专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]具有图形化编程的机床数控装置-CN200520092670.7无效
  • 叶华;徐宗华;李洪波 - 大连大森数控技术发展中心有限公司
  • 2005-09-22 - 2006-12-20 - G05B19/18
  • 一种具有图形化编程的机床数控装置,主要包括中央处理器、与其连接的传感器、计数器、转换器、存储器、显示器以及图形处理控制器,图形处理控制器与相应配置的存储器相连接。本实用新型的特点是:具有已有机床数控系统功能的同时,还能通过简单的操作直接对常用形状工件进行加工,不再需要编制加工程序,操作简单,方便加工,降低了对操作人员的要求,在小批量和单件加工时,仍能显示出数控机床的优势,使机床数控装置既适合批量加工,又适合对单个工件加工,提高了对小批量或单个工件加工的效率。
  • 具有图形编程机床数控装置
  • [发明专利]一种新型高速数字扫描直写光刻装置-CN201410190903.0有效
  • 李平贵;张国龙;马迪 - 苏州微影光电科技有限公司
  • 2014-05-08 - 2014-08-27 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种高速数字扫描直写光刻装置,包括光源,光学照明系统,可编程图形发生器,投影光学系统,高速精密移动平台等五部分。曝光光束从光源发出,进入光学照明系统,准直成平行均匀的面光源投影至可编程图形发生器,而此时可编程图形发生器上的图形信息伴随光线进入投影光学系统,曝光光线穿过投影光学系统,最后投影成像在高速精密移动平台的基底上本发明可以省去掩膜版或菲林版的加工工序,并能数十倍的提升可编辑图形发生器的刷新频率,从而提高产品的加工速率,改善了产品加工的良率。制作工艺简单,降低了产品的生产成本。
  • 一种新型高速数字扫描光刻装置
  • [实用新型]一种新型高速数字扫描直写光刻装置-CN201420232691.3有效
  • 李平贵;张国龙;马迪 - 苏州微影光电科技有限公司
  • 2014-05-08 - 2014-09-10 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种高速数字扫描直写光刻装置,包括光源,光学照明系统,可编程图形发生器,投影光学系统,高速精密移动平台等五部分。曝光光束从光源发出,进入光学照明系统,准直成平行均匀的面光源投影至可编程图形发生器,而此时可编程图形发生器上的图形信息伴随光线进入投影光学系统,曝光光线穿过投影光学系统,最后投影成像在高速精密移动平台的基底上本实用新型可以省去掩膜版或菲林版的加工工序,并能数十倍的提升可编辑图形发生器的刷新频率,从而提高产品的加工速率,改善了产品加工的良率。制作工艺简单,降低了产品的生产成本。
  • 一种新型高速数字扫描光刻装置
  • [发明专利]一种微波薄膜电路的刻蚀方法-CN201310251866.5有效
  • 王进;马子腾;刘金现 - 中国电子科技集团公司第四十一研究所
  • 2013-06-21 - 2013-10-09 - H01L21/48
  • 本发明提出了一种微波薄膜电路的刻蚀方法,包括以下步骤:步骤(a),提供一种介质基片;步骤(b),采用真空溅射镀膜的方法在所述介质基片上形成一层复合金属膜层;步骤(c),采用光刻的方法在所述介质基片上附着上一层光刻胶,并去除电路图形部分的光刻胶,保留非电路图形部分的光刻胶;步骤(d),对具有光刻胶保护的所述介质基片进行电镀,使电路图形部分的镀膜金属层加厚到需要的厚度;步骤(e),对电镀后的介质基片进行电镀金属掩膜加工,在电镀加厚的电路图形部分再电镀形成一层金属掩膜;步骤(f),电镀加工完成后,去除光刻胶,并去除非电路图形部分的金属层,形成电路图形;步骤(g),去除电路图形附着的金属掩膜。
  • 一种微波薄膜电路刻蚀方法
