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[发明专利]一种复合型基台组件-CN201910044663.6在审
发明人：高明;朱健;祁金茂;刘国宁 -专利权人：江苏人冠医疗科技有限公司
申请日： 2019-01-17 - 公布日： 2019-04-05 - 主分类号： A61C8/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种复合型基台组件，包括基底、基底螺丝、基台和基台螺丝，基底通过基底螺丝与种植体固定，基台通过基台螺丝安装在基底上，并且基台螺丝的下部与基底螺丝的上端螺纹连接。通过基底、基底螺丝、基台和基台螺丝组成基台组件，解决了种植体植入深度不同造成基台位置不可调的问题，通过更换不同的基底来调整基台的高度以满足患者个性化订制的需求。将基底设置呈倒圆锥台结构，在术后愈合期帮助软组织成型，形成一个和患者的牙龈曲线匹配的牙龈袖口。通过设置愈合帽，在隔绝细菌，防止感染的前提下，也为后续更换基底预留了手术通道，避免更换基底对牙龈造成二次伤害，同时也有效的隔绝细菌进入牙槽窝。
基底基台螺丝牙龈基台组件细菌种植体植入倒圆锥台二次伤害螺丝安装上端螺纹手术通道术后愈合软组织订制袖口牙槽窝愈合帽种植体成型匹配预留个性化感染帮助

[实用新型]一种复合型基台组件-CN201920079078.5有效
发明人：高明;朱健;祁金茂;刘国宁 -专利权人：江苏人冠医疗科技有限公司
申请日： 2019-01-17 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： A61C8/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种复合型基台组件，包括基底、基底螺丝、基台和基台螺丝，基底通过基底螺丝与种植体固定，基台通过基台螺丝安装在基底上，并且基台螺丝的下部与基底螺丝的上端螺纹连接。通过基底、基底螺丝、基台和基台螺丝组成基台组件，解决了种植体植入深度不同造成基台位置不可调的问题，通过更换不同的基底来调整基台的高度以满足患者个性化订制的需求。将基底设置呈倒圆锥台结构，在术后愈合期帮助软组织成型，形成一个和患者的牙龈曲线匹配的牙龈袖口。通过设置愈合帽，在隔绝细菌，防止感染的前提下，也为后续更换基底预留了手术通道，避免更换基底对牙龈造成二次伤害，同时也有效的隔绝细菌进入牙槽窝。
一种复合型组件

[发明专利]光刻装置和器件制造方法-CN200610171747.9有效
发明人： K·J·J·M·扎尔;J·J·奥坦斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2006-12-29 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种光刻装置，其具有与基底台隔开地形成的盖板和通过控制该盖板的温度来稳定基底台的温度的装置。公开了一种光刻装置，其具有布置在盖板和基底台之间的热绝缘体，使得该盖板用作基底台的热屏蔽。公开了一种光刻装置，其包括确定基底台的变形并参考该基底台的变形来改善对基底位置控制的装置。
光刻装置器件制造方法

[发明专利]基底台系统、光刻设备和光刻方法-CN201710210545.9有效
发明人：吴立伟;郭琳;池峰;杨晓峰 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2017-03-31 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种基底台系统、光刻设备和光刻方法，基地台系统中的工件台系统包括一基底曝光工位，位于光刻机的曝光区域；一转接台，位于所述基底曝光工位的一侧；至少两个微动台，用于承载基底；一粗动台，用于带动所述微动台在所述基底曝光工位上移动；当一个微动台位于所述转接台上进行基底交接时，所述粗动台带动另一个微动台移动至所述基底曝光工位上，使得位于该微动台上的基底曝光。则本发明提供的工件台系统中仅需在基底曝光工位一侧设置用于放置转接台以及一个微动台的空间，因此相对于现有技术，本发明提供的工件台系统并未占用较大的空间，节省了占地成本。
基底曝光微动台工位工件台系统转接光刻设备基底台光刻基底基地台系统曝光区域光刻机上移动微动承载交接占用移动

[发明专利]虚拟平面-CN201710214554.5有效
发明人：亨克·扬·兹维尔斯;雅各布斯·亨德里克斯·约翰内斯·扬森;约斯·安妮·费尔曼 -专利权人：穆特拉茨国际有限公司
申请日： 2012-12-28 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： B41J2/01 文献下载
摘要：一种用于将墨水图案印刷在基底上以便产生印刷电路板的喷墨系统，包括：用于支持基底的基底支持物；基底定位台，其中基底定位台是通过台定位设备可移动的。特别的，基底定位台是在至少0.5m至最多2m范围的长冲程的印刷方向上是可移动的。根据本发明的喷墨系统的改进之处在于，该喷墨系统还包括支持物定位设备，用以相对于基底定位台在至少一个自由度上定位基底支持物。优选的，基底支持物相对于基底定位台的定位能够补偿在基底定位台的行程过程中发生的位置偏移。
虚拟平面

