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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]半色调型相移掩膜坯料、半色调型相移掩膜及其制造方法-CN200610094622.0无效
发明人：盐田勇树;野泽顺;大久保亮;三井英明 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2002-06-04 - 公布日： 2007-03-07 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种半色调型相移掩膜坯料，是用于制造以下这种半色调型相移掩膜，即，所述半色调型相移掩膜在透明基板上具有透过曝光光的透光部、和在透过一部分曝光光的同时将透过光的相位以给定量位移的相移部，并且该半色调型相移掩膜具有在所述透光部和相移部边界部附近透过各处的光能够相互抵消的光学特性
色调相移坯料及其制造方法

[发明专利]使用X－标记保持图像平滑度和锐度的自适应半色调方案-CN200410054550.8无效
发明人：黄锦成;A·K·布哈塔查亚 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2004-07-23 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： H04N1/405 文献下载
摘要：一种自适应半色调方案被应用于复合文档，以便在保持边缘锐度的同时平滑再现。所述自适应半色调方案涉及将文档区域识别为平滑、边缘或者纹理。然后按如下处理每一个识别出的区域。在平滑区域与边缘区域相邻的任何地方以及在平滑区域与纹理区域相邻的任何地方，在所述平滑区域与所述其他区域接界的部分中创建过渡区域，并且将挂网半色调技术(SCN)和使用挂网半色调技术的误差扩散(EDSCN)
使用标记保持图像平滑自适应色调方案

[发明专利]打印系统中的图象处理-CN03814857.9有效
发明人： L·阿韦略 -专利权人：惠普公司
申请日： 2003-04-28 - 公布日： 2005-08-31 - 主分类号： H04N1/401 文献下载
摘要：页宽阵列喷墨打印机把阵列内各打印头的处理任务分配给几个单独的半色调处理器。每一个半色调处理器处理与图象的一个窄条相关的信息，窄条之间的边界与打印介质步进方向平行。所得半色调数据从每一个半色调处理器提供给一个或多个唯一相关的打印控制器，而这些控制器为通过专用的通信信道连接到打印组件控制器的打印组件(亦即，喷墨打印头)产生打印指令。
打印系统中的图象处理

[发明专利]半色调型相移掩膜坯料、半色调型相移掩膜及其制造方法-CN02823609.2有效
发明人：盐田勇树;野泽顺;大久保亮;三井英明 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2002-06-04 - 公布日： 2005-03-16 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：一种半色调型相移掩膜坯料，该半色调型相移掩膜坯料用于制造以下这种半色调型相移掩膜，即，在透明基板上具有透过曝光光的透光部和、在透过一部分曝光光的同时将透过光的相位以给定量位移的相移部、和用于形成所述相移部的相移膜，其中，该半色调型相移掩膜具有在所述透光部和相移部边界部附近透过各处的光能够相互抵消的光学特性，能够良好地保持并改善转移到被曝光体表面的曝光图案边界部的对比度，相移膜是由主要构成要素为硅、氧、及氮的膜，
色调相移坯料及其制造方法

[发明专利]多调光掩模及其修正方法-CN200910149587.1无效
发明人：加藤和男;三宅充纮;美作昌宏 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2009-07-06 - 公布日： 2010-02-24 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明涉及多调光掩模及其修正方法。在多调光掩模的修正工序中，在必要的范围防止形成修正半透膜时可能发生的透过率的异常部的产生。本发明的多调光掩模(10)是在透明基板上设有透光部、遮光部、半透光部。其中，半透光部由半透膜图形(4a)形成。该半透膜包含利用激光熔断形成的厚膜部，并且在所述厚膜部设有透过率调节区域。
调光及其修正方法

[发明专利]半色调掩膜版、阵列基板及其制作方法、显示装置-CN201410104455.8在审
发明人：李田生;谢振宇 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2014-03-20 - 公布日： 2014-07-09 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种半色调掩膜版、阵列基板及其制作方法、以及显示装置，用以解决在采用干法刻蚀方式蚀刻掉半色调掩膜版的半透光区域的金属层时，由于刻蚀的均一性比较差，使得制作出的TFT性能比较差本发明实施例提供一种半色调掩膜版，用于阵列基板包含的有源层图案、以及位于有源层图案上方的源极图案、漏极图案和数据线图案的制作，其中：阵列基板的表面包含源极图案、漏极图案和数据线图案对应的A区域，有源层图案在源极图案和漏极图案之间的区域对应的B区域，以及除A区域和B区域以外的C区域；半色调掩膜版的半透光区域对应所述C区域中的部分区域和B区域。
色调掩膜版阵列及其制作方法显示装置

[发明专利]光掩模组及其制造方法、光掩模及显示装置的制造方法-CN201610097419.2有效
发明人：山口昇 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2016-02-23 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供光掩模、光掩模组、光掩模及显示装置的制造方法，即使是更细微化、集成度更高的显示装置，也能够以良好的成品率稳定地进行生产。一种具有转印用图案的光掩模，该转印用图案是对形成在透明基板上的半透光膜和遮光膜分别进行构图而得到的，其特征在于，所述转印用图案包含透光部、遮光部、半透光部以及半透光缘部，所述透光部与宽度为W(μm)的所述半透光缘部相邻，所述半透光缘部与所述遮光部相邻，并且0＜W≦0.3。
光掩模模组显示装置制造方法

