“图形模拟”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网_专利查询网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果562577个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]光学近距修正方法、光掩模版制作方法及图形化方法-CN200710042130.1有效
发明人：何大权 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-06-18 - 公布日： 2008-12-24 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：一种光学近距修正方法，包括：确定横向最大尺寸和纵向最大尺寸均未达到目标尺寸的晶圆图形；对上述晶圆图形的目标布局图形进行模拟，得到目标布局图形的模拟图形，所述目标布局图形的模拟图形横向最大尺寸和纵向最大尺寸中的一个尺寸与晶圆图形相同；将目标布局图形的模拟图形横向最大尺寸和纵向最大尺寸中与晶圆图形不相同的另一个尺寸进行相减，得到模拟偏差值；对修正布局图形进行模拟，直至与模拟偏差值方向对应的修正布局图形的模拟图形减去目标布局图形尺寸等于模拟偏差值本发明还提供光掩模版制作方法及图形化方法。最终形成的晶圆图形尺寸与目标尺寸的差值在±5nm以内。
光学近距修正方法模版制作方法图形

[发明专利]光学邻近修正方法-CN202011187204.2在审
发明人：顾婷婷;张浩;陈翰;宋康 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2020-10-30 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供了一种光学邻近修正方法，包括：将OPC图形导入OPC软件中，所述OPC图形中具有多个特定图形；选取所述OPC图形中的任一特定图形，对所述特定图形进行光学模拟，以得到模拟图形，将所述模拟图形与所述特定图形重叠，将所述特定图形的相邻的两边分别切割成n段，n≥3；选取n段中的一段或两段作为操作段，分别计算出每个所述操作段与所述模拟图形的最小距离；根据所述最小距离将对应的操作段移动一单位移动量，每移动一次进行一次光学模拟，以更新所述模拟图形，每次更新所述模拟图形之后，重新计算每个所述操作段与所述模拟图形的最小距离。本发明解决了现有技术中OPC图形的光学邻近修正受栅格切分影响导致OPC图形存在修正误差的问题。
光学邻近修正方法

[发明专利]商场铺位多媒体数字标识系统-CN200910238922.5无效
发明人：钟继雄 -专利权人：深圳市凯奥斯卡多媒体科技有限公司
申请日： 2009-12-29 - 公布日： 2010-07-14 - 主分类号： G09F19/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种商场铺位多媒体数字标识系统，包括采用模拟图形标识商场铺位的标识单元、构建商场铺位信息的数据构建单元、用于查询商场铺位信息的查询单元、将标识单元标识的模拟图形以及查询单元的查询结果进行显示的显示单元，所述标识单元包括图形生成模块和图形标识模块，所述图形生成模块模拟商场铺位生成模拟图形，所述图形标识模块将数据构建单元中构建的商场铺位信息与所述图形生成模块生成的模拟图形对应标识，所述查询单元对所述数据构建单元构建的商场铺位信息以及图形标识模块标识的模拟图形进行查询，所述显示单元将查询结果通过文字以及所述图形标识模块标识的模拟图形显示商场铺位。
商场铺位多媒体数字标识系统

[发明专利]肿瘤治疗仪的模拟布针系统及方法-CN201910721038.0有效
发明人：赖燊 -专利权人：深圳钮迈科技有限公司
申请日： 2019-08-06 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： A61B34/10 文献下载
摘要：本申请涉及一种肿瘤治疗仪的模拟布针系统及方法，其中，肿瘤治疗仪的模拟布针系统图形处理模块，以及连接图形处理模块的探针控制模块；图形处理模块根据获取到的肿瘤尺寸，获取相应的模拟肿瘤图形以及对应模拟肿瘤图形的图形类型，并向探针控制模块传输得到的对应模拟肿瘤图形的图形类型；探针控制模块根据图形类型，获取对应图形类型的探针数量和探针位置；并选取数量为探针数量的模拟探针组，依据探针位置依次布置在模拟肿瘤图形的相应位置。
肿瘤治疗模拟系统方法

[发明专利]叠加图形的校正方法及叠加图形的校正装置-CN201910271683.7有效
发明人：黄费慧 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2019-04-04 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： G06T5/00 文献下载
摘要：本揭示提供了叠加图形的校正方法及叠加图形的校正装置。所述叠加图形的校正方法包括通过量测系统模拟出多个叠加模拟图形，通过所述量测系统传送所述叠加模拟图形给主动图案校正系统，以及通过所述主动图案校正系统校正所述叠加模拟图形以产生叠加校正图形，能够实现实时优化叠加图形
叠加图形校正方法装置