[发明专利]桥台台背回填路基及其施工方法-CN202211332811.2在审
发明人：杨立新;沈委慈;汪超;杨帆;王震 -专利权人：中交第二航务工程局有限公司
申请日： 2022-10-28 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： E01C3/00 文献下载
摘要：本发明提供一种桥台台背回填路基及其施工方法，桥台台背回填路基，包括主体路基与桥台台身，所述主体路基上靠近所述桥台台身的一侧依次开设有路基台阶，所述主体路基与桥台台身之间的底部设置有基底，所述基底顶部与路床之间设置有回填层；所述基底具有由下至上分别铺设而成的第一基底层、第二基底层及第三基底层；所述第一基底层为基底翻晒后掺加水泥压实形成；所述第二基底层及第三基底层均为水泥土压实形成；在本发明中的桥台台背回填路基，通过分层铺设的基底，能够改善回填路基的受力性能，增强基底的承载性能，减少沉降，防止桥头跳车。
桥台回填路基及其施工方法

[发明专利]用于支撑和/或热调节基底、支撑台和夹盘的设备和方法-CN200510113862.6有效
发明人： J·J·S·M·梅坦斯;A·L·H·J·范米尔;J·J·奥坦斯;E·A·M·范戈佩 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2005-10-21 - 公布日： 2006-07-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种包括用于支撑基底的支撑台的设备。该支撑台包括在使用中用于支撑基底的多个接触基底的支撑突起。支撑台包括多个传热突起，当基底由支撑突起支撑时，该传热突起在使用中朝基底延伸但是不接触基底。用于和基底进行热交换的含有气体的换热间隙在传热突起和基底之间延伸。
用于支撑调节基底设备方法

[发明专利]光刻装置的浸没损坏控制-CN200610099680.2有效
发明人： F范德穆伦;HHM考克西;M侯克斯;RJ范维烈特;S尼蒂亚诺夫;PWJM坎帕;RPH哈尼格拉夫 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2006-06-28 - 公布日： 2007-01-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻装置，包括：保持基底的基底台，测量基底台的位置量的基底台位置测量系统，将带图案的辐射光束投影到基底靶部上的投影系统，将浸没液体提供到投影系统的下游透镜和基底之间的空间的流体供给系统，和测量流体供给系统的位置量的流体供给系统位置测量系统为了防止流体供给系统和基底台之间的碰撞，光刻装置的损坏控制系统包括计算器，其用于从基底台的位置量和流体供给系统的位置量计算流体供给系统和保持基底的基底台之间的间隙的尺寸量。
光刻装置浸没损坏控制

[实用新型]一种用于纳米压印设备基底定位固定的台盘-CN202123013911.2有效
发明人：冀然 -专利权人：青岛天仁微纳科技有限责任公司
申请日： 2021-12-02 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于纳米压印设备基底定位固定的台盘，包括台盘，所述台盘固定于纳米压印设备上，所述台盘的上表面设有多组真空槽，用于吸附不同尺寸的基底，在所述台盘左右两侧设有基底定位结构，在所述台盘下方设有顶针机构；在每组真空槽槽内侧底部设有真空孔，所述真空孔通过气管连接真空泵；相邻真空槽组之间设有溢流槽；在所述真空槽外侧设有基底定位结构的隐藏槽。本实用新型的有益效果是：台盘、基底定位结构以及顶针机构配合工作，可实现准确定位基底位置，并将基底定位于台盘中心处。定位完成后，基底定位结构下降，不会影响下一步动作。
一种用于纳米压印设备基底定位固定台盘

[实用新型]一种传导热薄膜-CN201820208006.1有效
发明人：苏红海 -专利权人：深圳市英诺美达科技有限公司
申请日： 2018-02-06 - 公布日： 2018-10-26 - 主分类号： H05K7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种传导热薄膜，包括上基底层和下基底层，所述上基底层与下基底层之间设置有铜箔层，所述下基底层和上基底层的两侧边设置有多个均匀分布的缺口，所述铜箔层的两侧边的上表面设置有多个上凸台，每个上凸台位于一上基底层的缺口中，且上凸台的上表面与上基底层的上表面齐平，所述铜箔层的两侧边的下表面设置有多个下凸台，每个下凸台位于一下基底层的缺口中，且下凸台的下表面与下基底层的下表面齐平；所述下基底层的下表面设置有绝缘胶层，所述上基底层的上表面设置有离型层铜箔的导热系数高，能够加快热量的传递，此外，通过设置上凸台和下凸台，下凸台用于吸收电子设备的热量，上凸台用于散失热量，能够加快电子设备的散热。
基底层下基底层上凸台下凸台下表面上表面铜箔层导热薄膜电子设备本实用新型上表面齐平导热系数绝缘胶层散失热量离型层散热齐平铜箔传递吸收