  • [发明专利]一种可图形化纳米多孔铜的制备方法-CN201210258430.4有效
  • 汪红;岳恒;杨卓青;丁桂甫 - 上海交通大学
  • 2012-07-24 - 2012-11-07 - C25D5/02
  • 本发明公开一种可图形化纳米多孔铜的制备方法,包括步骤:(1)玻璃片上,溅射Cr-Cu种子层,依次进行甩正性光刻胶、烘胶、曝光、显影处理,实现纳米多孔铜光刻胶结构的图形化;(2)采用电沉积技术进行铜应力缓冲层、Cu-Zn合金层的沉积,获得图形化的前驱合金薄膜;(3)将图形化的Cu-Zn前驱合金薄膜在酸性溶液中进行去合金化处理,然后再去正胶,最终实现可图形化的纳米多孔铜,得到纳米多孔铜阵列。本发明能够与微加工工艺兼容,具体利用光刻图形化技术、铜锌合金共沉积技术以及去合金化技术获得各种图形的纳米多孔铜阵列,该工艺方法简单、成本低、易于控制且与微加工工艺兼容性好。
  • 一种图形纳米多孔制备方法
  • [发明专利]一种增大输送带摩擦力的制备方法-CN202011046635.7在审
  • 祁辰;梁怀南;关妙;李正楠;赵建飞;宁泽 - 太原科技大学
  • 2020-11-02 - 2021-01-01 - B65G15/42
  • 本发明公开了一种增大输送带摩擦力的制备方法,该方法通过利用激光加工的方式,实现了在输送带表面进行各种形貌凸起的制备。由于输送带材质问题,此加工方法最好选取厚度较厚的输送带,在采用激光加工时,由于激光温度较高,应选取低功率的加工方式来进行各种形貌凸起的制备。该技术中的激光机不仅可以实现毫米级图形的制备,还可以实现微米级图形的制备。相比其他加工工艺,激光加工可以实现各种复杂图形凸起的制备,加工效率高,成本低。而且采用这种加工方式加工的凸起输送带具有很大的摩擦力,能够更好地将货物牢牢的卡死在输送带上,大大提高了生产效率,减少了劳动力。
  • 一种增大输送带摩擦力制备方法
  • [发明专利]离心压缩机端盖槽体的加工方法及装置-CN201710530475.5有效
  • 孙尧;毕海波;魏国家 - 沈阳透平机械股份有限公司
  • 2017-07-03 - 2019-02-22 - B23B41/00
  • 本发明公开了一种离心压缩机端盖槽体加工方法及装置,涉及机械加工技术领域,可以成功实现离心压缩机端盖下线槽以及卡板槽的加工。所述方法包括:当接收到所述离心压缩机端盖槽体的加工指令时,获取所述端盖槽体对应的绘图交换文件并进行解析,得到所述槽体加工对应刀具加工轨迹的实体图形信息;根据输入的镗床刀具中心与端盖中分面之间的角度,以及所述端盖槽体的加工深度,对所述实体图形信息进行修正;将修正后的实体图形信息转化为镗床可识别的机床数控代码,以便所述镗床通过执行所述机床数控代码,所述镗床刀具中心与所述端盖中分面呈一定角度,对所述离心压缩机端盖槽体进行加工。本发明适用于离心压缩机端盖槽体的加工
  • 离心压缩机端盖槽体加工方法装置
  • [发明专利]电化学-激光掩模聚焦微刻蚀加工方法及装置-CN200810019759.9有效
  • 张朝阳;张永康;鲁金忠 - 江苏大学
  • 2008-03-14 - 2008-08-27 - B23H7/38
  • 本发明涉及一种电化学-激光掩模聚焦微刻蚀加工方法及装置,属于制造技术的微细加工领域。具体为:激光器发出的激光束经光束调制器的均匀化调制和扩束处理后通过有雕空图形的掩模板,再利用成像聚焦镜使掩模板上的图形微缩,并透过工件上方的导电玻璃成像在工件表面。导电玻璃与工件之间有钝化性电解液,电化学加工电源的正极接工件,电源负极接导电玻璃。加工过程中,高能量密度的激光束在电解液和工件之间产生冲击作用破坏工件表面加工区域的钝化膜,利用电化学反应去除钝化膜下的材料,实现微细结构的刻蚀加工。本发明能够有效地提高复杂图形加工效率以及加工的微细程度和加工精度。
  • 电化学激光聚焦刻蚀加工方法装置

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