[发明专利]掩模条材料属性的获取方法、装置和掩模板的制作方法-CN201910372790.9有效
发明人：邓江涛;杨晓宇;嵇凤丽;徐鹏 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-05-06 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： G06F30/00 文献下载
摘要：一种掩模条材料属性的获取方法，包括：根据掩模条模型，制作一模拟图形，模拟图形与掩模条模型上的重复单元的形状、尺寸均相同；其中，重复单元包括至少一个蒸镀孔；根据模拟图形，构建等效图形，等效图形的形状为长方体；长方体的长、宽和高与模拟图形的长、宽和高分别相等；设定多组测试参数，每组测试参数均包括模拟图形的所有表面的位移约束值；根据每组测试参数，提取模拟图形表面上的反力；根据模拟图形表面上的反力以及对应的等效图形表面的面积，计算得到模拟图形的材料属性。
掩模条材料属性获取方法装置模板制作方法

[发明专利]一种用户校验的方法及装置-CN202211107048.3在审
发明人：吴庆双;周效军;李琳 -专利权人：咪咕文化科技有限公司;中国移动通信集团有限公司
申请日： 2022-09-11 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： G06F21/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种用户校验的方法及装置、计算设备及计算机存储介质，其中一种用户校验的方法包括如下步骤：检测验证页面的访问操作，发送加载验证图形的请求；接收验证图形，在所述验证页面展示验证图形和模拟验证区；检测用户在所述模拟验证区内输入的模拟图形，提交所述模拟图形的特征点数据，以供根据所述模拟图形的特征点数据和验证图形的特征点数据计算模拟图形和验证图形的重叠度，并根据所述重叠度得到校验结果。本发明的验证样式新颖，操作简便；本发明的验证图形样式多样，难以被机器破解，从而可以提高验证的安全性；本发明根据验证图形和模拟图形的重叠度即可得到校验结果，具有判定简单有效的优点。
一种用户校验方法装置

[发明专利]控制设备现场模拟图形处理系统及方法-CN201410736985.4在审
发明人：肖伟 -专利权人：深圳市汇川控制技术有限公司
申请日： 2014-12-05 - 公布日： 2015-04-22 - 主分类号： G06T1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种控制设备现场模拟图形处理系统及方法，所述系统包括滚动条计算单元、位置判断单元以及图形载入单元，其中：所述滚动条计算单元，用于计算图形显示窗口的水平滚动条的位置、垂直滚动条的位置、所述图形显示窗口的高度和宽度；所述位置判断单元，用于根据所述水平滚动条的位置、垂直滚动条的位置、图形显示窗口的高度和宽度，判断所述现场模拟图形是否位于图形显示窗口中；所述图形载入单元，用于在确认所述现场模拟图形位于图形显示窗口中时，将所述现场模拟图形载入到所述图形显示窗口中显示。本发明根据滚动条位置判断现场模拟图形是否位于图形显示窗口，并根据判断结果载入现场模拟图形，从而减少了内存的使用。
控制设备现场模拟图形处理系统方法

[发明专利]目标版图的修正方法及掩膜版版图的形成方法-CN202010023431.5在审
发明人：王健;张迎春 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2020-01-09 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：一种目标版图的修正方法、掩膜版版图的形成方法及其掩膜版，修正方法包括：提供初始目标版图，所述初始目标版图包括若干初始图形；对所述初始目标版图进行模拟曝光获取模拟曝光版图，所述模拟曝光版图上具有若干与初始图形对应的模拟曝光图形，所述模拟曝光版图包括沿第一方向排列的若干修正区；在至少一个所述修正区的模拟曝光图形中获取目标图形；获取所述目标图形对应的修正区的修正规则；通过所述修正规则对所述目标图形进行修正，获取修正图形。
目标版图修正方法掩膜版形成

[发明专利]OPC模型及其建立方法和系统、OPC方法、设备及存储介质-CN202111562568.9在审
发明人：杜杳隽 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2021-12-20 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种OPC模型及其建立方法和系统、OPC方法、设备及存储介质，建立方法包括：提供测试图形；根据测试图形获得测试光罩；对测试光罩进行实际曝光，获得实际曝光图形；利用初始光学邻近修正模型对测试图形进行模拟曝光，获得模拟曝光图形，模拟曝光包括：对测试图形上的测试点和多个周围点的光强相关分布进行平滑化处理，且对周围点分别配置在平滑化处理中所占的权重；根据实际曝光图形和模拟曝光图形，确定实际曝光图形和模拟曝光图形的误差
opc 模型及其建立方法系统设备存储介质

