛;丁涛;刘明;宋涛;赵国栋;刘一俊 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2012-07-03 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： C03B32/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种对玻璃基板进行烤焙处理的装置，包括：一烤焙室，用于对所述玻璃基板进行加热；一支撑构件，用于支撑所述玻璃基板；一温度传感装置，用于感测所述玻璃基板的温度；一加热装置，用于对所述支撑构件进行加热；一冷却装置，用于对所述支撑构件进行冷却；一温度控制装置，用于接收所述温度传感装置发送的温度数据，并根据所述的温度数据控制所述加热装置对所述支撑构件进行加热，或者控制所述冷却装置对所述支撑构件进行冷却。本发明还公开了一种对玻璃基板进行烤焙处理的方法。本发明能动态地控制与玻璃基板接触的支撑构件的温度，在整个烤焙过程中使玻璃基板的温度与支撑构件的温度保持一致，有效地防止玻璃基板上出现斑点。
玻璃进行处理装置方法

[实用新型]二次电池及其集流组件-CN201920085034.3有效
发明人：陈元宝;李全坤;马若岩;王鹏 -专利权人：宁德时代新能源科技股份有限公司
申请日： 2019-01-18 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： H01M2/26 文献下载
摘要：集流组件包括集流构件和散热构件，集流构件连接电极组件和电极端子。集流构件包括基板、弯折板和支撑板，基板沿垂直于横向的方向延伸，弯折板从基板沿纵向的一端延伸并相对于基板弯折，支撑板从弯折板的远离基板的一端延伸。支撑板与二次电池的电极组件电连接。散热构件连接于基板，且散热构件和支撑板位于基板沿横向的同一侧。在横向上，散热构件远离基板的表面比支撑板远离基板的表面更靠近基板。
基板支撑板电极组件二次电池散热构件顶盖板基板沿弯折板壳体电极端子顶盖组件本实用新型方向延伸构件连接基板弯折组件包括电连接延伸收容垂直

[发明专利]液体喷出头、具有该液体喷出头的记录设备及记录方法-CN200910147261.5有效
发明人：广泽稔明 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2009-06-17 - 公布日： 2009-12-23 - 主分类号： B41J2/14 文献下载
摘要：该液体喷出头包括：至少一个液体喷出基板，其用于喷出液体；支撑构件，其用于支撑至少一个液体喷出基板，至少一个液体喷出基板被固定到支撑构件的主表面；以及多个液体供给构件，其用于将液体经由支撑构件供给到至少一个液体喷出基板液体供给构件中的每一个的线膨胀率与支撑构件的线膨胀率不同。沿着支撑构件的长度方向配置多个液体供给构件，且液体供给构件中的每一个均被接合到支撑构件的与主表面相反的表面。
液体喷出具有记录设备方法

[发明专利]用于半导体制造的喷射构件及具有该喷射构件的基板处理装置-CN201280031035.0有效
发明人：朴用城;李成光;金东烈;方弘柱;金玟锡 -专利权人：国际电气高丽株式会社
申请日： 2012-05-30 - 公布日： 2014-03-12 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：发明涉及一种基板处理装置。基板处理装置包括：处理腔室，其容纳多个基板以便执行等离子处理过程；支撑构件，其安装在所述处理腔室内以便将多个基板安装在其相同平面上；喷射构件，其相对于所述支撑构件安装并且包括多个独立的挡板，以便将至少一种反应气体和一种净化气体独立地喷射到与放置在所述支撑构件上的所述多个基板相对应的位置中；和驱动单元，其用于使所述支撑构件或所述喷射构件转动，以使所述喷射构件的所述挡板朝向放置在支撑构件上的多个基板的上侧依次地转动。所述喷射构件包括等离子体发生器，其安装在至少一个所述挡板上，以喷射来自多个挡板的反应气体，以便将待喷射到到基板上的反应气体等离子体化。
用于半导体制造喷射构件具有处理装置

[发明专利]镀敷设备-CN201610452990.1有效
发明人：南吉夫 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2012-03-15 - 公布日： 2018-05-18 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：一种镀敷设备，包括：台，能够可拆卸地保持基板的基板保持器放置在台上；保持镀敷溶液的镀敷部用于通过将基板在竖直面中浸没在镀敷溶液中而对基板进行镀敷；和用于在台和镀敷部之间运送基板保持器的基板保持器运送器，其包括用于保持基板保持器的保持部分；和用于打开和闭合基板保持器的基板保持器打开和闭合机构；基板保持器包括：可移动支撑构件；和用于与可移动支撑构件协同夹持基板的固定支撑构件；基板保持器打开和闭合机构包括：用于按压可移动支撑构件的头部分，其至少具有将可移动支撑构件相对于固定支撑构件紧固和释放的可旋转的一部分；用于竖直地移动头部分的第一致动器；和用于至少旋转头部分的一部分的第二致动器。
敷设

[发明专利]喷墨记录头的制造方法-CN200910172152.9有效
发明人：尾崎靖彦 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2009-09-10 - 公布日： 2010-03-17 - 主分类号： B41J2/145 文献下载
摘要：该记录头包括：多个记录元件基板，记录元件基板具有至少一个喷嘴列，喷嘴列包括多个用于喷出墨的喷嘴；电布线构件，其向多个记录元件基板供给信号；支撑构件，其支撑记录元件基板和电布线构件；电连接部，其使记录元件基板与电布线构件彼此电连接；以及密封剂，其密封电连接部，该方法包括如下步骤：向安装有记录元件基板、电布线构件和电连接部的支撑构件涂布密封剂，固化密封剂，在密封剂的固化前后，测量设置在各记录元件基板上的至少两个基准位置之间的距离；以及依据在密封剂的固化前后测量到的基准位置之间的距离之差将多个记录元件基板安装到支撑构件。
喷墨记录制造方法

[实用新型]支撑结构及天线-CN202221467159.0有效
发明人：邱俊杰;李永忠 -专利权人：普罗斯通信技术（苏州）有限公司
申请日： 2022-06-13 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： H01Q1/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种支撑结构及天线，该支撑结构包括基板、第一构件及第二构件。第一构件包括固定于基板上的第一支撑件，第一支撑件上设有卡接槽。第二构件包括支撑面及自支撑面向下延伸的第二支撑件，第二支撑件设有卡接块，该卡接块与卡接槽相卡接配合，将第二构件固定于第一构件。本实用新型通过设置第一构件及第二构件，替代了现有技术中在基板开孔，并通过塑料铆钉或者螺钉将第二构件紧固于基板的安装方式，使得第二构件在基板无法开孔的情况下也能固定于基板。同时，本实用新型通过卡接块与卡接槽相卡接配合，实现第二构件的固定，结构简单且安装方便，成本低，大大提高了工作效率及经济效益。
支撑结构天线