专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种光子3D打印光敏组合物-CN202211468312.6在审
  • 门丽君;王克敏;任冬妮;章文俊 - 明澈生物科技(苏州)有限公司;上海大学
  • 2022-11-22 - 2023-03-31 - C08F222/20
  • 本发明提供一种光子3D打印光敏树脂组合物,涉及光子3D打印技术领域,按照重量份数计,包括如下组分:含羟基基团的光固化树脂预物5‑20份;UV丙烯酸酯单体35‑50份;长亲水性交联单体33‑67份本发明提供的光子3D打印光敏树脂组合物,通过含羟基基团的光固化树脂预物、UV丙烯酸酯单体以及长亲水性交联单体的协同作用,在光引发剂的引发下,能够迅速固化,在保证光子3D打印成型的同时,有助于提高打印产品的柔韧性,从而解决了现有技术中适用于光子3D打印的光敏材料难以兼顾成型性和柔韧性的问题。
  • 一种光子打印光敏组合
  • [发明专利]一种天冬氨酸缓蚀剂及其制备方法-CN202011112609.X在审
  • 李艳艳 - 李艳艳
  • 2020-10-16 - 2021-02-19 - C23G1/06
  • 本发明公开了一种天冬氨酸缓蚀剂及其制备方法,为基含咪唑环和长烷烃的天冬氨酸衍生物,包括琥珀酰亚胺在溶剂中与烷胺化合物和2‑氨基咪唑反应,最后调节pH至8~10水解剩余的二酰亚胺基团,所述烷胺化合物为C6~C18的烷烃化合物;本发明制备的天冬氨酸缓蚀剂具有亲水主和疏水,亲水主以及短基咪唑通过亲疏水作用或配位作用在金属表面稳定的附着成膜,隔离腐蚀因子与金属直接接触;疏水介入水介质,排斥腐蚀因子,起第二道防护作用;本发明天冬氨酸缓蚀剂制备原料来源广泛,工艺过程简单、环保,适合工业化生产。
  • 一种天冬氨酸缓蚀剂及其制备方法
  • [发明专利]新型磺化芳醚酮砜质子交换膜及其制备方法-CN201710854242.0在审
  • 王哲;刘畅;徐晶美;王旭 - 长春工业大学
  • 2017-09-20 - 2018-02-23 - C08G75/23
  • 本发明提供一种新型磺化芳醚酮砜质子交换膜及其制备方法,属于高分子化学和质子交换膜燃料电池领域。该质子交换膜具有式Ⅰ所示结构,该质子交换膜将氨基、磺酸基、酮键、砜键和醚键成功引入同一分子,并在含氨基的聚合物主上接上了柔软的磺烷基,得到均匀透明无缺陷的膜材料。本发明还提供一种新型磺化芳醚酮砜质子交换膜的制备方法。本发明的新型磺化芳醚酮砜质子交换膜在80℃时的质子传导率为0.076S/cm~0.968S/cm,吸水率为11.5‑15.7%,而溶胀率仅为5.32‑8.55%,该新型磺化芳醚酮砜质子交换膜厚度为
  • 新型磺化聚芳醚酮砜质子交换及其制备方法

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