[发明专利]光学邻近效应修正方法及相应的掩膜图形形成方法-CN201110456959.2有效
发明人：万金垠;王谨恒;张雷;陈洁 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2011-12-31 - 公布日： 2013-07-03 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供一种光学邻近效应修正方法，包括模拟预期光刻图形，获得所模拟形成的光刻图形与预期光刻图形的差，依据所述差调整所述预期光刻图形，依据所述差对预期光刻图形进行调整包括根据模拟形成的光刻图形与预期光刻图形的差与调整因子之间的预设关系，获得与所模拟形成的光刻图形与预期光刻图形的差相对应的调整因子，由所述差与所述调整因子相乘获得所述预期光刻图形的调整量，以及根据该调整量调整所述预期光刻图形。依据该方法可避免预期光刻图形在形成硅片表面的光刻图形后产生偏差。
光学邻近效应修正方法相应图形形成

[发明专利]一种基于Qt的单片机图形界面模拟系统及方法-CN201910836891.7在审
发明人：高陈亮;褚立;金星 -专利权人：浙江中科领航汽车电子有限公司
申请日： 2019-09-05 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： G06F8/76 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于Qt的单片机图形界面模拟系统及方法。本发明涉及的一种基于Qt的单片机图形界面模拟方法，包括，S11.接收基于Qt框架模拟单片机的图形界面信息；S12.对所述接收到的图形界面信息进行测试；S13.若测试结果无误，则将模拟的图形界面信息移植到单片机硬件中本发明通过模拟平台可以模拟单片机显示图形界面，且将写好的代码替换到单片机工程中完成移植，大大提升了单片机图形界面发开的效率。
图形界面单片机模拟单片机单片机硬件代码替换模拟平台模拟系统显示图形信息移植测试移植

[发明专利]模拟电路图形评估方法、半导体集成电路的制造方法、测试衬底以及测试衬底组-CN200410074199.9无效
发明人：金子尚史;冈崎元哉;户岛宏至 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2004-09-01 - 公布日： 2005-04-06 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：根据本发明的一个方案，提供一种模拟电路图形评估方法，该方法包括：以各自状态在各自的几何结构限定参数中出现相同次数的方式，通过结合多个各自具有至少两个状态的几何结构限定参数，来设计模拟半导体集成电路的电路图形的模拟电路图形集合体；在衬底上形成模拟电路图形集合体；以及评估形成的模拟电路图形集合体。
模拟电路图形评估方法半导体集成电路制造测试衬底以及

[发明专利]光学临近效应校正方法及系统-CN201611006000.8有效
发明人：万金垠;王谨恒;张雷;陈洁 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2016-11-15 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：所述方法包括：对光刻的设计图形进行分类；对各类别的图形进行区域划分，按区域对产品造成负面影响的风险相应赋予权重；将一设计图形作为待校正图形并在图形边缘设置多个目标点；根据OPC模型得到待校正图形的OPC修正图形并进行模拟，得到图形模拟结果；计算各目标点的位置处图形模拟结果与待校正图形之间的差异；根据差异和权重对OPC修正图形进行调整，并再次进行模拟得到调整后的图形模拟结果；反复执行以上两步骤，得到最终的OPC修正图形。本发明对图形上的不同目标点引入权重概念，当不同区域的修正需求产生冲突时，优先满足高权重目标点的修正需求，从而能够提高元器件的良率。
光学临近效应校正方法系统

[发明专利]辅助图形的形成方法-CN201610006509.6在审
发明人：杨青 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2016-01-06 - 公布日： 2017-07-14 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种辅助图形的形成方法，包括提供待刻蚀图形，包括若干主图形；根据待刻蚀图形内的主图形的分布密度，在待刻蚀图形内设置初始辅助图形；根据待进行的光刻工艺的参数信息，建立光学模型；通过光学模型进行光学模拟，获得光刻过程中透过所述初始辅助图形到达光刻胶时的模拟光强值；若模拟光强值的最大值小于曝光临界值，则完成辅助图形的设置；若模拟光强值的最大值大于或等于曝光临界值，则减小所述初始辅助图形的宽度，直至获得的模拟光强值小于曝光临界值，完成辅助图形的设置。上述方法不需要再对设置好的辅助图形进行芯片验证，从而可以节约芯片验证时间，并且可以确保所述辅助图形在实际光刻过程中，不会出现在光刻胶上。
辅助图形形成方法

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top