[发明专利]一种基底面型测量方法及测量装置-CN201610069182.7有效
发明人：韩春燕;李术新 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-01-29 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种基底面型测量方法及测量装置，该方法包括S1：上载基底到基底台上，通过基底台位置测量装置测量基底台的位置得到基底台位置值，开启调焦调平系统，将m×n的光斑矩阵入射到基底上，光斑矩阵的列距为d1，行距为d2，其中n≥3，m≥3；S2：在基底上规划扫描路径，移动基底台，使光斑矩阵沿着扫描路径相对基底台移动，并记录每次移动时光斑矩阵中每个子光斑测得的基底位置值，其中光斑矩阵在X方向上移动的步长为d1，在Y方向上移动的步长为d2；S3：整理步骤S2中子光斑测得的所有基底位置值，并根据基底位置值和基底台位置值，对基底位置值进行修正，最后根据修正后的基底位置值计算基底的面型。从而消除基底台高度和倾斜姿态引起的测量值改变。
一种基底测量方法测量装置

[实用新型]一种光纤光栅温度传感器-CN201120471830.4有效
发明人：田俊华;洪飞;徐进 -专利权人：武汉航空仪表有限责任公司
申请日： 2011-11-18 - 公布日： 2012-08-08 - 主分类号： G01K11/32 文献下载
摘要：传感器包括：低膨胀合金基底，不锈钢基底，光纤光栅，基底焊台，不锈钢基底焊台，低膨胀合金基底置于不锈钢基底的下方，两基底右端面对齐并固定在一起，基底焊台和不锈钢基底焊台的中心开V型槽，光纤光栅两端沿轴向分别放在基底焊台和不锈钢基底焊台中心的本实用新型以低热膨胀系数金属作为下基底，高热膨胀系数金属作为上基底，将光纤光栅置于两基底之间。本实用新型通过将热膨胀系数反差很大的两种基底进行有效的结构设计和有效构造，实现了光纤光栅对低温的测量，低温测量区间扩展到-100℃。并保证不低于30pm/℃的高灵敏度和高于0.03℃的分辨率。
一种光纤光栅温度传感器

[发明专利]光刻装置和定位装置-CN200610075205.1无效
发明人： M·H·M·比姆斯;J·萨凯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2006-04-19 - 公布日： 2006-11-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻装置，其包括保持基底的基底台，参考结构以及测量基底台相对参考结构的位置的测量系统。该测量系统包括用于测量基底台相对中间结构的位置的第一测量系统，和用于测量中间结构相对参考结构的位置的第二测量系统。该中间结构与驱动机构连接或可与驱动机构连接，以驱动基底台。基底台和中间结构之间的间距以及中间结构和参考结构之间的间距可以很小，从而获得高度精确的位置测量。
光刻装置定位

[实用新型]一种双面光刻的光刻系统-CN202120617640.2有效
发明人：张飞飞;李伟成;张雷 -专利权人：源能智创（江苏）半导体有限公司
申请日： 2021-03-26 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种双面光刻的光刻系统，所述光刻系统包括第一载台、第二载台、光刻机构和控制器，基底正面向上放置于所述第一载台，基底背面向上放置于所述第二载台，光刻机构对基底进行光刻操作，所述控制器控制所述第一载台、所述第二载台和所述光刻机构，所述第一载台设置有第一图像获取装置，基底放置于第一载台时，获取所述基底背面的第一图像，所述第二载台上方设置第二图像获取装置，所述第二图像获取装置依据所述第一图像在所述基底背面的位置获取第二图像。基于第一图像和第二图像实现基底正面和背面图形的对准，利用图像信息作为标志点信息，对位精度更高。
一种双面光刻系统

[发明专利]一种凸字型高通量高重复性基底结构-CN201811620766.4有效
发明人：杨良保;陈慧;董荣录 -专利权人：安徽中科赛飞尔科技有限公司
申请日： 2018-12-28 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： G01N21/65 文献下载
摘要：本发明公开了一种凸字型高通量高重复性基底结构，衬底顶部设有多个检测凹槽，每个检测凹槽底部设有凸台，凸台外壁与所述检测凹槽内壁之间间隔设置，凸台顶部设有隔断结构，隔断结构在凸台顶部形成多个彼此隔离布置的基底容纳位，每个基底容纳位上设有检测基底。通过上述优化设计的凸字型高通量高重复性基底结构，通过多个凹槽的设计，实现批量样品的高通量检测，并且通过凹槽配合凸台设计，便于滴加在检测基底上的过量液体样品可以流到凸台外周的间隙中，加快液体样品挥发，减少干燥时间，此外，凸台顶部设置多个隔离的检测基底，便于检测时同一样品在多个基底上进行检测，大大降低检测误差，提高检测结果的可靠性。
一种字型通量重复性基底结构

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