[发明专利]半色调掩膜板、显示基板的制作方法及显示基板-CN202110692445.0在审
发明人：余雪;徐姗姗;李梁梁;邱文彪;林滨;付婉霞;席文星 -专利权人：福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-06-22 - 公布日： 2021-09-21 - 主分类号： G03F1/40 文献下载
摘要：本发明提供一种半色调掩膜板，所述半色调掩膜板包括金属遮光图形，所述金属遮光图形包括多个图形部，所述金属遮光图形还包括静电释放导线，至少一对相邻的图形部之间连接有所述静电释放导线，对于至少一对被所述静电释放导线电连接的图形部而言通过半色调掩膜板上的缺口结构，能够降低半色调掩膜板本身的ESD风险，且能改善曝光后显示基板金属图形上的毛刺影响，也降低了多层搭接场景由于毛刺引起的ESD风险。本发明还提供一种使用所述半色调掩膜板的显示基板的制作方法及一种由所述方法制得的显示基板。
色调掩膜板显示制作方法

[发明专利]掩模板及应用其制造薄膜晶体管阵列基板的方法-CN201110024105.7有效
发明人：惠官宝;崔承镇;张锋;薛建设 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2011-01-21 - 公布日： 2017-02-01 - 主分类号： G03F1/76 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模板及应用其制造薄膜晶体管阵列基板的方法，涉及半导体领域的掩模技术，解决了使用现有双色调掩模板的光刻工艺中，光刻胶上各图案区之间，高浓度显影液向低浓度显影液扩散的问题。本发明通过在掩模板上的两个图案区间设置冗余图案，并用该掩模板对光刻胶曝光，使得在显影过程中，光刻胶上形成的对应于掩模板冗余图案的光刻胶冗余图案，该光刻胶冗余图案可阻挡高浓度显影液向低浓度显影液扩散，从而提高了产品良率
模板应用制造薄膜晶体管阵列方法

[发明专利]图像形成装置、其控制方法、抖动矩阵及其生成方法-CN201810796883.X在审
发明人：手塚太贵 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2018-07-19 - 公布日： 2019-01-29 - 主分类号： H04N1/405 文献下载
摘要：根据本发明的抖动矩阵中的阈值被布置成使得在对具有第一浓度的多色调图像执行网屏处理的情况下，以第一网屏角度形成半色调点，并且在对浓度比高于第一浓度的第二浓度高的多色调图像执行网屏处理的情况下，以不同于第一网屏角度的第二网屏角度形成半色调点
抖动矩阵网屏图像形成装置多色调图像半色调点网屏处理浓度比

[发明专利]具有多重半透过部分的半色调掩膜及其制造方法-CN201080022197.9有效
发明人：洪镇澔;金钟善;徐栽镕;徐忠源 -专利权人： LG伊诺特有限公司
申请日： 2010-05-20 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供一种半色调掩膜，其中，具有至少一个或更多个半透过部分的所述半透过掩膜能够通过调节形成所述半透过部分的精细图案的图案密度来调节透射率，由此可以调节精细图案的图案密度，以提高形成有狭缝式半透过部分、堆叠式半透过部分或其结合的半色调掩膜中的透射率的调节效率，并且通过不依靠单独的制造过程而调节图案密度，可以准确地控制半透过区域的透射率。
具有多重透过部分色调及其制造方法

[发明专利]用于修改图像放大比例和缩小比例的装置和方法-CN97117559.4无效
发明人：权五俊 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 1997-09-01 - 公布日： 2003-01-01 - 主分类号： H04N1/393 文献下载
摘要：用于修改图像放大比例和缩小比例的装置和方法，用于缩小任一图像和传送缩小图像给打印机的图像缩小装置包括一个控制器，用于产生构成一个图像的像素和行的位置信息；一个扫描器，用于接收一个文件图像和根据所述的位置信息产生半色调图像数据；和一个图像处理器，用于接收所述的位置信息，确定从所述扫描器传送的半色调数据是否应该提供给所述打印机，和根据确定的结果放弃所述的半色调数据或传送所述的半色调数据给打印机。
用于修改图像放大比例缩小装置方法

[实用新型]一种掩模组件-CN201320508678.1有效
发明人：魏志凌;高小平;张炜平 -专利权人：昆山允升吉光电科技有限公司
申请日： 2013-08-20 - 公布日： 2014-02-26 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩模组件，包括掩模板、外框、辅焊元件，其特征在于：所述掩模板上设有掩模图案和半刻区；所述辅焊元件置于所述半刻区内，所述辅焊元件形状为多边形、圆形、椭圆形或由曲线围成的曲边形；所述掩模板和所述辅焊元件通过激光焊接固定于所述外框上采用本实用新型所设计的掩模组件，当掩模板与外框为不同的金属材质时，通过辅焊元件，可以将掩模板很牢固地焊接到外框上。
一种模组

[发明专利]制作薄膜晶体管阵列基板的方法、阵列基板和显示装置-CN201210530381.5有效
发明人：张学辉;薛建设;刘翔 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2012-12-10 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：利用灰色调或者半灰调掩模板技术，在薄膜晶体管阵列基板的制作过程中，通过三次构图工艺制作完成有机薄膜晶体管阵列基板，用到的掩模板数量少，生产效率高且生产成本低。
制作薄膜晶体管阵列方法显示装置

[发明专利]液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置-CN200780003557.9有效
发明人：井上威一郎;箱井博之;寺下慎一;宫地弘一 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2007-01-25 - 公布日： 2009-03-18 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：设置在所述基板间的液晶层、和设置在至少一个基板的液晶层侧的表面的取向膜，并且在像素内具有取向方位不同的两个以上的区域的液晶显示装置的制造方法，其中，所述制造方法包括将基板面内分割为两个以上的曝光区域，在每个曝光区域中通过光掩模进行取向膜的曝光的曝光工序，所述曝光工序以相邻的曝光区域的一部分重复的方式进行曝光，所述光掩模具有与重复的曝光区域对应的半色调部。
液晶显示装置制造方法

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